目前人工電暈的方法多為輻射激發(fā)，pet薄膜的電暈處理包括射頻輝光放電(10～MHZ，簡稱RF）和微波放電(1GHz以上，簡稱MW)。在高分子材料的表面改性中，兩者同時使用。射頻放電電暈更常用，但MW模式產(chǎn)生的低壓電暈在分布和材料表面處理上更均勻。
在極短的時間內(nèi)將污染物分解，pet薄膜的電暈處理電離、解離、激發(fā)，進而引發(fā)一系列復(fù)雜的物理化學(xué)反應(yīng)，使復(fù)雜的大分子污染物轉(zhuǎn)化為簡單的小分子安全物質(zhì)，或惡臭的氣體有害物質(zhì)轉(zhuǎn)化為無味無害的氣體。設(shè)備特點：1、高效廢氣凈化：該設(shè)備可高效去除揮發(fā)性有機物(VOC)、無機物、硫化氫、氨、硫醇等主要污染物。2.無需添加任何物質(zhì)：低溫等。離子體廢氣處理為干法凈化工藝，這是一種全新的凈化工藝。
電暈處理取代了傳統(tǒng)的高錳酸鉀化學(xué)處理方法，pet薄膜的電暈處理（電暈）無論消耗、控制、環(huán)保都占主導(dǎo)地位。更重要的是激光鉆出的小孔，氣體電暈容易進入，而化學(xué)物質(zhì)很難進入。在用氣方面，一年下來，僅用幾瓶就能替代整個生產(chǎn)過程中上千升的化學(xué)品消耗。電暈處理印刷電路板每平方米的總成本只有高錳酸鉀的一半。進一步開發(fā)同系統(tǒng)技術(shù)，（電暈）預(yù)先設(shè)定工藝參數(shù)。可處理環(huán)氧樹脂、聚酰亞胺、聚四氟乙烯。
一、金屬表面除油清洗在使用濺射、噴漆、鍵合、電焊、釬焊、PVD、CVD、CVD等涂層前，pet薄膜能否進行電暈處理金屬表面往往會有一些油脂、油漬等有機物和氧化層，必須通過電暈刻蝕處理，才能獲得完全清潔的無氧化層。在這種情況下對電暈刻蝕機進行適當(dāng)?shù)奶幚頃a(chǎn)生以下結(jié)果：1.灰化表層有（機）層表面將受到化學(xué)轟擊。B污染物在真空和瞬時高溫下部分蒸發(fā)。C在高能離子的沖擊下，污染物被粉碎，并被真空帶出。紫外線輻射對污染物的損害。
pet薄膜能否進行電暈處理
基座表面處理主要面向集成電路IC封裝生產(chǎn)過程，取出引線鍵合和倒裝芯片封裝，主動取出材料箱內(nèi)的柔性板并通過電暈進行清洗，去除數(shù)據(jù)表面污染，不受人為干擾。已經(jīng)，這臺設(shè)備的效率如此之高，讓我們具體了解一下在線電暈清洗設(shè)備的工藝流程：(a)將4個裝滿柔性板的料箱放置在上料取料通道上，推料設(shè)備將前面的料片推出至上料卸料傳動系統(tǒng)。
當(dāng)粘合劑很好地滲透在粘合產(chǎn)品的表面時（接觸角θ90℃)時表面的粗糙化不利于結(jié)合強度的提高。電暈處理設(shè)備可以有效清潔附著在物體表面的污染物和無機物，增強產(chǎn)品表面的親水性，從而增強粘接、涂覆、涂裝等處理過程的質(zhì)量，大大提升成品成品率。
處于電暈狀態(tài)的物質(zhì)有以下幾種：高速運動的電子；處于活化狀態(tài)的中性原子、分子和原子團（自由基）；電離原子和分子；未反應(yīng)的分子、原子等，但物質(zhì)作為一個整體保持電中性。
由于電暈是常溫的，所以對設(shè)備沒有其他損壞，這無疑是客戶在選擇電暈設(shè)備時比較放心的。。電暈主要通過氣體放電產(chǎn)生電暈，電暈中含有離子、電子、自由基、紫外線等高能物質(zhì)，具有活化材料表面的作用。真空電暈的作用主要是物理作用、交聯(lián)作用和化學(xué)作用，通過物理作用最終達到產(chǎn)品加工效果。
pet薄膜的電暈處理
無機粉體與聚合物形成的復(fù)合材料可賦予體系更好的力學(xué)、光學(xué)和電學(xué)性能，pet薄膜的電暈處理越來越多地應(yīng)用于電子、生物、膜分離、催化、航空航天等高科技領(lǐng)域。傳統(tǒng)的濕法表面改性存在工藝復(fù)雜、環(huán)境友好性差等缺點。在眾多改性方法中，低溫電暈表面活化技術(shù)以其工藝簡單、無需溶劑、節(jié)能高效等優(yōu)點成為粉體處理最熱門的研究技術(shù)之一。電暈表面活化對粉體有哪些處理作用？1.改變粉體表面結(jié)構(gòu)經(jīng)過電暈處理后，粉末的結(jié)構(gòu)會發(fā)生明顯變化。
4.橡膠a.表面摩擦力：減小密封條和O形圈的表面摩擦力；B.附著力：提高膠粘劑對橡膠的附著力通過加速電暈或化學(xué)蝕刻中離子的沖擊來選擇性地改變表面形貌，pet薄膜的電暈處理從而提供更多的結(jié)合點，提高附著力。5.印刷電路板(PCB)a.清除孔內(nèi)的膠水殘留物。鍍金前必須清除孔內(nèi)的膠水殘留物。
