表3-3不同催化劑在等離子體201催化劑作用下的催化活性轉(zhuǎn)化率/ %選擇性/ %收率/ %比/mol,C2H6CO2C2H4C2H2C2H4和C2H2C2H4/C2H2H2/COWithout催化劑33.822.712.425.412.70.482.3410la2o3 /Y-Al2Oy37. 518.520.832.019.80.652.7410CeO2 / Y-Al2O342.420.620.431.321.80.652.64Pd / Y - 0.1 Al2O330.024.646.76.315.97.401.46Note:反應(yīng)條件如下:催化劑用量0.7毫升,放電功率20 w(峰值電壓28 kv:頻率44 hz),流量25毫升/分鐘,飼料C2H6 (50 vol. %)和二氧化碳(50 vol. %)。
在活性自由基的作用下,二氧化硅plasma清洗設(shè)備與污染物(多為碳?xì)浠衔镂镔|(zhì))發(fā)生反應(yīng),生成一氧化碳、二氧化碳和水。(3)等離子體表面清洗方法會(huì)影響清洗(效果)。等離子體表面清洗可以增加材料表面的粗糙度,提高材料表面的附著力。等離子體化學(xué)清洗可以顯著增加材料表面含有O2、N2等類型的活性基團(tuán),提高材料表面的滲透性。是10年優(yōu)秀的等離子表面清洗設(shè)備研發(fā)生產(chǎn)廠家,因?yàn)樽吭?,所以卓越?!?/p>
等離子體等離子能量質(zhì)量密度對(duì)反應(yīng)物的影響甲烷和二氧化碳轉(zhuǎn)換,C2烴公司收益率:等離子能量密度的影響甲烷和二氧化碳的轉(zhuǎn)化率,C2烴和反應(yīng)物收益率表明,甲烷和二氧化碳的轉(zhuǎn)化率上升與能量密度的增加,這意味著增加等離子體功率,二氧化硅plasma清洗設(shè)備減少原料氣流量,即增加能量密度,有利于提高CH和C02的轉(zhuǎn)化率。當(dāng)能量密度為2200kJ/mol時(shí),CH4和CO2的轉(zhuǎn)化率分別為43.6%和58.4%。
自由基的作用主要是化學(xué)反應(yīng)的潛在能量轉(zhuǎn)移(IP)的生活過(guò)程中,自由基(IP)生活狀態(tài)的高勢(shì)能,當(dāng)結(jié)合材料表面分子形成新的自由基,自由基的新形式也在不穩(wěn)定的能源形式,當(dāng)分解成小分子形成新的自由基時(shí),二氧化硅等離子體清潔設(shè)備反應(yīng)過(guò)程可以繼續(xù)進(jìn)行,分解成簡(jiǎn)單分子如水、二氧化碳,在其他情況下,自由基與物質(zhì)的外表面,組合后形成大量的勢(shì)能,組合后的勢(shì)能又成為表面反應(yīng)的新驅(qū)動(dòng)力,導(dǎo)致材料化學(xué)中物質(zhì)的外表面又被除去。
二氧化硅等離子體清潔設(shè)備
自由基的主要性能的影響在化學(xué)反應(yīng)過(guò)程中能量傳遞的“激活”效應(yīng),在攪拌條件下自由基具有很高的能量,因此很容易將形成一個(gè)新的激進(jìn)分子和對(duì)象出現(xiàn),一種新的自由基在相同條件下不穩(wěn)定的能量,這個(gè)過(guò)程可能會(huì)繼續(xù),最終分裂成簡(jiǎn)單的分子,如水和二氧化碳。在其他情況下,自由基與物體的外部分子結(jié)合,釋放大量的結(jié)合能,這些結(jié)合能被用來(lái)啟動(dòng)新的分子反應(yīng)的驅(qū)動(dòng)力,使物體表面的物質(zhì)發(fā)生化學(xué)反應(yīng)并被去除。
在等離子體催化活化二氧化碳氧化轉(zhuǎn)化C2烴的反應(yīng)中,甲烷可以被充分活化,并且等離子體活化可以提高甲烷轉(zhuǎn)化率。在等離子體等離子體催化區(qū)域,甲烷連續(xù)熱解形成的甲基自由基選擇性吸附在催化劑和化合物的表面,生成C2烴類產(chǎn)物。提高了C2的選擇性和C2的收率。目前,利用現(xiàn)有的檢測(cè)儀器很難對(duì)等離子體催化活化反應(yīng)的機(jī)理進(jìn)行研究,因此對(duì)該反應(yīng)的研究仍處于根據(jù)實(shí)驗(yàn)結(jié)果推測(cè)和探索的初級(jí)階段。
如果您對(duì)等離子表面清洗設(shè)備有更多的疑問(wèn),歡迎咨詢我們(廣東金來(lái)科技有限公司)
如果您對(duì)等離子表面清洗設(shè)備有更多的疑問(wèn),歡迎咨詢我們(廣東金來(lái)科技有限公司)
二氧化硅等離子體清潔設(shè)備
如果您對(duì)等離子表面清洗設(shè)備有更多的疑問(wèn),二氧化硅plasma清洗設(shè)備歡迎咨詢我們(廣東金來(lái)科技有限公司)
等離子體清洗電源處理對(duì)絕緣材料表面電荷測(cè)量特性的影響:高分子材料因其優(yōu)異的電氣和機(jī)械性能而廣泛應(yīng)用于電力設(shè)備中。在金屬導(dǎo)體組成的電力系統(tǒng),高分子材料和天然氣,在導(dǎo)體一定電壓時(shí),表面的電荷積累的高分子材料很容易由于導(dǎo)體表面上的小毛刺或高分子材料中的雜質(zhì),這叫做表面電荷。表面電荷的存在對(duì)材料的絕緣性能有重要影響。它不僅使自身周圍的電場(chǎng)發(fā)生畸變,二氧化硅plasma清洗設(shè)備而且為表面放電提供了放電充放電通道,導(dǎo)致高壓擊穿。
73847384