目前，工業(yè)上常用氣體放電產(chǎn)生等離子體，根據(jù)放電方式的不同，主要有：電暈放電、輝光放電、射頻放電（RF）、介質(zhì)阻擋放電（DBD）以及滑動(dòng)弧放電等。在材料表面處理中采用低溫等離子體，主要包括三類處理裝置：射頻真空等離子體清洗機(jī)、DBD等離子體清洗機(jī)和滑動(dòng)弧射流等離子體清洗機(jī)。下面為大家介紹這三類等離子體清洗機(jī)各自的優(yōu)勢(shì)和不足之處。不同類型等離子體清洗機(jī)優(yōu)劣勢(shì)對(duì)比如下：
射頻真空等離子體清洗機(jī)（真空）
射頻（RadioFrequency，RF）低溫等離子體是利用高頻高壓使電極周圍的氣體電離而產(chǎn)生的低溫等離子體。其特點(diǎn)是射頻放電需要在真空或亞真空條件下進(jìn)行，材料每次處理完后，取出并重新放入待處理產(chǎn)品，操作復(fù)雜，成本昂貴，但是射頻放電產(chǎn)生的等離子體分布均勻，適合處理精度要求高的材料。
真空等離子體清洗機(jī)
DBD等離子體清洗機(jī)（常壓）
DBD等離子體是利用高電壓擊穿絕緣介質(zhì)，產(chǎn)生大量隨機(jī)分布的細(xì)微脈沖電流，誘導(dǎo)形成等離子體擴(kuò)散至整個(gè)間隙，并與材料表面接觸發(fā)生反應(yīng)。DBD等離子體處理裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，可在大氣壓條件下進(jìn)行，操作簡(jiǎn)單，成本較低，但放電區(qū)存在大量微小的流光放電，產(chǎn)生的等離子體的均勻性與射頻放電相比存在一定差距，十分適合大面積材料的表面處理，如聚合物薄膜、軟包裝、片/板材、玻璃等。缺點(diǎn)是一般只適合用來(lái)處理平面，對(duì)于復(fù)雜形狀的產(chǎn)品無(wú)法適用。
DBD等離子體清洗機(jī)
滑動(dòng)弧射流等離子體清洗機(jī)（常壓）
滑動(dòng)弧射流等離子體清洗機(jī)的原理是：在兩電極上施加高壓引起電極間流動(dòng)的氣體在電極最窄部分被擊穿產(chǎn)生等離子體，氣流帶動(dòng)等離子體從噴嘴噴出并作用于材料表面產(chǎn)生表面改性?；瑒?dòng)弧射流等離子體就像火焰一般，但其平均溫度比較低，不容易對(duì)材料產(chǎn)生灼燒。相比于射頻真空等離子體清洗機(jī)和DBD等離子體清洗機(jī)，滑動(dòng)弧射流等離子體處理裝置在兼顧局部均勻性和裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單的基礎(chǔ)上，增加了裝置靈活的優(yōu)點(diǎn)，是一種很有前景的用于大規(guī)模工業(yè)化處理的方法。
射流等離子體清洗機(jī)
從產(chǎn)生等離子體的環(huán)境來(lái)看，等離子體清洗機(jī)主要分為真空類的和常壓類的兩種類型，真空類的等離子體清洗機(jī)適用性廣，處理效果也優(yōu)于常壓的，但是缺點(diǎn)是設(shè)備價(jià)格昂貴，應(yīng)用場(chǎng)景單一，適合大批量處理的材料。常壓類等離子體清洗機(jī)，應(yīng)用場(chǎng)景多變，無(wú)需真空環(huán)境，所以成本比較低，也容易實(shí)現(xiàn)工藝自動(dòng)化處理工藝。簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)，每一款等離子體清洗機(jī)都有其優(yōu)勢(shì)和短板，各自在不同的應(yīng)用場(chǎng)景發(fā)揮其自身的優(yōu)勢(shì)。24307