如果我們繼續(xù)向氣體施加能量,不銹鋼油墨附著力氣體中分子的運(yùn)動(dòng)速度會(huì)進(jìn)一步加快,形成一種包括離子、自由電子、激發(fā)分子和高能分子碎片在內(nèi)的新的物質(zhì)聚集態(tài),這就是所謂的物質(zhì)第四態(tài)——“等離子體狀態(tài)”.常壓等離子體表面處理機(jī)在常壓下產(chǎn)生等離子體對(duì)產(chǎn)品表面進(jìn)行處理。大氣等離子體借助等離子噴槍,將空氣或其他工藝氣體引入噴槍,同時(shí)引入高頻高壓電流對(duì)氣體施加能量。

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它可以產(chǎn)生 H2O、CO2 和其他小而無害的物質(zhì)來凈化廢氣。長(zhǎng)期研究表明,不銹鋼油墨附著力當(dāng)一種化學(xué)物質(zhì)吸收能量(熱能、光子能、電離)時(shí),其化學(xué)性質(zhì)變得更加活躍,甚至?xí)屏?。如果吸收的能量大于化學(xué)結(jié)合能,則化學(xué)鍵可能會(huì)斷裂。

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圖1為反應(yīng)原理示意圖。等離子清洗的效果通常在滴水實(shí)驗(yàn)中直觀地體現(xiàn)出來。如圖2所示,如果加強(qiáng)不銹鋼油墨附著力等離子清洗前的接觸角約為56°,等離子清洗后的表面接觸角約為7°。在電子封裝中,等離子清洗通常采用物理和化學(xué)相結(jié)合的方法,以去除殘留在原材料制造、運(yùn)輸、預(yù)處理、芯片焊盤和引線框架表面形狀上的有機(jī)污染物增加。形成氧化物。等離子清洗設(shè)備的反應(yīng)室可分為三種主要類型。電感耦合“桶”反應(yīng)室、電容耦合“平行板”反應(yīng)室和“平行流”反應(yīng)室。

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1.1等離子清洗機(jī)運(yùn)行條件:等離子清洗過程需要足夠的氣體和反應(yīng)壓力,以及足夠的能量來高速?zèng)_擊被清洗物體的表面。等離子清洗反應(yīng)物是揮發(fā)性的、精細(xì)結(jié)合的化合物,可以用真空泵抽出。泵的容量和速度應(yīng)足夠大,以快速排出反應(yīng)的副產(chǎn)物,反應(yīng)所需的氣體應(yīng):它將立即補(bǔ)充。 2.1 如果通過的氣體中含有氧氣,反應(yīng)過程中會(huì)產(chǎn)生少量臭氧。惡臭氣體實(shí)際上是臭氧。

等離子體激發(fā)頻率分為頻率為40kHz的等離子體超聲等離子體、頻率為13.56MHz的等離子體高頻等離子體和頻率為2.45GHz的等離子體微波等離子體。超聲波等離子的自偏壓在0V左右,高頻等離子的自偏壓在250V左右,微波等離子的自偏壓很低,只有幾十伏。超聲波等離子體產(chǎn)生的反應(yīng)是物理反應(yīng),高頻等離子體產(chǎn)生的反應(yīng)既是物理反應(yīng)又是化學(xué)反應(yīng),微波等離子體產(chǎn)生的反應(yīng)是化學(xué)反應(yīng)。。

該電場(chǎng)的方向是將電子拉回平衡位置,以恢復(fù)plasma真空等離子清洗機(jī)等離子體的電中性。然而,由于慣性作用,電子并不會(huì)在平衡位置停止,而是沖過平衡位置并反向達(dá)到位移。這樣又會(huì)在相反方向引起電荷分離,產(chǎn)生反向回復(fù) 電場(chǎng),電子再次被拉回,并沖過平衡位置。如此反復(fù),電子在平衡位置附近來 回做集體振蕩。由于離子質(zhì)量較大,對(duì)電場(chǎng)的變化響應(yīng)很慢,可近似認(rèn)為不動(dòng),仍作為均勻的正電荷背底。

等離子清洗機(jī)主要應(yīng)用于電子行業(yè)的手機(jī)殼印刷、鍍膜、點(diǎn)膠等預(yù)處理,手機(jī)屏幕外觀加工;軍工航空航天電連接器表面清洗;等離子清洗機(jī)的清洗原理是在真空室中,通過射頻電源在一定壓力條件下輸送高能無序等離子體,通過等離子體轟擊被清洗產(chǎn)品的外觀,以達(dá)到清洗目的。

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