超聲波等離子的自偏壓在 0V左右，尼龍表面附著力處理劑的作高頻等離子的自偏壓在250V左右，微波等離子的自偏壓很低，只有幾十伏，3.等離子體的作用機制不同。超聲波等離子體產生的反應是物理反應，高頻等離子體產生的反應既是物理反應又是化學反應，微波等離子體產生的反應是化學反應。高頻等離子清洗和微波等離子清洗主要用于現(xiàn)實世界的半導體制造應用，因為超聲波等離子清洗對要清洗的表面有很大的影響。

當結合時，尼龍表面附著力處理劑的作氣味分子在電場的作用下被激發(fā)。如果氣味分子獲得的能量大于其分子鍵能的鍵能，則氣味分子的化學鍵斷裂，直接分解成由元素原子或單原子組成的無害氣體分子。 同時，大量具有強氧化能力的OH、HO2、O、O3等活性自由基與有害氣體分子發(fā)生化學反應，最終產生無害的產品。生成。污染復雜的大分子它可以轉化為簡單的小分子安全有害物質?；蛘?，可以將有毒有害物質轉化為無毒無毒物質，分解去除污染物。

有學者對這一機理進行了擴展，尼龍表面附著力處理劑的作認為壁和陰極發(fā)射的二次電子被加速進入光放電區(qū)，成為額外的電子源，屬于二次電子倍增現(xiàn)象。當二次電子被釋放時，如果電場反轉到一致，電離就可以有效地增強。沖擊波的作用是離子化強化的另一證據(jù)。一般認為等離子體處理設備中電極鞘界面的電子是在高頻交變電場作用下產生的。沖擊波貫穿整個等離子體處理過程，能有效地增強電離，一般表現(xiàn)為鞘層電壓和等離子體處理設備鞘層的持續(xù)波動。

當向氣體中加入足夠的能量使其電離時，尼龍表面附著力處理劑的作它就變成了等離子體狀態(tài)。等離子體的“活性”成分包括：離子、電子、活性基團、激發(fā)核素（亞穩(wěn)態(tài)）、光子等，等離子體處理器是指利用這種活性成分的性質對樣品表面進行清洗，進而達到光刻膠清洗、改性、灰化等目的。等離子體處理器的結構分為三大組成部分，即控制單元、真空腔和真空泵。

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4.清除金屬材料表面的氧化層。5.對被清洗物進行消毒、殺菌。等離子清洗機的優(yōu)點： 1.完全徹底地清除表面有機污染物。2.清洗快速、操作簡便、使用和維護成本極低。3.非破壞性、對被清洗物表面光潔度無損害。4.綠色環(huán)保、不使用化學溶劑、無二次污染。5.常溫條件下清洗，被清洗物的溫度變化微小。6.能清洗各種幾何形狀、粗糙程度各異的表面。。

每個等離子噴嘴速度保護控制點可自由設定，防止速度慢或停機造成電纜損壞;具有手動和自動控制模式，并具有低風壓保護功能;內置風機可排放廢氣，有利于清潔工作環(huán)境。等離子體清洗/蝕刻機產生等離子體裝置設置在密閉容器中,兩個電極形成電場與真空泵達到一定程度的真空,隨著氣體變得越來越薄,分子間距和自由運動分子或離子之間的距離也越來越長,電場,它們相互碰撞形成等離子體，然后產生輝光，這就是所謂的輝光放電療法。

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另一方面，封裝上的引腳通過芯片上的觸點連接，這些引腳通過印刷電路板上的導線連接到其他器件，提供內部芯片和外部電路之間的連接。.. ..同時，芯片必須與外界隔離，以防止空氣中的雜質腐蝕芯片電路，導致電氣性能惡化。在 IC 封裝過程中，芯片表面被氧化物和顆粒污染會降低產品質量。這些污染物可以通過在裝載、引線鍵合和塑料固化之前的封裝過程中進行等離子清洗來有效去除。

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