手機、筆記本電腦邊框油漆不易脫落，pe可以電暈處理后幾天有效外殼粘在一起。外殼不易漆掉，文字不易褪色，手機和筆記本鍵盤粘在一起，電腦鍵盤上的文字不易漆掉。等離子體清洗技術(shù)可以有效避免化學溶劑對材料性能的破壞。在清洗材料表面時，可引入各種活性官能團，增加纖維表面粗糙度，提高纖維表面自由能，有效增強樹脂與纖維之間的結(jié)合。利用纖維界面間的結(jié)合，提高了復合材料的綜合性能。

例如，電暈處理機是明火嗎濕法處理步驟簡單易實現(xiàn)，但處理結(jié)果含有C、O、F等污染物；高溫處理可有效去除C、O等污染物，但處理溫度有待進一步優(yōu)化，后續(xù)工藝兼容性差；等離子體處理可以有效去除O、F等污染物，但處理溫度和時間不當會對表面帶來離子損傷，重構(gòu)SiC表面。

等離子體用于化學反應(yīng)時，電暈處理機是明火嗎一般采用非平衡低溫等離子體輝光放電。血漿中有更多的活性。由于大多數(shù)活性物種滲透力很小，幾乎僅限于在材料表面反應(yīng)，使材料整體不受影響，短時間內(nèi)可有效改變材料表面性質(zhì)。表面活化改性主要有等離子體聚合和等離子體處理兩種。這種差異取決于所用氣體的類型。有聚合氣體的稱為等離子體聚合，有非聚合氣體的稱為等離子體處理。在不可聚合氣體中，化學活性或非活性組分會使反應(yīng)產(chǎn)生很大差異。

二、影響清洗效果的主要因素1.電極對等離子體清洗效果的影響：電極設(shè)計對等離子體清洗效果有顯著影響，電暈處理機是明火嗎包括電極材料、布局和尺寸等因素。對于內(nèi)部電極等離子體清洗系統(tǒng)，由于電極暴露在等離子體中，某些材料的電極會被某些等離子體刻蝕或濺射，造成不必要的污染和電極尺寸的變化，較小的電極間距可以將等離子體限制在較窄的區(qū)域內(nèi)，從而獲得較高密度的等離子體，達到較快的清洗速度。

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相比較而言，等離子體設(shè)備干法刻蝕中氮化硅對金屬硅化物的選擇性比小于濕法刻蝕。通過控制工藝時間來控制刻蝕量，可以控制硅化物損傷。等離子設(shè)備應(yīng)力附近蝕刻越多，金屬硅化物損傷越嚴重，金屬硅化物的電阻越高。另一方面，由于側(cè)壁被完全或部分移除，降低了后續(xù)填充的長寬比，提高了接觸過孔停止層和層間介質(zhì)層的填充性能。。

這會使處理過的材料上鏈斷裂，產(chǎn)生交聯(lián)，從而使材料強化。離子轟擊：等離子體電場中產(chǎn)生的離子以不同的能量和速度分布在聚合物表面，會引起刻蝕和濺射，從而清潔表面基底，有效降低分子量結(jié)構(gòu)。氣態(tài)激發(fā)：氣體的電離也意味著氣體中有許多被激發(fā)的物質(zhì)。這些激發(fā)態(tài)物質(zhì)能與表面反應(yīng)生成羥基(-OH)、羰基(-C=O)、羧基（-COOH）或氨基(NHx)等官能團，這些官能團極性高，能改變表面的堿/酸相互作用。

（3）鏈轉(zhuǎn)移反應(yīng)：H+C2H6&RARR；C2H5+H2(3-29)CH3+C2H6&RARR；C2H5+CH4(3-30)CH3+E*&Rarr；CH2+H(3-31)CH2+E*&Rarr；CH+H(3-32)CH+E*&RARR；C+H(3-33)（4）鏈終止反應(yīng)：CH3+H&RARR；CH4(3-34)CH2+CH2&RARR；C2H4(3-35)CH3+CH&Rarr；C2H4(3-36)CH+CH&RARR；C2H2(3-37)低溫常壓下，純乙烷在等離子體作用下可脫氫生成乙炔；、乙烯、少量甲烷和積碳，但存在轉(zhuǎn)化率低、反應(yīng)器壁積碳等問題。

拋光鈦片表面不存在氧化膜，但空氣中鈦片表面會迅速形成鈦氧化膜。射頻等離子體處理器等離子體腔中的氮氫等離子體（如-NH2、-NH、N等）會轟擊鈦表面，使氧化鈦鍵斷裂。同時，氫等離子體會使表面氧化鈦還原，表面部分純鈦暴露在等離子體氣氛中。高能氮氫等離子體通過與鈦的再鍵形成Ti-NH2、TiN或TiN、N-O等新鍵，由于H的還原也可能在表層形成Ti-OH鍵。

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