等離子體原理與超聲波清洗原理相同，附著力相似的原理當(dāng)模塊內(nèi)接近真空時(shí)，射頻通電，打開氣體電離，等離子體，并伴隨著輝光放電，等離子體在電場(chǎng)的作用下加速，從而在電場(chǎng)的作用下高速運(yùn)動(dòng)，表面發(fā)生物理碰撞，等離子體的能量足以去除各種污染物，同時(shí)氧離子可以將有機(jī)污染物氧化成二氧化碳和水蒸氣帶出客艙。

傳統(tǒng)的清洗方法無法去除粘接區(qū)表面的微顆粒、有機(jī)物和表面氧化物，當(dāng)切向力與附著力相等時(shí)一般采用射頻等離子火焰機(jī)清洗技術(shù)進(jìn)行清洗。等離子體是固體、液體或氣體等物質(zhì)的一種狀態(tài)。當(dāng)施加足夠的能量使氣體游離時(shí)，它就變成了等離子體。等離子體的活性成分包括離子、電子、活性基團(tuán)、受激核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。等離子體火焰機(jī)技術(shù)是利用等離子體中的活性粒子“激發(fā)(有源)原理”對(duì)樣品表面進(jìn)行處理，以達(dá)到去除物體表面污漬的目的。

使用這種等離子技術(shù)，附著力相似的原理可以根據(jù)特定的工藝需求，高效地對(duì)材料進(jìn)行表面預(yù)處理。 等離子清洗機(jī)則是物理清洗設(shè)備中的一種。它的工作原理是等離子清洗機(jī)采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對(duì)被清洗物帶來的二次污染。等離子清洗機(jī)外接一臺(tái)真空泵，工作時(shí)清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面，短時(shí)間的清洗就可以使有機(jī)污染物被徹底地清洗掉，同時(shí)污染物被真空泵抽走，其清洗程度達(dá)到分子級(jí)。

到達(dá)基板的電子一部分與離子復(fù)合，附著力相似的原理還有一部分剩余，從而在基板出現(xiàn)凈負(fù)電荷積累，這樣基板表面呈負(fù)電勢(shì)。該負(fù)電勢(shì)將排斥后續(xù)電子，同時(shí)吸引正離子。直到基板負(fù)電勢(shì)達(dá)到某個(gè)值，使離子流與電子流相等時(shí)為止。由于基板呈負(fù)電勢(shì)，則在基板與等離子體交界處形成一個(gè)由正離子構(gòu)成的空間電荷層，即離子鞘層。等離子體分類按溫度分類：高溫等離子體和低溫等離子體。高溫等離子體是高于 00℃的等離子體，如聚變、太陽(yáng)核心。

當(dāng)切向力與附著力相等時(shí)

其主要特征是：粒子間存在長(zhǎng)程庫(kù)倫相互作用；等離子體的運(yùn)動(dòng)與電磁場(chǎng)的運(yùn)動(dòng)緊密相耦合；存在極其豐富的集體效應(yīng)和集體運(yùn)動(dòng)模式。等離子體可分為熱力學(xué)平衡等離子體和非熱力學(xué)平衡等離子體。當(dāng)電子溫度 Te和離子溫度 Ti及中性粒子溫度 Tg相等時(shí)，等離子體處于熱力平衡狀態(tài)，稱之為平衡態(tài)等離子體或熱等離子體，其溫度一般在 5×103K 以上。如太陽(yáng)表面，由于處于 6000℃以上的高溫，所有的物質(zhì)均處于等離子狀。

等離子體整體呈電中性, 它是除固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)外的物質(zhì)第四種狀態(tài)。在所產(chǎn)生的等離子體中, 當(dāng)電子溫度與離子溫度及氣體溫度相等時(shí), 該等離子體稱為平衡等離子體或高溫等離子體;當(dāng)電子溫度遠(yuǎn)高于離子溫度和氣體溫度時(shí), 該等離子體為非平衡等離子體或低溫等離子體。目前, 用于材料表面改性的主要是低溫等離子體。

與固相、液相、氣相不同，被稱為物質(zhì)存在的第四態(tài)，也就是這些物質(zhì)在字宙中絕大多數(shù)物質(zhì)的存在狀態(tài)。

真空等離子體設(shè)備的表面處理通常是等離子體作用的一種，它引起表面分子結(jié)構(gòu)或原子排列的變化。等離子體處理可以在低溫下產(chǎn)生高活性基團(tuán)，甚至在惰性環(huán)境，如氧或氮。在這一過程中，等離子體還會(huì)產(chǎn)生高能紫外光，與快速生成的離子和電子一起，提供打破聚合物鍵和產(chǎn)生表面化學(xué)反應(yīng)所需的能量。在這個(gè)化學(xué)過程中，只有材料表面的幾個(gè)原子層參與其中，聚合物的體積特性使其能夠保持變形。

當(dāng)切向力與附著力相等時(shí)

在等離子體產(chǎn)生的詳細(xì)過程中，當(dāng)切向力與附著力相等時(shí)大氣壓等離子體清潔器通過槍電極將水和無油壓縮空氣或 CDA 電離形成等離子體。在真空等離子清洗機(jī)中，首先將反應(yīng)室抽真空至真空狀態(tài)，然后通入反應(yīng)氣體，使反應(yīng)室內(nèi)保持一定的真空度。。等離子清洗機(jī)中的等離子根據(jù)產(chǎn)生方法和溫度可分為兩類。工業(yè)活動(dòng)中使用最多的等離子清洗機(jī)所產(chǎn)生的等離子，實(shí)際上是一種人工產(chǎn)生的低溫等離子。讓我們仔細(xì)看看這兩種等離子體。

當(dāng)大氣等離子體清洗機(jī)的電場(chǎng)頻率超過1GHz時(shí)，附著力相似的原理就屬于微波放電，簡(jiǎn)稱MW放電。常用的微波放電頻率為2450MHz。。常壓等離子體清洗機(jī)表面處理技術(shù)在微電子工業(yè)中的應(yīng)用；目前，常壓等離子體清洗機(jī)表面處理技術(shù)已逐漸成為微電子工業(yè)生產(chǎn)加工中不可缺少的技術(shù)。