在工業(yè)制造操作過(guò)程中對(duì)電子元器件、電子光學(xué)構(gòu)件、機(jī)械零部件、復(fù)合材料等表層的超純凈度清洗，以清除微乎其微污漬顆粒物，傳統(tǒng)型的清洗方式通常為濕式清洗，伴著著如今智能產(chǎn)品的保持發(fā)展趨勢(shì)這類清洗方式已顯現(xiàn)出其嚴(yán)重的缺點(diǎn)，即清洗干躁之后的清洗液殘留和細(xì)小顆粒物會(huì)黏附在表層，現(xiàn)已無(wú)法達(dá)到如今智能產(chǎn)品加工工藝的標(biāo)準(zhǔn)。
低溫等離子設(shè)備實(shí)際上是把污染物質(zhì)從被加工處理產(chǎn)品工件上移開(kāi)，并在低溫等離子體反應(yīng)的撞擊下被帶走，加工處理循環(huán)系統(tǒng)通常只需用幾分鐘就能有效去除表層的污跡，等離子清洗機(jī)真真正正做到?jīng)]有殘留，零環(huán)境污染。24342