1.激活和蝕刻材料表面或非常薄的表面層； 2.首先將處理過的表面活化，物理氣相沉積附著力引入活性基團(tuán)，然后基本上為此采用接枝法，在原有表面上形成許多分支，形成新的表面層； 3、使用氣相聚合物在處理過的表面上沉積形成薄膜。等離子在材料表面產(chǎn)生濺射、蝕刻、腐蝕、解吸和蒸發(fā)等過程，一些粒子被注入到材料基體表面并發(fā)生碰撞、散射、激發(fā)、振動(dòng)、重排等過程，造成異構(gòu)化、缺陷、損傷、結(jié)晶和非晶化等。

使用大氣等離子清洗機(jī)化學(xué)氣相沉積金鋼石膜，物理氣相沉積附著力首要要了解金鋼石的成核過程，通常將其分為兩個(gè)階段：含碳量官能團(tuán)抵達(dá)基材表層，然后分散到基材內(nèi)部；第二階段是抵達(dá)基材表層的碳原子在基材表層上以缺陷、金鋼石子晶等為中心的成核、生長(zhǎng)；因而，決定鉆石形核的要素包括：1.基材信息：由于形核取決于基材表層碳的飽和度和抵達(dá)核心的臨界濃度，因而，基材信息的碳分散系數(shù)對(duì)形核有著重要影響。

該化學(xué)過程依賴于產(chǎn)生氣相輻射的等離子與基片表面進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)，物理氣相沉積附著力從而產(chǎn)生高壓。采用高工藝壓力進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)的等離子工藝，是由于需要高度集中于基片表面的活性反應(yīng)成分。壓力越大，化學(xué)工藝清洗速度越快。動(dòng)力：等粒子動(dòng)力增加了離子在等離子體中的密度和離子能量，從而提高了清潔速度。離子性密度是單位體積內(nèi)活性反應(yīng)的成分?jǐn)?shù)。提高離子密度可以提高清洗速度，因?yàn)榛钚苑磻?yīng)組分濃度較高。離子能決定了活性反應(yīng)的成分進(jìn)行物理操作的能力。

當(dāng)以這種方式產(chǎn)生的電子被電場(chǎng)加速時(shí)，低壓化學(xué)氣相沉積附著力它們獲得高能量并與周圍的分子或原子碰撞。結(jié)果，分子和原子中的電子被激發(fā)，它們本身變成激發(fā)態(tài)或離子態(tài)。此時(shí)，物質(zhì)存在的狀態(tài)是等離子體狀態(tài)。在輝光放電的情況下，在高頻電場(chǎng)下處于低壓狀態(tài)的氧氣、氮?dú)?、甲烷和水蒸氣等氣體分子被加速分解為原子和分子，產(chǎn)生電子和解離。這些點(diǎn)是帶正電和帶負(fù)電的原子和分子。當(dāng)以這種方式產(chǎn)生的電子被電場(chǎng)加速時(shí)，它們獲得高能量并與周圍的分子或原子碰撞。

低壓化學(xué)氣相沉積附著力

簡(jiǎn)單地如開頭說，等離子清洗需要在真空狀態(tài)下進(jìn)行，準(zhǔn)確的說是低壓狀態(tài)下，如果完全真空的話也就意味著沒有等離子體，等離子清洗也就不存在了（一般需保持在 Pa左右），所以需要真空泵進(jìn)行抽真空作業(yè)。

真空（低壓）等離子體清洗機(jī)是先將反應(yīng)室抽真空，然后引入反應(yīng)氣體，維持到一定的真空度，再對(duì)電極通電，形成高頻高壓電場(chǎng)，激發(fā)氣體放電的裝置。。激光熔覆及等離子清洗機(jī)等離子滲氮復(fù)合涂層組織活化屏；齒類零件是機(jī)械系統(tǒng)中傳遞載荷和運(yùn)動(dòng)的重要零件。在循環(huán)載荷和長(zhǎng)期磨損條件下，齒類零件常因齒面損傷或齒體損傷而失效，齒的失效直接影響機(jī)械系統(tǒng)的正常運(yùn)行。由于齒件數(shù)量多、功能大、成本高，對(duì)齒件進(jìn)行再制造具有顯著的經(jīng)濟(jì)效益。

其中Ar等離子體清洗方式主要以表面物理濺射為主。Ar離子在電場(chǎng)中獲得足夠的能量去轟擊表面，以去除表面分子和原子，使得污染物從表面去除，改善表面的粘附功，同時(shí)也會(huì)改變表面粗糖度。由于Ar是惰性氣體，不與材料表面發(fā)生反應(yīng)，能夠處理一些易于被氧化的物質(zhì)的表面。但也存在會(huì)對(duì)表面有比較大的損傷和熱效應(yīng)?！　2等離子和H2等離子都具有活拔的化學(xué)性質(zhì)，是等離子清洗中典型的化學(xué)反應(yīng)清洗。

機(jī)制也不同：超聲波等離子體產(chǎn)生的反應(yīng)是物理反應(yīng)，高頻等離子體產(chǎn)生的反應(yīng)包括物理反應(yīng)和化學(xué)反應(yīng)，微波等離子體產(chǎn)生的反應(yīng)是化學(xué)反應(yīng)。高頻等離子清洗和微波等離子清洗主要用于現(xiàn)實(shí)世界的半導(dǎo)體制造應(yīng)用，因?yàn)槌暡ǖ入x子清洗對(duì)要清洗的表面有很大的影響。超聲波等離子用于表面脫膠、毛刺研磨和其他處理。典型的等離子物理清洗工藝是在反應(yīng)室中加入氬氣作為輔助處理的等離子清洗。

氣相沉積附著力

  聚變?nèi)朔e已達(dá)到或接近達(dá)到氘-氚熱核聚變反應(yīng)的得失相當(dāng)條件，氣相沉積附著力并與氘-氚聚變點(diǎn)火條件相差不到一個(gè)量級(jí)，表明托卡馬克已具備開展燃燒等離子體物理和聚變堆集成技術(shù)研究的條件。即將建造的國(guó)際熱核聚變實(shí)驗(yàn)堆(ITER)將是開展該研究的重要實(shí)驗(yàn)裝置。