根據(jù)市場對半導(dǎo)體材料的估算，附著力特好的黑漆對于月產(chǎn)10萬片晶圓的20nm DARM工廠來說，產(chǎn)量下降1%，將導(dǎo)致每年3000萬至5000萬美國元的利潤減少，而邏輯芯片制造商的損失則更高。此外，產(chǎn)量下降還將使制造商本已很高的資本支出增加十分點。因此，工藝的優(yōu)化和控制是半導(dǎo)體材料生產(chǎn)過程中最重要的部分，制造商對半導(dǎo)體行業(yè)的要求也越來越高，尤其是清洗工藝。對于20nm以上的區(qū)域，清洗工序數(shù)量超過所有工藝工序的30%。

因此，附著力特種功能助劑加工廠大氣射流等離子體清洗機(jī)的正常運行對每個工廠的UPH（生產(chǎn)能力）起著決定性的作用?？諝鈬娚?a href="http://tdpai.com/" target="_blank">等離子清洗機(jī)一旦出現(xiàn)故障，如果不能及時排除，將給企業(yè)帶來巨大的經(jīng)濟(jì)損失。與真空等離子體清洗機(jī)相比，常壓等離子體清洗機(jī)的機(jī)械結(jié)構(gòu)相對簡單。為了保證生產(chǎn)效率，操作人員必須具備一定的操作能力。

對于模塊工廠來說，附著力特好的黑漆雖然傳統(tǒng)制造工藝中使用的不同工藝可以完成相同的工作，但筆者認(rèn)為最終的目標(biāo)應(yīng)該是通過制造工藝的持續(xù)改進(jìn)來實現(xiàn)整體產(chǎn)品良率的提高。。

一些非高分子無機(jī)氣體（Ar2、N2、H2、O2等）在高頻低壓下被激發(fā)，附著力特種功能助劑加工廠產(chǎn)生含有離子、激發(fā)分子、自由基等的各種活性粒子。一般來說，在等離子清洗中，活性氣體可以分為兩類。一種是惰性氣體（Ar2、N2 等）的等離子體，另一種是反應(yīng)氣體（O2、H2 等）的等離子體。。

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在這種情況下的等離子處理會產(chǎn)生以下效果：1.1灰化表面有機(jī)層－表面會受到化學(xué)轟擊（氧 下圖）－在真空和瞬時高溫狀態(tài)下，污染物部分蒸發(fā)－污染物在高能量離子的沖擊下被擊碎并被真空帶出－紫外輻射破壞污染物因為等離子處理每秒只能穿透幾個納米的厚度，所以污染層不能太厚。指紋也適用。1.2氧化物去除金屬氧化物會與處理氣體發(fā)生化學(xué)反應(yīng)（下圖）這種處理要采用氫氣或者氫氣與氬氣的混合物。有時也采用兩步處理工藝。

直流(DC)放電由于其簡單性至今仍被使用，尤其是對于工業(yè)大氣等離子體清洗裝置，可以發(fā)揮很大的功率。低頻放電的范圍一般為1-kHz，現(xiàn)在器件常用的頻率為40kHz。目前，常壓等離子體清潔器比高頻放電裝置更廣泛地應(yīng)用于實驗設(shè)備和等離子體過程設(shè)備中，其頻率范圍為10～MHz。因為這屬于無線電波頻譜范圍，所以也被稱為射頻放電，簡稱RF放電，常用頻率為13.56MHz。

等離子體清洗機(jī)就是利用這些活性成分的性質(zhì)對樣品表面進(jìn)行處理，從而達(dá)到清洗目的。等離子清洗機(jī)所生產(chǎn)的等離子“活性”部件包括:離子、電子、活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。

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