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如果柵氧化區(qū)面積小，支架等離子體去膠柵區(qū)面積大，大面積柵收集的離子會流向小面積柵氧化區(qū)。為了保持電荷平衡，基板也必須跟隨增加。增加的倍數(shù)是柵極與柵極氧化面積的比值，放大了損傷效應。這種現(xiàn)象被稱為“天線效應”。對于柵極注入，隧穿電流和離子電流之和等于等離子體中的總電子電流。即使沒有天線的放大作用，電流也很大。只要柵氧化層的電場強度能夠產(chǎn)生隧穿電流，就會造成等離子體損傷。

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外部電子能量為了解離一個中性氣體原子，它必須大于這個結(jié)合能，但是由于外界的電子往往缺乏能量，不具備解離一個中性氣體原子的能力，所以需要使用以下方法的。提供原子電子能量的外部能量，使電子可用于解離該中性氣體中的原子。向電子添加能量的最簡單方法是使用平行電極板施加直流電壓。電極中的電子被帶正電的電極吸引和加速。在加速過程中，電子可以儲存能量。當能量達到一定水平時，它具有解離中性氣體原子的能力。

其優(yōu)異的過濾性能如高溫、高濕、高腐蝕、特殊氣體中的有機液體等，可廣泛應用于冶金、化工、煤炭、水泥等行業(yè)。這是一種用于實現(xiàn)耐高溫的薄膜材料。復合過濾材料。然而，其極低的表面活性和出色的非粘附性使其難以與基質(zhì)材料一起配制并限制了其使用。選擇近年來，利用等離子體進行PTFE表面處理的研究不斷取得進展，結(jié)果表明等離子體表面處理可以提高PTFE薄膜的粘度，主要影響因素如下。等離子表面處理功率越大越好。

工作壓力對等離子清洗效果的干擾 工作壓力對等離子清洗效果的干擾：工作壓力是等離子清洗的重要參數(shù)之一。壓力的增加意味著等離子體密度的增加和平均粒子能量的降低。提高以化學反應為主的等離子密度可以顯著提高等離子系統(tǒng)的清洗速度，但以物理影響為主的等離子清洗系統(tǒng)的效果尚不清楚。此外，壓力的變化可能會改變等離子清洗反應的機理。

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