數(shù)萬(wàn)度的高能電子與氣體分子（原子）發(fā)生非彈性碰撞，ICPplasma表面活化將能量轉(zhuǎn)化為基礎(chǔ)分子（原子）的內(nèi)能，發(fā)生激發(fā)、離解、電離等一系列過(guò)程，產(chǎn)生氣體。處于活性（化學(xué)）狀態(tài)。當(dāng)電子能量較低（<10EV）時(shí)，會(huì)產(chǎn)生活性自由基，并在面向等離子體的鏈?zhǔn)交瘜W(xué)反應(yīng)后去除活化（活化）的污染物分子。當(dāng)電子的平均能量超過(guò)污染物分子化學(xué)鍵的鍵能時(shí)，分子鍵斷裂，污染物分解。

非聚合氣體包括反應(yīng)性氣體和非反應(yīng)性氣體，ICPplasma表面活化根據(jù)等離子發(fā)生器電源的氣體分類方式不同，聚合物表面效應(yīng)的機(jī)理也不同。等離子發(fā)生器功率 等離子誘導(dǎo)聚合是指在輝光放電條件下，由活化的粒子（分子）誘導(dǎo)，明顯產(chǎn)生自由基，與分子鏈、側(cè)鏈交聯(lián)等單體結(jié)合增加。接枝、官能團(tuán)取代、嵌段聚合等。為了使用等離子體誘導(dǎo)聚合形成聚合物，單體必須包含具有聚合能量的結(jié)構(gòu)，例如雙鍵、三鍵或環(huán)狀鍵。

等離子發(fā)生器產(chǎn)生的高壓能量由噴嘴的鋼管激活（激活）和控制產(chǎn)生等離子，ICPplasma表面清洗等離子噴涂處理的物體表面具有許多物理和化學(xué)作用。同時(shí)還可以清潔表面灰塵、雜質(zhì)等有機(jī)（有機(jī)）物質(zhì)。提高性能和其他功能以實(shí)現(xiàn)表面改性、表面活化（化學(xué)）。在噴涂方面，電子工業(yè)給出了極好的（優(yōu)秀的）效果。

化學(xué)品本身有毒，ICPplasma表面清洗操作（非常）非常繁瑣且成本高昂。化學(xué)品也會(huì)影響橡膠材料固有的優(yōu)越性能。這些材料使用等離子技術(shù)進(jìn)行表面處理。高速、高能等離子體的沖擊使這些材料的結(jié)構(gòu)表面大范圍活化，同時(shí)在材料表面形成活性層，形成橡膠和塑料。它可以印刷、粘合和涂層。使用等離子處理器清洗橡膠表面，（操作）容易，變化（活化）只發(fā)生在材料表面，不影響基材的固有性能，處理均勻無(wú)害，前后無(wú)物質(zhì)處理，處理（效果）效果好，效率高，運(yùn)行成本低。

ICPplasma表面清洗

目前應(yīng)用于微埋盲孔的孔清洗工藝主要是超聲波清洗和等離子清洗，而超聲波清洗主要依靠空化效應(yīng)來(lái)達(dá)到清洗目的。去污性能加劇了廢液處理的問(wèn)題。此階段常用的工藝主要是等離子清洗工藝。等離子處理工藝簡(jiǎn)單，環(huán)保，清洗效果明顯，對(duì)盲孔結(jié)構(gòu)非常有效。在等離子清洗中，高活性等離子在電場(chǎng)的作用下有方向性地移動(dòng)，與孔壁中的鉆孔土壤發(fā)生氣硬化化學(xué)反應(yīng)，同時(shí)將產(chǎn)生的氣體產(chǎn)物和未反應(yīng)的顆粒排出。 ..氣泵。

由于等離子清洗是在高真空下進(jìn)行的，各種活性離子在等離子中的自由程很長(zhǎng)，其穿透力和穿透力都很強(qiáng)，可以加工細(xì)管、盲孔等復(fù)雜結(jié)構(gòu)...官能團(tuán)介紹：聚合物材料用N2、NH3、O2、SO2等氣體等離子體處理。這改變了表面的化學(xué)成分并引入了相應(yīng)的新官能團(tuán)（-NH2、-OH、-COOH、-）。

在料盒選擇上，常用中空料盒，在不干擾等離子氣體方向和流速的情況下，讓盡可能多的等離子氣體進(jìn)入料盒。鋁合金因其優(yōu)良的加工性能、重量輕和便于運(yùn)輸而被廣泛使用。玻璃和陶瓷材料在等離子體活化過(guò)程中更有效，但它們不利于工廠大規(guī)模生產(chǎn)中的運(yùn)輸和操作。綜上所述，等離子鍵合鋁線有利于電子封裝的可靠性，可以增加線鍵合工藝的穩(wěn)定性。

1 常壓等離子清洗機(jī)的流量控制器的選擇是根據(jù)不同的發(fā)射形式，還要確定常壓等離子清洗機(jī)發(fā)射所需的氣體條件。典型的噴射型和高頻型常壓等離子清洗機(jī)供應(yīng)提供符合特定壓力和流量要求的壓縮空氣 (CDA)，以產(chǎn)生穩(wěn)定的等離子，以確保設(shè)備正常運(yùn)行。需要這樣做。通常的流量控制方法是與壓力調(diào)節(jié)器和手動(dòng)浮子流量計(jì)一起工作，以確保工作氣壓和氣流穩(wěn)定。建議使用帶有流量控制器的專用氣源，為常壓等離子清洗機(jī)提供穩(wěn)定的工作氣體。

ICPplasma表面清洗

這個(gè)結(jié)果是通過(guò)用低溫等離子體對(duì)結(jié)表面進(jìn)行預(yù)處理而成為可能的，ICPplasma表面清洗而低溫等離子體表面處理設(shè)備將使這一工藝在連續(xù)生產(chǎn)方法和成本實(shí)現(xiàn)上最終為用戶所接受。由于在常壓下運(yùn)行，與現(xiàn)有生產(chǎn)線兼容，可實(shí)現(xiàn)連續(xù)生產(chǎn)方式。正是由于這些特點(diǎn)，深圳市洋河精密設(shè)備有限公司用于車燈制造的等離子加工設(shè)備在車燈生產(chǎn)廠家的制造中得到了廣泛的應(yīng)用。

氧離子不能用于引線鍵合應(yīng)用中，ICPplasma表面活化因?yàn)樘岣咔鍧嵥俣群颓鍧嵾x擇性是一種化學(xué)物質(zhì)。 3) 氫 氫離子引起還原反應(yīng)以去除工作表面上的氧化物。為了氫安全，我們推薦使用氫-氬混合氣體的等離子清洗工藝。處理時(shí)間 一般來(lái)說(shuō)，最短的處理時(shí)間是客戶達(dá)到最大產(chǎn)能的基本要求。然而，工藝時(shí)間不是單一因素，必須與射頻功率、腔室壓力和氣體等參數(shù)相匹配，以實(shí)現(xiàn)動(dòng)態(tài)平衡。