假定負(fù)電荷中心為坐標(biāo)原點，德謙附著力促進(jìn)劑LPH對于空間電荷分布為p(r)的平衡態(tài)帶電粒子系， 距中心r處空間的電勢分布φ(r)滿足泊松（Poisson）方程：（1-4）然而，由于電荷屏蔽作用，P(r)取決于r處的正、負(fù)電荷密度差：P(r)=e[Ni(r)-Ne(r)] （1-5）式中，Ni(r)和 Ne(r)代表距離負(fù)電荷中心r處正負(fù)帶電粒子的數(shù)密度。

小編phase PLASMA等離子清洗機技術(shù)將成為工業(yè)生產(chǎn)設(shè)備中不可或缺的一部分，德謙附著力促進(jìn)劑LPH在不久的將來會得到越來越多的工業(yè)制造商的支持。對于很多接觸過等離子設(shè)備的人來說，我們的等離子設(shè)備是行業(yè)的總稱，有常壓等離子清洗設(shè)備、真空等離子設(shè)備、全自動等離子設(shè)備等很多。

下表為常壓熱平衡條件下氮等離子體的電離度α隨溫度的變化情況。從表中可以看出，德謙附著力促進(jìn)劑ADK隨溫度升高，電離度迅速增加，但若想得到等離子自動清洗機等離子體完全電離，必須達(dá)到幾萬度的高溫。

真空等離子體表面處理如氧等離子體處理優(yōu)于常壓等離子體技術(shù)。真空等離子體系統(tǒng)可以延長等離子體的效果，德謙附著力促進(jìn)劑ADK并提供優(yōu)良的表面改善水平。空氣等離子系統(tǒng)通常更容易安裝在裝配線上或處理大面積產(chǎn)品的小面積。

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低溫等離子設(shè)備等離子體氣溫：一般醫(yī)學(xué)上使用的等離子體一般都是指低溫等離子體，它的氣體溫度一般不會超過60℃，溫度稍微高于體溫，不會引起燒傷，能增加血液循環(huán)，舒張毛孔，能對某些疾病起到輔助治療作用，然而，如果等離子體不均勻，則極有可能引起局部地區(qū)的溫度升高，從而引起局部燒傷，等離子體均勻度是臨床醫(yī)學(xué)應(yīng)用中應(yīng)注意的問題。

低溫等離子清洗機也是一種干法清洗方式，與傳統(tǒng)的濕法清洗機相比，具有工藝更簡單、操作更容易、可控性更高、精度更高的優(yōu)點，可以一次清洗表面。無殘留，使用大量溶劑對環(huán)境和人體有害。等離子清洗機在使用過程中，有兩個清洗過程，化學(xué)反應(yīng)和物理反應(yīng)。等離子清洗劑，主要基于化學(xué)反應(yīng)，性能優(yōu)良，清洗速度快，對氧化物的去除效果好，對有機物和物體表面活化，在使用過程中會產(chǎn)生對人體和環(huán)境有害的氣體。環(huán)保設(shè)備。

洗滌后無需烘干等工序，無廢液產(chǎn)生，同時其工作氣體排放無毒，安全環(huán)保；操作簡單，易于控制，速度快。同時，該工藝避免了大量溶劑的使用，因此成本較低。轉(zhuǎn)載本章出處請注明出處：。

3.低溫等離子清洗機的表面刻蝕功能 對應(yīng)不同的材料采用相應(yīng)的氣體組合形成具有強烈蝕刻性的氣相等離子體與材料表面的本體發(fā)生化學(xué)反應(yīng)及物理沖擊，等離子清洗機使材料本體表面的固態(tài)物質(zhì)被氣化，生成如CO、CO2、H2O等氣體，從而達(dá)到微蝕刻的目的。低溫等離子清洗機刻蝕均勻，不改變材料基體特性；能有效粗化材料表面，并能精準(zhǔn)控制微蝕量。

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