可以通過調(diào)整基材的配方或表面處理來調(diào)整溶液和基材的表面張力。兩種表面張力測量也應(yīng)作為質(zhì)量控制測試項(xiàng)目。這是因?yàn)殄兡すに噷牡谋砻鎻埩τ懈叩囊螅入x子體在半導(dǎo)體方面的應(yīng)用等離子清洗可以有效解決這個(gè)問題。鋁箔的金屬表面常含有(有機(jī))物質(zhì),如油脂、油漬和氧化層。在濺射、涂漆、膠合、焊接、釬焊、PVD 和 CVD 涂層之前,必須對其進(jìn)行清潔,以制成(全部)清潔、無氧化物的表面。

等離子體去膠和丙酮去膠

等離子體的作用機(jī)制不同。超聲波等離子體產(chǎn)生的反應(yīng)是物理反應(yīng),等離子體在半導(dǎo)體方面的應(yīng)用高頻等離子體產(chǎn)生的反應(yīng)既是物理反應(yīng)又是化學(xué)反應(yīng),微波等離子體產(chǎn)生的反應(yīng)是化學(xué)反應(yīng)。但由于40KHz是早期技術(shù),射頻匹配后的能耗太高,實(shí)際作用于待清潔物體的能量還不到原始能量的1/3。因此,13.56MHz射頻等離子清洗主要用于實(shí)際應(yīng)用。這個(gè)頻率也是世界上最受歡迎和最昂貴的頻率。

兆赫茲或 20 兆赫茲。等離子清洗。 40KHz等離子在能量轉(zhuǎn)換方面優(yōu)于13.56MHz。前者將更多的能量轉(zhuǎn)化為粒子的動能和化學(xué)活性,等離子體去膠和丙酮去膠后者在等離子體處理過程中產(chǎn)生更多的熱量。換言之,大量的能量轉(zhuǎn)化為熱能。顆粒的動能和化學(xué)活性降低。如果治療效果不足,則需要添加特殊氣體或延長治療時(shí)間。我們的設(shè)備在空氣處理中往往能達(dá)到許多其他同類設(shè)備無法達(dá)到的效果。

13.56MHz 等離子體的電場頻率振蕩較高,等離子體在半導(dǎo)體方面的應(yīng)用電子在轉(zhuǎn)向前的行進(jìn)距離比 40KHz 射頻等離子體短。這意味著在每個(gè)運(yùn)動周期中可以到達(dá)設(shè)備表面的粒子更少。結(jié)果,表面不易受到顆粒的影響,降低了清潔的效率和有效性,并直接影響產(chǎn)品質(zhì)量和產(chǎn)量。 40KHz射頻等離子體是半導(dǎo)體、微電子、醫(yī)學(xué)和一般工業(yè)等廣泛領(lǐng)域中使用最廣泛、用途最廣泛的等離子體技術(shù)。

等離子體去膠和丙酮去膠

等離子體去膠和丙酮去膠

在一般工業(yè)、半導(dǎo)體、微電子和醫(yī)療行業(yè)中,需要清洗、涂層或化學(xué)改性的材料表面都沉浸在射頻等離子體的能量環(huán)境中,除了射頻等離子體在 40 KHz. 增加。一旦顆粒到達(dá)材料表面,它們可以物理去除化學(xué)惰性的表面沉積物(如金屬氧化物和其他無機(jī)沉積物)和交聯(lián)聚合物進(jìn)行清潔和活化。

等離子清洗劑利用這些活性成分的特性對樣品表面進(jìn)行處理,達(dá)到清洗、鍍膜等目的。這對于產(chǎn)品粘合、噴涂、印刷和密封目的很有用。等離子體是指部分或完全電離的氣體,其中自由電子和離子所攜帶的正負(fù)電荷之和完全抵消,表示宏觀上呈中性電荷。等離子體又稱等離子體,是一種類似電離氣體的物質(zhì),由被剝奪了部分電子的原子和原子電離后產(chǎn)生的正負(fù)電子組成。氣體外是物質(zhì)存在的第四種狀態(tài)。

這對于許多材料來說非常重要。 。等離子去膠劑在材料蝕刻過程中的選擇性和方向 當(dāng)高能粒子撞擊表面時(shí),等離子去膠劑的強(qiáng)化蝕刻會導(dǎo)致表面出現(xiàn)缺陷、位錯(cuò)或懸浮物。 這些缺陷增加了表面化學(xué)反應(yīng)蝕刻的速率,使得這種等離子粘合劑去除劑的蝕刻過程具有選擇性和方向性。在這些等離子粘合劑去除劑的清潔過程中,碳?xì)浠衔锖突闹g的結(jié)合被削弱,由此產(chǎn)生的能量將這些有機(jī)化合物與基材分離。

化學(xué)鍍鎳/浸金在 1990 年代被廣泛用于熱風(fēng)整平的平整度問題和有機(jī)涂層助焊劑的去除。雖然dip/dip工藝的應(yīng)用有所減少,但幾乎所有高科技PCB廠都有化學(xué)鍍。鎳/沉金線。考慮到去除銅錫金屬間化合物時(shí)焊點(diǎn)的脆性,較脆的鎳錫金屬間化合物存在很多問題。

等離子體在半導(dǎo)體方面的應(yīng)用

等離子體在半導(dǎo)體方面的應(yīng)用

通過使用IC板和HDI,等離子體去膠和丙酮去膠減少了淡季的影響,產(chǎn)能非常緊張,因此保持了較高的開工率。在2021年全面開工、供大于求的大趨勢下,工業(yè)安全將是一大挑戰(zhàn)。此外,生產(chǎn)線的高利用率意味著所需的人員數(shù)量將會增加。事實(shí)上,對于PCB和IC板廠的一些高端應(yīng)用來說,制造工藝復(fù)雜,沒有辦法實(shí)現(xiàn)全自動化。

Bardeen 和 Bratton 的研究結(jié)果于 1948 年 6 月發(fā)表。點(diǎn)接觸晶體管的發(fā)明拉開了晶體管大發(fā)展的序幕,等離子體去膠和丙酮去膠但由于其結(jié)構(gòu)復(fù)雜、性能差、體積大、制造難度大,在工業(yè)上得到了廣泛的應(yīng)用。一個(gè)反應(yīng)靈敏的社會。 1948年1月,肖克利根據(jù)自己對pn結(jié)理論的研究,發(fā)明了另一種表面結(jié)晶體管,并于1948年6月獲得證書。