大氣等離子體清洗機(jī)引入氣體的主要目的是活化和增強(qiáng)穿透性。真空等離子清洗機(jī)引入氣體的目的是增強(qiáng)蝕刻效果，薄膜電暈處理機(jī)有都沒(méi)去除污染物，去除有機(jī)物，增強(qiáng)穿透性。顯然，氣體的選擇范圍更廣，真空等離子清洗機(jī)的工藝將得到更廣泛的應(yīng)用。三、離子產(chǎn)生條件可以直觀地看出，常壓等離子體清洗機(jī)依賴于接入氣體，氣體壓力要達(dá)到0.2mpa左右才能產(chǎn)生離子。真空等離子清洗機(jī)依靠真空泵。

還有的情況是，薄膜電暈處理機(jī)有都沒(méi)當(dāng)自由基與物體表面的分子結(jié)合時(shí)，大量的結(jié)合能被釋放回來(lái)，這些結(jié)合能又成為引發(fā)新的表面反應(yīng)的動(dòng)力，從而引發(fā)物體表面物質(zhì)的化學(xué)反應(yīng)而被清除。C.電子與物體表面的相互作用對(duì)物體表面的撞擊一方面可以促進(jìn)吸附在物體表面的氣體分子分解或吸附；另一方面，大量的電子撞擊有利于引發(fā)化學(xué)反應(yīng)。由于電子質(zhì)量極小，比離子的運(yùn)動(dòng)快多了。

在射頻等離子體滲氮中，薄膜電暈處理機(jī)有都沒(méi)等離子體產(chǎn)生和襯底偏壓是分開(kāi)控制的，因此可以分別控制離子能量和襯底表面通量。由于工作壓力相對(duì)較低，消耗的氣體量也相應(yīng)減少（低）。在滲氮過(guò)程中，低能直流輝光放電可產(chǎn)生NH原子，這些高活性原子可用于滲氮。整個(gè)過(guò)程需要外接電源對(duì)工件進(jìn)行加熱，與氣體滲氮工藝類似。這類工業(yè)不僅可以精確控制表面拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)，選擇是否形成復(fù)合層，還可以在不改變表面結(jié)構(gòu)特征的情況下控制復(fù)合層厚度和擴(kuò)散層深度。

等離子體是一種部分電離的中性氣體，薄膜電暈處理機(jī)有都沒(méi)其中自由電子和中性分子原子碰撞，通過(guò)碰撞電離，得到更多的電子和離子?；陔娮拥哪芰浚梢缘玫礁S富的離子和激發(fā)態(tài)高能中性粒子，由于電子吸附在中性氣體表面，也可以得到負(fù)離子。由于每種氣體在原子分子物理中都有自己的能級(jí)結(jié)構(gòu)，高能電子可以將氣體激發(fā)到不同的能級(jí)。當(dāng)氣體分子和原子從高能級(jí)回移到低能級(jí)時(shí)，會(huì)輻射出不同能量的光子，這些光子代表著不同的波長(zhǎng)。。

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但從環(huán)境影響、原料消耗和未來(lái)發(fā)展來(lái)看，干洗明顯優(yōu)于濕洗。等離子清洗發(fā)展迅速，在干洗方面優(yōu)勢(shì)明顯。等離子體清洗逐漸廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、微電子封裝、精密機(jī)械等行業(yè)。2.等離子體清洗機(jī)的機(jī)理等離子體是一種部分電離的氣體，是固體、液體和氣體之外的第四種物質(zhì)狀態(tài)。等離子體由電子、離子、自由基、光子和其他中性粒子組成。由于等離子體中電子、離子、自由基等活性離子的存在，容易與固體表面發(fā)生反應(yīng)。

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