在這種情況下,采用等離子表面處理技術處理包裝盒糊口是最好的解決方法,空氣等離子體在清除糊口表面光油的同時,其產(chǎn)生很強的高壓氣流,使薄膜表面的微結(jié)構發(fā)生改變, 進而變得粗糙,糊盒膠便能很好地附著在糊口上,使糊口豁結(jié)牢固。在這里需要說明的是,空氣等離子體本身是低溫的,不會對包裝盒表面產(chǎn)生任何熱效應影響。

使用等離子清洗儀進行表面改性是等離子體與塑膠橡膠素材表面相互作用的過程，附著力變小行駛阻力這其中包含物理作用和化學反應兩個過程。等離子清洗儀表面改性過程：　　（1）物理作用 主要表現(xiàn)為純物理的撞擊，把塑膠材料表面的原子或附著在表面的原子打掉，在物理撞擊時，若要以物理反應為主時，就必須控制好壓力進行反應，這樣清洗效果才能達到預期。

采用常壓低溫等離子清洗機的表面處理技術，環(huán)氧底漆附著力變化曲線對各主要部位進行局部預處理，活化（活化）各主要部位的非極性原料，提高膠粘劑的粘合性能。密封以確保粘合。 3. 等離子清洗機處理鋰電池組用于電力工程。在動力電池組裝過程中，采用常壓低溫等離子清洗劑對金屬和聚合物的表面進行清洗和活化，同時不改變原材料的性能，提高焊接、粘接或粘接的附著力和可靠性的保證。。衡量汽車質(zhì)量的一個重要指標是氣密性。

在電子元器件的表面上涂上一層超薄、長期穩(wěn)定的選擇性防腐蝕涂層，附著力變小行駛阻力就可以防止電子元器件在極端氣候條件下受到腐蝕或損壞。該等離子自動清洗機設備在LED燈等離子清洗過程中，恰當?shù)亟鉀Q了這兩個問題。等離子自動清洗機作用于材料表面，所產(chǎn)生的正負等離子體能實現(xiàn)對LED材料表面的物理和化學清洗。清除達到納米級的污染物，可清除表面污染物，如有機物，氧化物，環(huán)氧樹脂，顆粒等。

附著力變小行駛阻力

示例：金屬、半導體、氧化物或聚合物材料（例如聚丙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亞胺、聚酯、環(huán)氧樹脂和其他聚合物）可以用等離子體進行表面處理。深圳市科技有限公司是一家研究、開發(fā)、制造和銷售等離子設備的高科技公司。中國著名的等離子技術品牌，擁有多年等離子技術服務經(jīng)驗，通過對被處理材料表面的沖擊，有效去除表面有機污染物，使工件表面親水，可大大提高。許多過程需要自動化設備。

3材料熱穩(wěn)定無鹵片中氮磷含量大于普通鹵素基材料中鹵素含量，因此單體分子量和Tg值增大。在加熱條件下，無鹵材料的分子運動能力會低于常規(guī)環(huán)氧樹脂，因此無鹵材料的熱膨脹系數(shù)相對較小。與含鹵板材相比，無鹵板材更具優(yōu)勢，無鹵板材取代含鹵板材也是大勢所趨。到05生產(chǎn)無鹵PCB的經(jīng)驗1，層壓層壓參數(shù)，可能因公司的板材而異。

等離子設備工藝優(yōu)勢： 1.采用創(chuàng)新技術，加工制造過程簡單。機器啟動后立即開始傳輸，并且受工作條件的限制。 2、環(huán)保節(jié)能，無需工業(yè)設備，空氣摩擦阻力小，功耗低。 3.應用范圍廣，由機器設備供電，不受溫度影響。當溫度在250°C左右時，在有霧的工作環(huán)境中可以正確運輸，甚至在-50°C和+50°C之間，也可以正確運輸。四。機械裝置使用壽命長，由不銹鋼、銅合金和環(huán)氧樹脂等材料制成，具有優(yōu)良的抗氧化性。

等離子體處理器產(chǎn)生表面作用組，提高動能和生物技術表面活性劑的附著力。大多數(shù)未經(jīng)處理的生物技術太濕(吸水)。等離子體處理器可以增加或減少各種生物技術的吸水能力?；诘入x子體活性，表面是親水的，而基于等離子體處理器表面涂層，表面是疏水的。等離子涂層具有低摩擦阻力，使生物表面更加光滑。等離子體處理器涂層還能形成致密的屏障層，減少液體或氣泡滲入生物技術。。

環(huán)氧底漆附著力變化曲線

舉例來說，附著力變小行駛阻力在門和門密封條兩側(cè)的密封唇部應以同樣大小的力接觸窗玻璃兩側(cè)。膠條唇部的長度和厚度要合適。過厚過長將使玻璃阻力過大，不易起升；太薄太短，會造成玻璃密封貼面不佳，產(chǎn)生振動漏雨；密封條的底部也應進行尺寸設計，要配合窗戶鋼槽的形狀，兩者凹凸結(jié)合，使密封條本身的彈性粘附在窗內(nèi)鋼槽上，防止其脫落。上述汽車密封膠條分類均可借助plasma設備的清洗技術處理，提高表面附著力，增強封裝質(zhì)量。。

純氯氣蝕刻鋁是各向同性的，附著力變小行駛阻力為獲得各向異性的蝕刻工藝以得到需要的輪廓曲線和尺寸，必須在蝕刻過程中使用聚合物來對側(cè)壁進行鈍化保護，除了用等離子體物理轟擊光刻膠捕獲碳來得到一些聚合物外，還要加入容易產(chǎn)生聚合物的氣體作為蝕刻劑，如CHF3、N、CH4等；同時，等離子工業(yè)清洗機在鋁金屬蝕刻中還大量使用到BCl3氣體，主要目的有BCl3與[O]、[H]離子的反應性極優(yōu)，優(yōu)先反應后帶走反應腔中及反應過程中產(chǎn)生的[O]、[H]離子以降低鋁金屬蝕刻終止及未來發(fā)生腐蝕的可能性；同時，BCl3氣體在等離子體中分解為BClx，原子團和正離子，[BCl3]+正離子具有很大的分子量是形成等離子體物理轟擊的重要離子來源，增強物理轟擊效果； 而BClx原子團可以與Cl原子發(fā)生如式(3-8)的“再結(jié)合”反應，這個反應通常會在沒有暴露在BCIx + Cl→BClx+1(3-8)粒子轟擊下的側(cè)壁表面上進行，這種再結(jié)合反應將消耗掉側(cè)壁表面的氯原子，降低側(cè)壁吸附的氟原子從而減少側(cè)面的蝕刻，提高了蝕刻的各向異性，達到很好控制側(cè)壁輪廓剖面。