可有效加工金屬材料、半導體芯片、氧化物質(zhì)和大多數(shù)高分子材料。等離子清洗可以清洗各種幾何形狀和粗糙度的表面。可實現(xiàn)整體、局部、復雜結(jié)構(gòu)的清洗,南京大氣等離子清洗機提高材料表層的表現(xiàn)因子,提高表層的附著力;提高材料表面親水性的等離子體清洗機等離子清洗機通常用于:1。
實驗和計算表明,南京大氣等離子清洗機當電流密度為0.06A/cm2時,放電間隙逐漸增大,鞘層開始逐漸增大,當電極間隙增大到500mU時;M,鞘層厚度基本保持在215畝;M保持不變。對于等離子體區(qū)的厚度,從&μ;M至900畝;M單調(diào)增加。在射頻等離子清洗機中,等放電間隙小于500μm;M,放電等離子體由傳統(tǒng)的輝光放電結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)變?yōu)榍蕦又鲗У慕Y(jié)構(gòu),鞘層成為放電空間的主體。
相關(guān)研究僅限于等離子表面清洗機機體材料鋪貼后的放電處理,南京大氣壓低溫等離子體射流缺乏能夠分散粉末材料并對其進行改性的設(shè)備。因此,粉體材料處理市場上迫切需要一種能夠滿足粉體材料改性處理需要的設(shè)備和處理方法。以滿足工業(yè)生產(chǎn)的需要。。低溫等離子體清洗機表面改性處理技術(shù)概述;低溫等離子體能量高,可以打破或激活多孔材料表面舊的化學鍵,形成新的化學鍵,從而賦予多孔材料表面新的特性。
產(chǎn)品出廠前,南京大氣壓低溫等離子體射流+技術(shù)檢測和完善的質(zhì)檢標準,強大的研發(fā)團隊和精良的生產(chǎn)設(shè)備為同行所用。。一、常壓射流等離子清洗設(shè)備噴嘴定期檢查更換二、大氣射流等離子體處理設(shè)備噴嘴頸部定期檢查更換雖然噴嘴頸和噴嘴只有一字之差,但它們的作用是不同的。噴嘴頸部將與地線相連,可視為放電的負極。需要在等離子處理設(shè)備使用一段時間后進行檢查和更換。當噴嘴頸出現(xiàn)如下圖所示時,需要更換。三。內(nèi)部電極的檢查和更換。
南京大氣壓低溫等離子體射流
等離子爆破MEF(TIGRES,Rellingen,德國)與改進的等離子射流管結(jié)合使用,該射流管能夠向等離子中添加添加劑。電源采用低頻脈沖直流電源驅(qū)動。等離子體爆破器在內(nèi)部棒電極和外部爆破管之間產(chǎn)生一個無電位的空氣等離子體。可調(diào)節(jié)的4-6巴壓縮空氣用于將等離子體吹出鼓風管。等離子體射流的長度除受氣體壓力的影響外,還受外加功率的影響,功率范圍為60-5在00W范圍內(nèi)的調(diào)整不需要額外的冷卻。
通過形成緊密交聯(lián)層或注入含氧極性基團,使原料具有親水性、粘附性、可染性、生物相容性和電性能。采用適當?shù)墓に嚄l件對產(chǎn)品表面進行處理,可以改變產(chǎn)品表面形貌,注入各種氧基團,使產(chǎn)品表面由非極性轉(zhuǎn)變?yōu)橐欢O性。易粘接、親水性強,有助于提高粘接、涂布和印刷效果。。常壓低溫等離子體射流是近年來流行的各種氣體輝光放電產(chǎn)生的冷等離子體。
負載型過渡金屬氧化物的催化活性順序為:Na_2WO_4/Y-Al_2O_3>Cr_2O_3/Y-Al_2O_3≈Fe2O3/Y-Al2O3>TiO2/Y-Al2O3≈NiO/Y-Al2O3≈Mn2O3/Y-Al2O3>Co2O3/Y-Al_2O_3>ZnO/Y-Al_2O_3≈MoO3/Y-Al2O3≈Re_2O_7/Y-Al_2O_3負載過渡金屬氧化物的催化活性順序為NiO/Y-Al_2O_3>TiO_2/Y-Al_2O_3>Re_2O_3/Y-Al_2O_3≈Fe2O3/Y-Al2O3≈Co2O3/Y-Al2O3>MoO33/Y-Al2O3;ZnO/Y-Al2O3≈Mn2O3/Y-Al2O3>Na2WO4/Y-Al2O3≈Cr2O3/Y-A12O3。
以PP裝飾膜為基材,對PP裝飾膜表面進行低溫等離子體表面清洗改性,然后在其表面涂覆水性涂料,對PP裝飾膜表面進行等離子體改性處理PP裝飾膜是一種非極性聚合物,表面低,結(jié)晶度高,化學穩(wěn)定性好。配制過程中需要加入一些助劑,不利于油墨和涂料在其表面的附著力。因此,在實際生產(chǎn)中,有必要對其進行低溫等離子體表面清洗改性。
南京大氣壓低溫等離子體射流
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