同時(shí)，薄膜電暈處理工藝該技術(shù)具有反應(yīng)速度快、作用時(shí)間短、材料物理力學(xué)性能損失小、改性效果多樣等優(yōu)點(diǎn)，因此具有廣闊的應(yīng)用前景。低溫電暈作為一種無(wú)損表面處理技術(shù)，在高分子薄膜材料和纖維材料的表面處理方面顯示出明顯的優(yōu)勢(shì)。通過(guò)低溫電暈表面處理，可以在處理后的基底表面產(chǎn)生活性官能團(tuán)，增加表面活性。

電暈專門(mén)用于各種材料的表面改性：表面清洗、表面活化、表面刻蝕、表面接枝、表面沉積、表面聚合和電暈輔助化學(xué)氣相沉積。電暈的具體應(yīng)用1.金屬表面和氧化層的油脂、油污等有機(jī)物可以去除。2.汽車制造過(guò)程中使用的塑料和涂裝的預(yù)處理。3.電暈專門(mén)應(yīng)用于紡織品、濾網(wǎng)、膜的親水、疏水及表面改性處理。4.電暈用于電子行業(yè)電路板的清洗和蝕刻。薄膜、PP等材料。無(wú)氧化活化處理，薄膜電暈處理工藝提高可焊性。

活性氧（活性原子氧）能迅速將聚酰亞胺薄膜氧化成揮發(fā)性氣體，在薄膜電暈處理工藝過(guò)程中通過(guò)機(jī)械泵抽走，從而將聚酰亞胺薄膜從硅片上去除。電暈脫膠具有脫膠操作簡(jiǎn)單、脫膠效率高、表面清潔光滑、無(wú)劃痕、成本低、環(huán)保等優(yōu)點(diǎn)。介質(zhì)電暈刻蝕設(shè)備一般采用電容耦合電暈平行板反應(yīng)器。在平行電極反應(yīng)器中，反應(yīng)離子刻蝕腔采用小陰極面積和大陽(yáng)極面積的非對(duì)稱設(shè)計(jì)，刻蝕材料放置在面積較小的電極上。

吸附的分子隨后通過(guò)離子或自由基聚合在表面交聯(lián)，在薄膜電暈處理工藝過(guò)程中形成薄膜。在薄膜形成過(guò)程中，新形成的表面原子和分子會(huì)受到電暈中氣相群和電磁輻射的轟擊。經(jīng)典聚合物具有活性結(jié)構(gòu)，如承諾相互結(jié)合的雙鍵。甲基丙烯酸甲酯的雙鍵為聚甲基丙烯酸甲酯的形成提供了一個(gè)位點(diǎn)，聚甲基丙烯酸甲酯是可聚合分子在電暈處理?xiàng)l件下形成聚合物的一個(gè)眾所周知的例子。電暈技術(shù)還可以利用傳統(tǒng)化學(xué)方法無(wú)法聚合的材料形成聚合物。

薄膜電暈處理工藝

根據(jù)CAM產(chǎn)生的Gerber數(shù)據(jù)，通過(guò)CCD精確圖形定位，將特定的logo或阻焊油墨噴涂在電路板上，通過(guò)UVLED光源瞬間固化，完成PCB logo或阻焊油的打印過(guò)程。噴墨打印工藝和設(shè)備的主要優(yōu)點(diǎn)：01產(chǎn)品可追溯性a)滿足精益生產(chǎn)控制要求，具有唯一的流水號(hào)和二維碼逐板或批量追溯，B)可實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)在線添加識(shí)別碼、讀取板邊碼、生成流水號(hào)、二維碼等，并實(shí)時(shí)打印。

電暈表面活化；聚四氟乙烯(PTFE)材料主要用于微波面板。一般FR-4多層板孔的金屬化工藝并不實(shí)用，這主要是由于化學(xué)沉積銅之前的活化過(guò)程。目前濕法處理方法是用萘鈉絡(luò)合處理液蝕刻氣孔中PTFE的表面原子，使氣孔濕潤(rùn)；墻的用途。其難點(diǎn)在于合成困難、毒性大、處理液貯存期短。電暈處理是很好地解決這些問(wèn)題的干法工藝。電暈去除殘留物：在印刷電路板制造的某些工序中，電暈是去除非金屬殘留物的良好選擇。

電暈處理汽車發(fā)動(dòng)機(jī)油封片柴油機(jī)曲軸油封作為避免漏油的關(guān)鍵部件，越來(lái)越受到柴油機(jī)制造企業(yè)的重視。聚四氟乙烯具有耐熱、耐腐蝕、不粘、自潤(rùn)滑、介電性能優(yōu)異、摩擦阻力小等特點(diǎn)，長(zhǎng)期以來(lái)一直是目前制作骨架密封片的主要原材料之一。但未經(jīng)固溶處理的PTFE表面活性很差，與金屬材料的粘接非常困難。傳統(tǒng)的加工工藝是用鈉萘水溶液解決表層以提高其粘附能，但會(huì)在PTFE表層產(chǎn)生針孔和偏色，改變PTFE原有特性。

電暈清洗劑在LCD-COG液晶組裝工藝中的應(yīng)用在LCD的COG組裝過(guò)程中，將芯片IC安裝在ITO玻璃上，ITO玻璃上的引腳通過(guò)金球的壓縮變形與IC上的引腳連接。由于細(xì)線技術(shù)的不斷發(fā)展，已發(fā)展到生產(chǎn)螺距20μm、線10μm的產(chǎn)品。這些精細(xì)電路電子產(chǎn)品的生產(chǎn)和組裝，對(duì)ITO玻璃的表面清潔度要求非常高，要求良好的可焊性和牢固的焊接性。

在薄膜電暈處理工藝過(guò)程中

&mdash；電暈表面治療儀在表面處理過(guò)程中，薄膜電暈處理工藝在放電蒸氣中加入化學(xué)反應(yīng)蒸氣，在活化材料表面發(fā)生復(fù)雜的化學(xué)反應(yīng)。該工藝能在材料表面產(chǎn)生新的官能團(tuán)，如烴基、氨基、羧基等，它們是一些能顯著提高材料表面活性的活性基團(tuán)。電暈表面處理儀器具有大量的離子、激發(fā)態(tài)分子和許多活性粒子，如自由基等，會(huì)作用于樣品表面，并能去除樣品表面原有的污染物和雜質(zhì)。

真空（低壓）電暈(電暈)是一種依靠處于“電暈狀態(tài)”的物質(zhì)的“活化效應(yīng)”，在薄膜電暈處理工藝過(guò)程中即電暈活化，去除物體外部污漬的清洗設(shè)備。這是歸因于電子行業(yè)的干洗。在此過(guò)程中，需要真空泵制造一定的真空條件，以滿足清洗的需要。電暈清洗所需電暈主要在真空、放電等特殊場(chǎng)合通過(guò)特定氣體分子，如低壓氣體輝光電暈。