等離子清洗作為一種新型清潔處理技術(shù)，除了具有超清洗功能外，該清洗技術(shù)易采用數(shù)控技術(shù)，自動化程度高，正確的等離子體清洗不會在表面產(chǎn)生損傷層，表面質(zhì)量得到保證，清洗零部件表面處理后性能持久穩(wěn)定，保持時(shí)間長，并且具有無污染，無廢水，符合環(huán)保要求。下面就讓我們一起來了解下等離子清洗機(jī)清洗方式的選擇和不同激發(fā)頻率的差異：
等離子清洗機(jī)清洗方式的選擇
以物理反應(yīng)為主的等離子清洗，其優(yōu)點(diǎn)在于本身不發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，清潔表面不會留下任何的氧化物，可以保持被清洗物的化學(xué)純凈性，腐蝕作用各向異性:缺點(diǎn)就是對表面產(chǎn)生了很大的損傷，會產(chǎn)生很大的熱效應(yīng)，對被清洗表面的各種不同物質(zhì)選擇性差，腐蝕速度較低。典型的等離子體物理清洗工藝是氬氣等離子體清洗，氬氣本身是惰性氣體，等離子體的氬氣不和表面發(fā)生反應(yīng)，而是通過離子轟擊使表面清潔。以化學(xué)反應(yīng)為主的等離子清洗的優(yōu)點(diǎn)是清洗速度較高、選擇性好、對清除有機(jī)污染物比較有效，缺點(diǎn)是會在表面產(chǎn)生氧化物。典型的等離子體化學(xué)清洗工藝是氧氣、氫氣等離子清洗。通過等離子體產(chǎn)生的氧自由基非常活潑，容易與碳?xì)浠衔锇l(fā)生，產(chǎn)生二氧化碳，一氧化碳和水等易揮發(fā)物，從而去除表面的污染物。
以物理反應(yīng)和化學(xué)反應(yīng)都起重要作用的等離子體清洗，兩種反應(yīng)清洗可以互相促進(jìn)，離子轟擊使被清洗表面產(chǎn)生損傷削弱其化學(xué)鍵或者形成原子態(tài)，容易吸收反應(yīng)劑，離子碰撞使被清洗物加熱，使之更容易產(chǎn)生反應(yīng):其效果是既有較好的選擇性、清洗率、均勻性，又有較好的方向性。典型的等離子體清洗工藝是氬氣和氧氣按一定比例混合進(jìn)行等離子清洗。
等離子清洗機(jī)激發(fā)頻率差異分類
等離子態(tài)的密度和激發(fā)頻率由如下關(guān)系:nc=1.2425X108V2,其中nc為等離子態(tài)密度(cm-3)，v為激發(fā)頻率(Hz)。
常用的等離子體激發(fā)頻率有三種:第一種是激發(fā)頻率為40kHz的等離子體為超聲等離子體，第二種是13.56MHz的等離子體為射頻等離子體，第三種是2.45GHz的等離子體為微波等離子體。超聲等離子體發(fā)生為物理反應(yīng)，射頻等離子體發(fā)生的反應(yīng)既有物理反應(yīng)又有化學(xué)反應(yīng)，微波等離子體發(fā)生的反應(yīng)為化學(xué)反應(yīng)。因此在實(shí)際應(yīng)用中，根據(jù)清洗物基材類型的不同，可選擇不同激發(fā)頻率類型進(jìn)行等離子清洗處理。24685