2.環(huán)氧樹脂地坪漆基材含水率測試儀:用于測量基材含水率,靜電處理器電暈機(jī)以確定是否符合環(huán)氧樹脂地坪漆的涂裝要求。3.環(huán)氧樹脂地坪漆靜電導(dǎo)率測試儀:用于測定防靜電環(huán)氧樹脂地坪漆地坪的靜電導(dǎo)率。其他輔助工具1.環(huán)氧樹脂地坪漆縫紉機(jī)、環(huán)氧樹脂地坪漆涂膠槍:用于縫隙處理,切割機(jī)用于將縫隙切割改性成“V”字體或梯形(5-10mm寬),方便灌裝澆注;膠槍用于澆注聚氨酯彈性膠。
同時,靜電處理器電暈機(jī)電子行業(yè)對自動化程度要求很高,需要采用高可靠性、高生產(chǎn)效率和處理效果的在線表面處理工藝。常壓電暈為顯示器塑料帶來了有效的解決方案,在噴涂設(shè)備上進(jìn)行防靜電、防劃傷噴涂之前,先對塑料窗口部分進(jìn)行電暈處理。由于電暈技術(shù)的應(yīng)用,材料的表面性能得到提升,涂層的分布更加均勻,不僅達(dá)到了美觀的外觀,還大大降低了生產(chǎn)過程中的廢品率。。
電暈不需要使用大量的酸、堿、有機(jī)溶劑等,電暈機(jī)能不能當(dāng)靜電處理器用不會給環(huán)境帶來任何污染,有利于環(huán)境保護(hù)和人員安全。電暈具有非常好的均勻性、重復(fù)性和可控性,并具有三維加工能力,可以選擇方向。電暈的特點(diǎn)是無正負(fù)極,自偏壓很小,不會產(chǎn)生放電污染,有效防止靜電損傷;電暈密度高,生產(chǎn)效率高;離子運(yùn)動影響小,不會產(chǎn)生UV(紫外)輻射,特別適用于一些敏感電路的清洗過程。
肖特基結(jié)和快速電荷轉(zhuǎn)移通道能有效抑制電子-空穴復(fù)合。與肖特基作用相比,電暈機(jī)能不能當(dāng)靜電處理器用某些表面電暈的振動增強(qiáng)光催化更為明顯。當(dāng)進(jìn)入金屬納米顆粒時,振蕩電場振蕩傳導(dǎo)電子,金屬表面自由振蕩的電子和光子產(chǎn)生沿金屬表面?zhèn)鞑サ碾娮用芏炔ǎ@是一種電磁表面波,即表面電暈。當(dāng)金屬離子的振蕩頻率與人體光子相同時,它們也會產(chǎn)生振動,對入射光有很強(qiáng)的吸收作用,從而引起局部表面輪廓子體振動。
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這種氧化膜不僅阻礙了半導(dǎo)體制作的許多步驟,而且含有一些金屬雜質(zhì),在一定條件下會轉(zhuǎn)移到晶圓上,構(gòu)成電缺陷。這種氧化膜的去除通常是用稀氫氟酸浸泡完成的。電暈在半導(dǎo)體晶圓清洗工藝中的應(yīng)用電暈清洗具有工藝簡單、操作方便、不處理廢物、不污染環(huán)境等優(yōu)點(diǎn)。但不能去除碳和其他非揮發(fā)性金屬或金屬氧化物雜質(zhì)。光刻膠的去除過程中常采用電暈清洗。
電暈脫膠劑實(shí)際上是在真空狀態(tài)下結(jié)合O2進(jìn)行氧化反應(yīng),從而快速脫除膠體。。電暈于1879年首次被發(fā)現(xiàn),1928年由朗繆爾命名為電暈。電暈是由大量帶電粒子相互作用但仍處于非束縛態(tài)組成的微觀系統(tǒng),是物質(zhì)除氣體、液體和固體外的第四種狀態(tài)。電暈溫度可以分別用電子溫度和離子溫度表示。低溫電暈的電離率較低,其離子溫度甚至可以與室溫相差無幾。因此,日常生發(fā)生活中有很多場景可以使用低溫電暈技能。
因此,為了解決體硅損傷問題,必須降低加速氫離子的電場強(qiáng)度。當(dāng)偏壓從80V降低到60V時,在保持多晶硅柵側(cè)壁形貌的前提下,體硅損傷可從8.5A降低到6.3A。與傳統(tǒng)的電暈表面處理器連續(xù)電暈相比,電暈表面處理器脈沖電暈可以有效降低電場強(qiáng)度。在同步脈沖電暈中,體硅損傷層厚度僅為連續(xù)電暈工藝的20%,代表了電暈刻蝕的未來方向。
但需要解決的問題是,LCM技術(shù)常出現(xiàn)樹脂在纖維上浸漬不理想、產(chǎn)品表面出現(xiàn)內(nèi)部空洞和干斑等現(xiàn)象。由此可見,樹脂在纖維表面的潤濕性將直接影響LCM成型工藝和制品性能。因此,可以考慮采用電暈清洗技術(shù)改善纖維表面的理化性能,預(yù)制件中纖維的表面自由能增加,在相同工藝條件(壓力場、溫度場等)下,樹脂可以充分浸漬纖維表面,提高浸漬均勻性,改善復(fù)合材料液態(tài)模塑的工藝性能。
靜電處理器電暈機(jī)