如前文所述,氧化表面附著力標(biāo)準(zhǔn)HBr/O2對(duì)N型摻雜多晶硅的蝕刻率比未慘雜多晶硅高20%,極易產(chǎn)生縮脖效應(yīng),因此 HBr/O2的過(guò)蝕刻量要嚴(yán)格控制,一般以30%為宜,過(guò)少的過(guò)蝕刻量會(huì)導(dǎo)致多晶硅柵側(cè)壁底部長(zhǎng)腳(Footing),過(guò)多的過(guò)蝕刻量會(huì)導(dǎo)致上部縮脖效應(yīng)加劇。 等離子表面處理機(jī)過(guò)蝕刻步驟盡管采用具有針對(duì)柵氧化硅較高蝕刻選擇比的HBr/O2蝕刻工藝,仍然容易導(dǎo)致硅穿孔(Pitting)及硅損傷。
表面的物理濺射是指等離子體中的陽(yáng)離子在電場(chǎng)中獲得能量并對(duì)表面產(chǎn)生沖擊,氧化表面附著力標(biāo)準(zhǔn)該沖擊將表面的分子碎片和原子去除,從而將污染物從表面去除。去除并且表面變得粗糙。它在分子水平上改變了微觀形態(tài),從而提高了表面的結(jié)合性能。氬氣本身是惰性氣體,等離子氬不與表面反應(yīng)。一種常用的工藝是使用氬等離子體通過(guò)物理濺射來(lái)清潔表面。用等離子體進(jìn)行物理清洗不會(huì)產(chǎn)生氧化副作用,保持被清洗物體的化學(xué)純度,并具有各向異性腐蝕作用。。
其凈化機(jī)理包括兩個(gè)方面:一是在產(chǎn)生等離子體的過(guò)程中,氧化表面附著力標(biāo)準(zhǔn)高頻放電產(chǎn)生的瞬時(shí)高能量足以打開一些有害氣體分子中的化學(xué)鍵,分解成單質(zhì)原子或無(wú)害分子;二是等離子體中含有大量高能電子、正負(fù)離子、受激粒子和氧化性強(qiáng)的自由基。這些活性粒子與一些氣味分子碰撞,在電場(chǎng)作用下使氣味分子處于激發(fā)態(tài)。當(dāng)氣味分子獲得的能量大于其分子鍵能的結(jié)合能時(shí),氣味分子的化學(xué)鍵斷裂,直接分解為單質(zhì)原子或由單個(gè)原子組成的無(wú)害氣體分子。
等離子技術(shù)擁有“無(wú)限的法力”,氧化表面附著力標(biāo)準(zhǔn)但它仍然廣泛應(yīng)用于像彩色熒光燈一樣可以為人類帶來(lái)無(wú)限清潔能量的可控融合,以及芯片制造行業(yè)必不可少的蝕刻機(jī)。需要……幾十年等離子等離子技術(shù)發(fā)展后,其獨(dú)特的“法力”更加驚人,但我國(guó)對(duì)等離子行業(yè)的應(yīng)用仍缺乏熱情。等離子體是物質(zhì)的第四種狀態(tài),不同于固體、液體和氣體。物質(zhì)由分子組成,分子由原子組成,原子由帶正電的原子核及其周圍帶負(fù)電的電子組成。
氧化表面附著力標(biāo)準(zhǔn)
懶惰的氣體如氬氣或氦氣,因?yàn)樗幕瘜W(xué)性質(zhì)是懶惰的,所以他們沒(méi)有結(jié)合表面或表面化學(xué)反應(yīng),恰恰相反,他們會(huì)打斷化學(xué)鍵在聚合物鏈通過(guò)能量,打斷了高分子鏈生成與積極重組“懸空鍵”的一部分,然后構(gòu)成重大的重組和交聯(lián)。在聚合物表面形成的“懸浮鍵”很容易發(fā)生接枝反應(yīng),這是一種現(xiàn)在應(yīng)用于生物醫(yī)學(xué)技術(shù)的技術(shù)?;罨堑入x子體化學(xué)基團(tuán)取代表面聚合物基團(tuán)的過(guò)程。
采用寬幅直線等離子清洗機(jī),幾秒內(nèi)即可實(shí)現(xiàn)一個(gè)產(chǎn)品的清洗作業(yè),清洗效果也很高。通過(guò)與我們自己的自動(dòng)化生產(chǎn)線相結(jié)合,可以顯著降低成本。 .. ..全寬度線性等離子清洗機(jī)功能通過(guò)允許隨時(shí)執(zhí)行下一個(gè)制造過(guò)程而無(wú)需在清潔后干燥目標(biāo)部件,從而提高了制造效率。通過(guò)對(duì)加工零件進(jìn)行有效清洗,可以防止使用清洗劑對(duì)人體造成傷害。。
原子團(tuán)等自由基與物體表面的反應(yīng): 由于這些自由基呈電重型,存在壽命較長(zhǎng),而且在離子體中的數(shù)量多于離子,因此自由基在等離子體中發(fā)揮著重要作用,自由基的作用主要表現(xiàn)在化學(xué)反應(yīng)過(guò)程中能量傳遞的"活化"作用,處于激發(fā)狀態(tài)的自由基具有較高的能量,因此易于與物體表面分子結(jié)合時(shí)會(huì)形成新的自由基,新形成的自由基同樣處于不穩(wěn)定的高能量狀態(tài),很可能發(fā)生分解反應(yīng),在變成較小分子同時(shí)生成新的自由基,這種反應(yīng)過(guò)程還可能繼續(xù)進(jìn)行下去,最后分解成水、二氧化碳之類的簡(jiǎn)單分子。
高臺(tái)清洗后與低臺(tái)通訊,低臺(tái)等離子清洗,高臺(tái)返回接收位置。 (D) 物料交換通道上的物料由物料輸送系統(tǒng)輸送到裝卸傳動(dòng)系統(tǒng),通過(guò)壓輥和皮帶返回料箱完成該過(guò)程。物料推送組織推送下一層物料執(zhí)行下一道工序。隨著微電子技術(shù)的不斷發(fā)展,處理器芯片的頻率越來(lái)越高,功能越來(lái)越強(qiáng)大,引腳越來(lái)越多,芯片特性的規(guī)模越來(lái)越小,封裝也發(fā)生了變化……在線等離子清洗機(jī)也越來(lái)越受歡迎,以提高產(chǎn)品性能。
氧化表面附著力標(biāo)準(zhǔn)