通過幾次試驗(yàn)發(fā)現(xiàn)，電暈機(jī)和靜電區(qū)別真空等離子體刻蝕設(shè)備某些參數(shù)的改變，既能滿足上述刻蝕要求，又能形成一定的氮化硅層，即側(cè)壁刻蝕。。等離子體化學(xué)催化只有當(dāng)分子的能量超過活化能時(shí)才能產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)。在傳統(tǒng)化學(xué)中，這種能量是通過分子之間或分子與壁之間的碰撞來傳遞的。

二、影響清洗效果的主要因素1.電極對等離子體清洗效果的影響：電極設(shè)計(jì)對等離子體清洗效果有顯著影響，電暈機(jī)和靜電發(fā)生器的區(qū)別包括電極材料、布局和尺寸等因素。對于內(nèi)部電極等離子體清洗系統(tǒng)，由于電極暴露在等離子體中，某些材料的電極會(huì)被某些等離子體刻蝕或?yàn)R射，造成不必要的污染和電極尺寸的變化，較小的電極間距可以將等離子體限制在較窄的區(qū)域內(nèi)，從而獲得較高密度的等離子體，達(dá)到較快的清洗速度。

電壓降與電極比表面積的關(guān)系為VA/Vb=(Sb/Sa)&α；和指數(shù)&α；在假設(shè)的理想狀態(tài)下，電暈機(jī)和靜電區(qū)別范圍在1.0到2.5之間，因此這個(gè)值可以作為參考，但仍缺乏作為依據(jù)。在圓形電容耦合高頻放電過程中，指數(shù)&α；也可視為在上述范圍內(nèi)。下圖為等離子體表面處理設(shè)備圓柱形射頻放電極板電壓示意圖。工業(yè)應(yīng)用的圓柱耦合射頻等離子體表面處理設(shè)備常采用圓柱石英玻璃作為其反應(yīng)室。

如果不一致，電暈機(jī)和靜電發(fā)生器的區(qū)別確保將其從生產(chǎn)線上疏散或密封，并在操作人員可及的范圍內(nèi)。使誤取誤用成為不可能，稱為換型防錯(cuò)。換模時(shí)，操作員用“換模防錯(cuò)檢查表”檢查記錄軟硬件切換已全部落實(shí)，組長互相檢查。3數(shù)量短缺增加人員的相互檢查會(huì)導(dǎo)致效率降低。然后，除了使用計(jì)數(shù)器外，還可以從以下角度考慮改進(jìn)：如果是正規(guī)產(chǎn)品，要擺放整齊。將一個(gè)包裝箱或一個(gè)料箱固定幾行、幾列、幾層，將點(diǎn)檢數(shù)量轉(zhuǎn)化為排列形狀的外觀檢查，數(shù)量確認(rèn)變得非常直觀。

電暈機(jī)和靜電發(fā)生器的區(qū)別

5.受控效果：大、寬等離子體設(shè)備中的等離子體有三種效果模式。1.選擇氬/氧組合，主要針對非金屬材料，對處理效果要求較高。其次，選擇氬/氮的組合，主要針對待處理產(chǎn)品中存在不可處理金屬的區(qū)域。在該方案中，由于氧氣的強(qiáng)氧化作用，更換氮?dú)夂罂梢钥刂茊栴}。再次，只需使用氬氣即可實(shí)現(xiàn)表面改性，但效果相對較低。這種情況比較特殊，是一些工業(yè)用戶在需要均勻表面改性的同時(shí)進(jìn)行的程序。。

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