微波等離子清洗機(jī)在微電子及半導(dǎo)體集成電路制程工藝中有著廣泛的應(yīng)用,簡單舉例如下:
(1)掃膠
si器件和GaAs器件在光刻后用濕法顯影,但是用顯影液徹底想把膠條清洗干凈并不容易,也不太經(jīng)濟(jì),往往會(huì)殘留一層很薄的膠膜,叫做底膜。下一步再刻蝕sio2就受影響,在這種情況下用氧和氮的混合等離子體對其進(jìn)行輕微的處理,將底膜去掉,工藝上簡稱掃膠,然后再進(jìn)行sio2刻蝕,這樣有利于線條的質(zhì)量保證(線條寬度的一致性好,光滑整齊)。
(2)芯片在載體上粘附前對載體進(jìn)行清洗
無論是集成電路還是混合集成電路,在用環(huán)氧樹脂導(dǎo)電膠粘片前用等離子體對載體進(jìn)行正面清洗,可以提高環(huán)氧樹脂的粘附性,去除氧化物以利于焊料回,流改善芯片與載體的連結(jié),大大減少剝離現(xiàn)象,提高熱耗散性能。
微波半導(dǎo)體器件采用金屬陶瓷管殼,其芯片往載體上裝不是用導(dǎo)電膠粘結(jié)而是黃金的合金焊料進(jìn)行共晶燒結(jié),在燒結(jié)前用等離子清洗一下載體,對保證其燒結(jié)質(zhì)量也是有效的。
微波等離子清洗機(jī)(3)金屬陶瓷管殼封帽前
在金屬陶瓷管殼封帽前對管殼管帽進(jìn)行等離子清洗之后再進(jìn)行封帽,能明顯降低漏氣率,提高封帽成品率。
(4)鍵合前
隨著集成度的不斷提高,引線數(shù)目增多,集成電路(包括混合集成電路)引線的鍵合成品率和可靠性已經(jīng)是十分突出的問題。芯片粘在載體上以后,在焊盤上可能存在的污染物有:有機(jī)溶劑殘留、環(huán)氧樹脂的溢出物以及焊盤材料的氧化層。這些污染物和氧化層從物理和化學(xué)反應(yīng)兩個(gè)方面使引線與焊盤之間焊接不完全或粘附性差,造成鍵合強(qiáng)度不夠。在鍵合之前將焊盤用等離子清洗一下再鍵,合會(huì)顯著提高鍵合強(qiáng)度和鍵合線拉力的均勻性。
(5)集成電路封裝前
集成電路在進(jìn)行塑封時(shí)要求塑封材料與芯片、載體、金屬鍵合腳等各種不同材料都要有較好的粘附性,如果有沾污或者活性較差,就會(huì)導(dǎo)致塑封表面層剝。離如在塑封前進(jìn)行等離子處理,可以有效的提高表面活性,改善粘附性,減少剝離現(xiàn)象,提高封裝的可能性。24433