要完成這些基本功能，高附著力樹脂如何選擇除了對自放電方式和電極材料結(jié)構(gòu)的規(guī)定外，加工工藝中混合氣體的選擇也非常關(guān)鍵，尤其是刻蝕的基本功能。

在ICP方向上，高附著力的墨盒有什么區(qū)別學(xué)院派提出了類似的思路，即在同步脈沖的基礎(chǔ)上，在上電極（負極）或下電極（正極）上加直流。由于等離子體清洗機ICP的源射頻與偏置射頻之間的耦合可以忽略，這種直流脈沖的引入可以實現(xiàn)不同材料間高選擇性刻蝕的精確控制，達到ALE刻蝕邊界，遠優(yōu)于傳統(tǒng)的基于氣體脈沖的刻蝕ALE蝕刻4步法（吸附、排空、反應(yīng)、排空）。

活化處理工藝，高附著力的墨盒有什么區(qū)別常壓等離子體清洗機就是為此而誕生的。常壓等離子清洗機，無論是配合三軸平臺、輸送機，還是安裝在整條流水線上，都能快速激活被處理材料的一個表面。而真空等離子體設(shè)備是以其高性能，特點是質(zhì)量高、品質(zhì)優(yōu)、產(chǎn)品安全，處理效果精準全面，而且很多產(chǎn)品本身存在材料問題，無法使用像常壓等離子體設(shè)備這樣溫度相對較高的等離子體設(shè)備，此時可以選擇真空等離子體設(shè)備。

其中，高附著力樹脂如何選擇等離子態(tài)的氣體在高頻電下產(chǎn)生高速的電子直接撞擊門板表面的雜質(zhì)分子，使雜質(zhì)分子分解成小分子；另外，產(chǎn)生高速的電子與雜質(zhì)分子發(fā)生碰撞，在碰撞的過程中與等離子態(tài)氣體發(fā)生反應(yīng)。在碰撞反應(yīng)的整個過程中，氣體分子在被電流激發(fā)和電離后，分子產(chǎn)生了大量活躍粒子，這些活躍粒子與門板表面的雜質(zhì)分子因為撞擊發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，將雜質(zhì)分解成易于揮發(fā)的物質(zhì)而將其吸走。

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等離子清洗、刻蝕產(chǎn)生 plasma清洗裝置是在密封容器中設(shè)置兩個電極形成電磁場，用真空泵實現(xiàn)一定的真空度，隨著氣體越來越稀薄，分子問距及分子或離子的白由運動距離也越來越長，受磁場作用，發(fā)生碰撞而形成等離子體，同時會發(fā)生輝光。等離子體在電磁場內(nèi)空間運動，并轟擊被處理物體表面，從而達到表面處理、清洗和刻蝕的效果。

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氣體溫度為50-250℃或更低。激發(fā)分子之間會發(fā)生一系列相互作用（彈性或非彈性碰撞）。 & EMSP; & EMSP; 在電子與氣體分子的彈性碰撞中，只有少量的電子能量傳遞給氣體分子，氣體溫度升高。在非彈性碰撞中，電子會失去更多的能量并刺激內(nèi)部運動。振動、旋轉(zhuǎn)或電子躍遷等分子會產(chǎn)生離子、自由基或亞穩(wěn)態(tài)活性物質(zhì)。

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