激發(fā)頻率為40kHz的等離子體為超聲波等離子體，pp附著力問(wèn)題怎么辦反應(yīng)為物理反應(yīng)，清洗系統(tǒng)的離子密度低。等離子體13.56MHz的主體是高頻等離子體，等離子體的反應(yīng)是物理和化學(xué)的，離子密度和能量都很高。 2.45GHz等離子體為微波等離子體，離子濃度高，反應(yīng)為化學(xué)反應(yīng)。

例如，塑膠上pp附著力促進(jìn)劑氧等離子體的密度受放電功率的影響很大。 (4)暴露時(shí)間：待清洗材料在等離子體中的暴露時(shí)間對(duì)其表面清洗效果和等離子體工作效率影響很大。曝光時(shí)間越長(zhǎng)，清洗效果越高，但工作效率越低。此外，長(zhǎng)時(shí)間清潔會(huì)損壞材料表面。 (5)傳輸速度：在常壓等離子清洗過(guò)程中，處理大型物體時(shí)，會(huì)出現(xiàn)連續(xù)傳輸?shù)膯?wèn)題。因此，被清洗物與電極的相對(duì)運(yùn)動(dòng)速度越慢，處理效果就越高，但如果速度太慢，就會(huì)影響工作效率。

優(yōu)良的熱穩(wěn)定性、化學(xué)穩(wěn)定性、機(jī)械強(qiáng)度。通過(guò)等離子體聚合沉積的聚合物薄膜的結(jié)構(gòu)與普通聚合物薄膜的結(jié)構(gòu)不同。等離子表面處理設(shè)備可以為自然界增添新的能力，pp附著力問(wèn)題怎么辦在多方面提高材料的性能。

因此，pp附著力問(wèn)題怎么辦在與常規(guī)等離子體相同的平均能量下，粒子的能量分布比等離子體的能量分布要好得多，并且在與靶材反應(yīng)的過(guò)程中不會(huì)損傷靶材的深層原子。由于這一優(yōu)勢(shì)，氣體簇離子束在許多方面都非常有用。等離子表面處理機(jī)的表面平滑化、表面分析、淺注入、薄膜沉積、顆粒去除、蝕刻反應(yīng)等。隨著能量的增加，從氣團(tuán)沉積過(guò)渡到氣團(tuán)蝕刻、氣團(tuán)淺注入和各種其他反應(yīng)。

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射頻(rf)電源功率低，在真空等離子體清洗機(jī)中選用的基本上是真空腔體積較小的設(shè)備，由于其使用頻率相對(duì)較高，雖然分子、離子獲得的動(dòng)能較高，無(wú)需中頻，但能量密度高，在射頻客體耦合的放電過(guò)程中，極板產(chǎn)生的自偏置受放電壓力的影響，自偏置較小。電子的功率吸收主要來(lái)自于與極板表面振蕩鞘層的相互作用。因此，射頻等離子清洗設(shè)備的激發(fā)頻率越高，電子的功率吸收相對(duì)就越高，相應(yīng)的離子轟擊能量就會(huì)降低。

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