它供應 C2H6 (50vol.%) 和 CO2 (50vol.%)。在大氣壓非平衡等離子體等離子體下，cob等離子體去膠機C2H6可以在CO2氣氛中發(fā)生氧化脫氫反應，生成C2H2和C2H4。以CeO2/Y-Al2O3為催化劑時，反應溫度為973K時，可能發(fā)生CO2氧化物CH6脫氫反應。反應溫度與反應氣體的比例對反應結果有很大影響。

通常認為甲烷在等離子等離子體條件下通過兩種途徑產生乙炔： 1. CH自由基偶聯(lián)反應； 2. C2H6和C2H4的脫氫反應。如果系統(tǒng)中的 CO2 濃度不斷增加，cob等離子體去膠機大量高能電子被消耗，C2H6、C2H4與高能電子碰撞的可能性不斷降低，進一步的脫氫反應受阻，C2H4的生成進一步減少。因此，隨著體系中CO2濃度的增加，C2H6和C2H4的摩爾分數(shù)趨于增加，C2H2的摩爾分數(shù)減小。

蠟刻在纖維或紡織品表面并引入基團后，cob等離子體去膠機附著在纖維表面的分子發(fā)生氧化分解反應，分子鏈被切斷，產生并除去二氧化碳氣體。水和一些小分子被氧化形成和去除-OH和-COOH等水溶性基團物質，打破了纖維和明膠角質層形成的天然屏障。同理，可以用等離子蝕刻機去除吸管表面的角質、明膠等天然的抗溶解保護作用，所以其滲透性提高10～100倍，可用于秸稈等生物質顆粒資源的酶轉化。此外，等離子蝕刻機的低溫不會對細菌造成熱損傷。

工件表面的油脂、助焊劑、感光膜、脫模劑、沖頭油等污垢立即被氧化成CO2和H2O，cob等離子體去膠機由真空泵抽出。清潔表面并提高潤濕性和附著力。目的。低溫等離子加工設備只包含片材表面，不影響片體特性。由于低溫等離子處理設備是在高真空下清洗的，所以等離子中各種活性離子的自由度很長，滲透率高，結構復雜如細管、百葉窗等。可以加工孔。

cob等離子表面處理設備

這是PEG結構中CO鍵的特征吸收峰，表明沉積的表面層是PEG。結構類似。 1780.21CM處的吸收峰表明存在CO鍵，表明當形成類PEG結構時發(fā)生部分交聯(lián)反應。等離子處理后，與重整前相比，等離子處理后鋁板上的細菌粘附顯著減少。這是因為表面的交聯(lián)形成了 PEG 結構，并且 PEG 分子鏈的柔韌性很高。它具有細菌等大分子鏈的自由度，因此具有抵抗細菌附著的能力。

9、安全可靠“冷等離子”裝置所用電壓小于36伏，安全可靠。冷等離子體包含非常高的化學活性粒子，例如電子、離子、自由基和激發(fā)分子。廢氣中的污染物與這些具有較高能量的活性基團發(fā)生反應，最終轉化為CO2和H2O等物質，起到凈化廢氣的作用。 10、適用范圍廣，凈化能力高。特別適用于其他方法難以處理的多組分惡臭氣體，如化工、醫(yī)藥等行業(yè)。

因此，等離子體中的活性粒子與纖維材料表面發(fā)生解吸、濺射、激發(fā)、刻蝕等物理化學相互作用、交叉等化學反應。 -結合、氧化、聚合、接枝等●●等離子清潔劑通常用有機或氧化物層（例如油脂或油）“清潔”金屬表面的金屬表面。用等離子清洗機清洗油是一個逐漸分解有機大分子的過程。釬焊和PVD、CVD涂層、等離子清洗機是非常精細和徹底的表面處理設備。

等離子表面處理的條件是什么？目前，等離子表面處理在很多領域都有廣泛的應用，一些企業(yè)，尤其是從事金屬生產的企業(yè)，對這種技術的要求更高，但其應用也需要一些條件。如果您是想要使用此技能的企業(yè)主，請盡快與我們聯(lián)系！謝謝，等離子表面處理設備-應用于剛撓板有什么效果？隨著科學技術的發(fā)展，設備的精密清洗越來越離不開等離子表面處理設備。采用剛性柔性板處理。

cob等離子表面處理設備

AF、AS、AG、AR等噴涂工藝采用等離子預處理設備（通常是低溫常壓旋轉噴涂等）對基板表面進行精細的預處理清洗、蝕刻、活化等。 , 獲得非常薄的高壓。涂層的表面促進了噴涂的牢固結合和均勻的厚度。 AF、AS、AG、AR等噴涂工藝采用等離子預處理設備（通常是低溫常壓旋轉噴涂等）對基板表面進行精細的預處理清洗、蝕刻、活化等。 , 獲得非常薄的高壓。涂層的表面促進了噴涂的牢固結合和均勻的厚度。