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等離子體電子密度模擬

我們稱這三種基本形式為物質(zhì)的三種狀態(tài)。那么在氣態(tài),等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備當(dāng)溫度上升到幾千度時會發(fā)生什么?隨著物質(zhì)分子熱量的增加,碰撞使氣體分子電離,從而使物質(zhì)成為自由移動和相互作用的正離子和電子的混合物(蠟燭的火焰處于這種狀態(tài))。我們稱這種存在狀態(tài)為物質(zhì)的第四種狀態(tài),即等離子體。因?yàn)檎x子和電子在電離過程中總是成對的,所以等離子體中正離子和電子的總數(shù)大致相同,而且總體上是準(zhǔn)中性的。

等離子體清洗系統(tǒng)常用的激勵頻率有三種:40kHz、13.56mhz和20MHz;不同的等離子體激勵頻率會產(chǎn)生不同的自偏置電壓。40kHz的自偏置約為0V, 13.56mhz的自偏置約為250V, 20MHz的自偏置更低。這三種激勵頻率具有不同的機(jī)制。40kHz的反應(yīng)是物理反應(yīng),等離子體電子密度模擬13.56mhz的反應(yīng)是物理反應(yīng)和化學(xué)反應(yīng)。

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共軛匹配可以使總阻抗為純電阻,即負(fù)載阻抗Z必須為(a- JB)在在線等離子清洗機(jī)的設(shè)計中,為了將回路中的高頻電流控制在合理的數(shù)值范圍內(nèi),高頻發(fā)生器的輸出阻抗通常設(shè)計為純電阻,一般為50一般來說,高頻放電阻抗是電容阻抗,由于等離子清洗機(jī)在線反應(yīng)腔放電條件的變化,高頻放電阻抗數(shù)值發(fā)生變化,所以需要結(jié)合放電阻抗調(diào)整阻抗匹配網(wǎng)絡(luò),模擬加和器的負(fù)載阻抗,使之與高頻發(fā)電機(jī)輸出阻抗相匹配。

結(jié)合放電過程的一維數(shù)值模擬,他們認(rèn)為氮?dú)庵械木鶆蚍烹娙匀皇菧路烹?,而氦中的均勻放電是真正的輝光放電或亞輝光放電。他們還認(rèn)為,在大氣壓下均勻放電的關(guān)鍵是較低電場下大的電子雪崩的緩慢發(fā)展。因此,在放電開始前,縫隙中一定有大量的種子電子,亞穩(wěn)態(tài)的長壽命是極其重要的寧電離可以提供這些種子電子。

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&”;《高能等離子體表面涂層》、《金剛石膜涂層技術(shù)》、《表面改性與涂層過程模擬與性能預(yù)測》。等等都有突破性進(jìn)展。熱化學(xué)表面改性技術(shù)的現(xiàn)狀及發(fā)展趨勢近年來,等離子體電子密度模擬國外對可控氣氛和真空條件下的滲碳和碳氮共滲的研究得到了重視,并實(shí)現(xiàn)了工業(yè)化。但在國內(nèi)應(yīng)用較少,相關(guān)的技術(shù)研究工作還不夠。

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