Plasma F Etching SI廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體器件制造,tc-10涂料附著力蝕刻反應(yīng)的三個(gè)步驟是:化學(xué)吸附:F2 & RARR;F2 (ADS) & RARR;2F (ADS) 反應(yīng):SI + 4F (ADS) & RARR;SIF4 (ADS) 解吸:SIF4 (ADS) & RARR;SIF4 (GAS) 高密度等離子源蝕刻工藝具有很多優(yōu)點(diǎn),可以更精確地控制工件尺寸、更高的蝕刻速率和更好的材料選擇性。
射頻電磁場(chǎng)的能量耦合效率和等離子體的均勻性很大程度上取決于射頻激勵(lì)電極、線圈或天線的設(shè)計(jì)。工業(yè)上使用的兩種典型RF等離子體發(fā)生器是圖(a)所示的電容耦合等離子體(CCP)發(fā)生器和圖(b)所示的電感耦合等離子體(ICP)或變壓器耦合等離子體(TCP)發(fā)生器。在低壓下更容易產(chǎn)生大面積的低溫非熱平衡等離子體。低氣動(dòng)放電系統(tǒng)通常由真空室(典型尺寸為幾厘米)、氣體分配系統(tǒng)和饋電的電極(或天線)組成。
表3.8不同碳氟比條件對(duì)介質(zhì)層及硅的蝕刻速率、選擇比Etch Rate/(nm/ min>SelectivityUniformity/%)Si3N4SiO2SiSi3N4/SiO2Si3N4/SiSi3N4SiO2SiCH3F261226131.51.10.42CH2F2281681.83.50.430.30.1CHF314555612.62.37.50.50.1。
除了等離子處理方法之外,附著力檢測(cè)儀tc-10還有傳統(tǒng)的清洗方法嗎?迄今為止,化學(xué)試劑已被用于處理聚烯烴材料的表面,這是一種廣泛應(yīng)用于聚烯烴表面預(yù)處理的方法(簡(jiǎn)稱化學(xué)法)。 ..除等離子處理法外,根據(jù)(全部)資料,鉻鹽法(Cr-H2SO4)、過硫酸鹽法、鉻酸法、氯磺化法、氯酸鉀法、白磷法、高錳酸鉀法有規(guī)律和很快。 10種。
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等離子清洗機(jī)在LCD-COG液晶組裝工藝中的應(yīng)用LCD的COG組裝過程,是將裸片IC貼裝到ITO玻璃上,利用金球的壓縮與變形來使ITO玻璃上的引腳與IC上的引腳導(dǎo)通。由于精細(xì)線路技術(shù)的不斷發(fā)展,目前已經(jīng)發(fā)展到生產(chǎn)Pitch為20μm、線條為10μm的產(chǎn)品。
從這個(gè)圖上戈登?摩爾發(fā)現(xiàn)每個(gè)新芯片大體上包含其前任兩倍的容量,而且每個(gè)新芯片的產(chǎn)生都是在前一個(gè)芯片產(chǎn)生后的18-24個(gè)月內(nèi)。如果按這個(gè)趨勢(shì)繼續(xù)計(jì)算能力相對(duì)于時(shí)間周期將呈指數(shù)式的上升。摩爾的觀察結(jié)果,就是現(xiàn)在所謂的摩爾定律。他當(dāng)時(shí)預(yù)測(cè),在今后的10年中芯片上的器件數(shù)將每年翻一番,并會(huì)在1975年達(dá)到6500個(gè)“對(duì)集成電路而言,降低成本具有相當(dāng)?shù)奈Α?/p>
此外,主動(dòng)清洗站無法避免相互污染的弊端,因?yàn)槎鄠€(gè)晶圓是一起清洗的。洗滌器也是雖然采用旋轉(zhuǎn)噴淋方式,但在機(jī)械擦洗的配合下具有高壓、軟噴等可調(diào)方式,適用于晶圓切割、晶圓減薄、晶圓拋光等用去離子水清洗的工藝中使用。 、研磨、CVD等環(huán)節(jié),尤其是晶圓拋光后的清洗。使用單個(gè)晶圓清洗機(jī)和主動(dòng)清洗站之間沒有太大區(qū)別。兩者的主要區(qū)別在于以45nm為主要邊界點(diǎn)的清洗方式和精度要求。
:等離子體是氣體分子在真空、放電等特殊場(chǎng)合產(chǎn)生的獨(dú)特現(xiàn)象和物質(zhì)。典型的等離子體由電子、離子、自由基和質(zhì)子組成。正如將固體轉(zhuǎn)化為氣體需要能量一樣,產(chǎn)生離子體也需要能量。等離子體可以導(dǎo)電并與電磁力發(fā)生反應(yīng)。一種在小型等離子體清洗蝕刻機(jī)中產(chǎn)生等離子體的裝置,在密封容器中設(shè)置兩個(gè)電極形成電場(chǎng),然后實(shí)現(xiàn)一定的真空度。隨著氣體越來越稀薄,分子之間的距離以及分子或離子的自由運(yùn)動(dòng)距離也越來越長(zhǎng)。
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如果處理時(shí)間不長(zhǎng),tc-10涂料附著力材料的表面溫度將與室溫相同。 13.56MHz的頻率較低,通常小于30°。因此,在處理易受熱變形的材料時(shí),低溫真空等離子清洗機(jī)更為合適。工作時(shí),空腔中的離子沒有定向。只要材料在型腔的裸露部分,就可以在任何一側(cè)或角落進(jìn)行清洗。。1、真空電磁閥真空等離子清洗機(jī)必須保持操作過程中所需的真空和真空室的密封。因此,連接腔體的每個(gè)氣路閥必須滿足真空密封的要求。選擇匹配的腰帶。氣控真空電磁閥。
注意事項(xiàng): 1、要定時(shí)做維護(hù)保養(yǎng)和維修保養(yǎng)。在對(duì)等離子清洗機(jī)做維護(hù)保養(yǎng)和維修保養(yǎng)的時(shí)分,tc-10涂料附著力要先把機(jī)器設(shè)備的開關(guān)電源關(guān)掉,不能帶電操作,防止呈現(xiàn)意外。2、在運(yùn)用等離子清洗機(jī)的時(shí)分,要依照設(shè)備的運(yùn)用手冊(cè)操作,對(duì)它運(yùn)作時(shí)的主要參數(shù)做恰當(dāng)?shù)脑O(shè)定,不可以隨便地設(shè)置。3、在運(yùn)用沛沅Pluto系列等離子清洗機(jī)的時(shí)分,如呈現(xiàn)特殊情況需要緊迫中止,可按一鍵急停按鈕。如無特殊情況,按正常操作流程操作。