等離子清洗是一種干法物理化學(xué)清洗技術(shù)。它是利用低真空狀態(tài)下工藝氣體因電場(chǎng)的作用，產(chǎn)生輝光放電，將工藝氣體電離成離子流，轟擊工件表面，使其產(chǎn)生物理化學(xué)反應(yīng)，達(dá)到清洗目的。等離子清洗機(jī)按其等離子激發(fā)頻率可分為：中頻(40KHz)、高頻(13.56MHz)和微波(2.45GHz)三種等離子清洗機(jī)，隨著頻率的升高，離子濃度增大，離子能量下降。中頻40KHz等離子清洗機(jī)主要應(yīng)用于污染較重，且不易受到損傷的元件(如外殼、成膜基板、焊片等)，其中主要是離子的物理撞擊作用(物理清洗)，化學(xué)清洗作用其次。微波等離子清洗機(jī)主要應(yīng)用于敏感器件(半導(dǎo)體芯片，特別是微波器件)，這時(shí)主要是離子化學(xué)反應(yīng)。而13.56MHz射頻等離子清洗機(jī)的應(yīng)用則介于上述兩者之間，兼具化學(xué)和物理清洗。
13.56MHz射頻等離子清洗機(jī)與40KHz中頻等離子清洗機(jī)的區(qū)別如下：
目前市面所售的等離子清洗機(jī)有低頻放電方式，頻率為40KHz，低頻放電符合輝光放電的特性，與射頻放電相比，電流很小，不存在阻抗匹配的問(wèn)題，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，多為電容耦合結(jié)構(gòu)，因此電極的二次污染問(wèn)題仍然存在。
高頻放電的頻率一般為10M～100MHz，這一頻率屬于無(wú)線(xiàn)電頻譜范圍，因此又稱(chēng)為射頻(RF)放電，根據(jù)國(guó)際通用的規(guī)則射頻放電的頻率為13.56MHz。射頻放電能產(chǎn)生和維持高密度、連續(xù)、均勻的等離子體，高頻放電時(shí)，由于頻率很高，帶電粒子在電場(chǎng)周期內(nèi)還未運(yùn)動(dòng)到極板，電場(chǎng)就發(fā)生了改變，帶電粒子在電場(chǎng)作用下向反方向移動(dòng)，如此往復(fù)形成振蕩，因?yàn)榱Ｗ拥倪\(yùn)動(dòng)行程很長(zhǎng)，增加了與氣體分子碰撞的機(jī)率，電離度比直流輝光放電高出幾個(gè)數(shù)量級(jí)，而且可以在較低的電壓下維持。射頻放電在較高和較低的氣壓下都能放電，在工業(yè)中有不同應(yīng)用。與直流放電相比，射頻放電有以下優(yōu)勢(shì)：
1.較低的氣壓條件下仍能放電，放電維持能量低，由于帶電粒子在極間做往復(fù)運(yùn)動(dòng)，大大增加了電離機(jī)率，因此在較低的氣壓條件下仍能夠維持放電，形成穩(wěn)定的等離子體，最低壓強(qiáng)可達(dá)10-1Pa。
2.射頻放電的粒子運(yùn)動(dòng)機(jī)制決定了具有較高的電離度。
3.等離子體分布均勻。
綜上所述40KHz中頻等離子清洗機(jī)的作用主要為物理撞擊反應(yīng)，其撞擊力度大，對(duì)被清洗表面影響最大；13.56MHz射頻等離子清洗機(jī)主要為物理加化學(xué)反應(yīng)（需要采用氧氣、氫氣、氬氣等氣體，如采用單獨(dú)氬氣則為單獨(dú)物理反應(yīng)），其撞擊力度適中，可以去除零件表面殘留的灰塵、一般氧化層等雜質(zhì)。24256