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因此，德國(guó)凱爾貝等離子電源參數(shù)改變PBO化纖的接觸面以提高化纖接觸面的極性非常重要，這是PBO化纖增強(qiáng)樹脂基復(fù)合材料的主要技術(shù)。也有利于航天、航空、國(guó)防等高科技領(lǐng)域的復(fù)合材料替代。該作用與在低溫和大氣壓下用高頻等離子體進(jìn)行表面處理的化學(xué)和物理變化進(jìn)行了比較。由于化纖的表面反應(yīng)容易控制，對(duì)身體的傷害小，不易受接觸面的影響。聚合物改性（效果）顯著，可實(shí)現(xiàn)在線匹配和連續(xù)生產(chǎn)。 1、主要研究PBO化纖和環(huán)形高頻等離子體的表面處理。

等離子清洗機(jī)的輝光放電電位和光學(xué)區(qū)域分布有什么特點(diǎn)？等離子清洗機(jī)的輝光放電電位和光學(xué)區(qū)域分布有什么特點(diǎn)？在上一篇文章中，德國(guó)凱爾貝等離子電源參數(shù)我簡(jiǎn)要介紹了輝光放電在真空和大氣中的形式，下面主要介紹輝光放電在等離子清洗機(jī)中的電位分布和光學(xué)區(qū)域分布。等離子清洗機(jī)輝光放電的一個(gè)顯著特點(diǎn)是氣體中的電位分布因空間電荷的影響而以陰極電位降為代表，輝光放電的陰極電位降較大。陰極表面被輝光覆蓋，與放電現(xiàn)象呈正相關(guān)。

移動(dòng)平臺(tái)等離子清洗機(jī)介紹：引進(jìn)德國(guó)技術(shù)，德國(guó)凱爾貝等離子電源參數(shù)低溫，無(wú)靜電設(shè)備采用一體式未處理控制器控制系統(tǒng)和電源，具有高品質(zhì)壓力保護(hù)開關(guān)和雙手動(dòng)和自動(dòng)啟停功能 旋轉(zhuǎn)并可直接與等離子槍頭配套，直徑加工寬度2MM-80MM可調(diào)，可遠(yuǎn)程控制，實(shí)現(xiàn)24小時(shí)運(yùn)行功能，維護(hù)方便。

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目前生產(chǎn)的P3-T7221脫脂劑主要由焦磷酸鈉、碳酸鈉、焦磷酸鈉、偏硅酸鈉等一系列表面活性劑組成。特性，溶液溫度為70～80℃時(shí)清洗效果最高，溶液溫度為70～80℃時(shí)，溶液為溶液時(shí)清洗效果最高。溫度為70-80°C。為實(shí)現(xiàn)這一目標(biāo)，德國(guó)SURTEC開發(fā)了磷酸鹽脫脂劑surtc1132。其用量約為surtec 1084表面活性劑的2-6%和0.5%。脫脂液溫度為30-50℃?？娠@著減少堿霧的產(chǎn)生。

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等離子表面處理的工作原理主要有兩個(gè)方面。另一方面，通過活性粒子在纖維表面形成自由基和極性基團(tuán)，提高了纖維表面的自由能和潤(rùn)濕性。纖維表面積和表面粗糙度。去除纖維表面的污染物。碳纖維在水溶液中的表面改性是通過常壓等離子清洗機(jī)進(jìn)行表面處理，利用等離子體中活性粒子與水分子的相互作用，去除碳纖維的表面漿料，同時(shí)進(jìn)行親水改性。時(shí)間。。

等離子清洗機(jī)技術(shù)原理 2.1 等離子 等離子是物質(zhì)存在的狀態(tài)，通常物質(zhì)存在固態(tài)、工業(yè)、氣態(tài)三種狀態(tài)，但在特殊情況下，它處于第四態(tài)，它可能存在。太陽(yáng)表面的物質(zhì)和地球大氣電離層的物質(zhì)。這種物質(zhì)存在的狀態(tài)稱為等離子體態(tài)，也稱為物質(zhì)的第四態(tài)。血漿中含有以下物質(zhì)?？焖龠\(yùn)動(dòng)的電子； 活化的中性原子、分子、原子團(tuán)（自由基）； 電離的原子和分子； 分子解離反應(yīng)時(shí)產(chǎn)生的紫外線； 未反應(yīng)的分子、原子等，但整個(gè)物質(zhì)是中性的。

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小編從微觀層面解釋了等離子體與材料外表面的相互作用。顯微大氣等離子體處理器_電離輻射產(chǎn)生輝光放電的原理大氣等離子體處理器是在大氣壓或特定壓力下激發(fā)氣體電離產(chǎn)生特定輝光等離子體的裝置。輝光等離子處理器。與絲狀放電相比，等離子電焰灶原理準(zhǔn)輝光放電等離子體更穩(wěn)定、更均勻，更適合大面積材料或產(chǎn)品的表面處理。大氣壓等離子處理器形成準(zhǔn)輝光放電，必須達(dá)到小的初始電子密度。

有的既是物理反應(yīng)又是化學(xué)反應(yīng)，等離子電焰灶原理既是物理作用又是化學(xué)作用。該反應(yīng)取決于等離子氣體源、等離子系統(tǒng)和等離子工藝的操作參數(shù)的組合。表 1 顯示了等離子工藝在半導(dǎo)體制造中的選擇和應(yīng)用。等離子蝕刻和等離子脫膠在半導(dǎo)體制造的前端工藝中很早就被采用。污染和照片照片清潔是濕法化學(xué)清潔方法的環(huán)保替代方法。 1 基于化學(xué)反應(yīng)的表面清洗 基于化學(xué)反應(yīng)的等離子清洗通常稱為等離子清洗PE。許多氣體的等離子體狀態(tài)可以產(chǎn)生高活性粒子。