頻率選擇：在低頻的情況下，附著力大于2級(jí)液體受壓與受拉的時(shí)間變長(zhǎng)；因此空化生成的時(shí)間也長(zhǎng)，體積也長(zhǎng)，而空化閉合時(shí)所產(chǎn)生的沖擊力又與空化泡的大小成正比。所以頻率越低，空化越強(qiáng)烈。而我們用于工業(yè)清洗中的頻率一般小于60KHz，用的很多的是在20～40KHz之間。使用20KHz左右的頻率，可以得到相對(duì)小數(shù)量的空化泡，但有大的空化強(qiáng)度，并且伴有噪音，可用于清洗大部件表面與物件表面結(jié)合強(qiáng)度高的工件。

另一種方法即在光纜表面直接噴碼，附著力大路面其成本低、效率高、印字內(nèi)容及字體大小可隨時(shí)調(diào)整； 印字清晰美觀，即使出現(xiàn)噴碼錯(cuò)誤時(shí)也易于重新噴印、而且印字不會(huì)對(duì)光纜線本身性能造成影響；唯(一)的缺點(diǎn)就是粘結(jié)性能差，表面噴碼內(nèi)容容易被磨損掉。

上光工藝中UV上光相對(duì)較復(fù)雜一些，附著力大于2級(jí)出現(xiàn)的問(wèn)題可能更多一點(diǎn)，目前來(lái)說(shuō),因UV油與紙張的親和力較差，而造成在糊盒或糊箱時(shí)經(jīng)常會(huì)出現(xiàn)開膠的現(xiàn)象，而復(fù)膜后,因膜的表面張力及表面能會(huì)在不同的條件下有不同的值，大小忽異，再加上不同品牌的膠水所表現(xiàn)出的粘接性能不同，也經(jīng)常會(huì)出現(xiàn)開膠現(xiàn)象，而一旦產(chǎn)品交到客戶手上再開膠，就會(huì)有被罰款的可能，這些都令各廠家較煩惱，有的客戶為了盡量減少出現(xiàn)以上情況，不惜加大成本盡量采購(gòu)進(jìn)口或國(guó)產(chǎn)上等糊盒膠水，但如果對(duì)化學(xué)品的保管不當(dāng)，或其他原因，有時(shí)還是會(huì)出現(xiàn)開膠現(xiàn)象。

相信您對(duì)對(duì)等離子清洗機(jī)的作用、性能、性能等有或多或少的了解，附著力大路面在此先反問(wèn)一下，您對(duì)需要處理的產(chǎn)品形態(tài)特征、耐候溫度、產(chǎn)量要求、均勻度要求、加工目的、生產(chǎn)環(huán)境等方面是否有一個(gè)大概的了解，這有助于您選擇等離子清洗機(jī)品牌。

附著力大于2級(jí)

等離子清洗/生產(chǎn)等離子蝕刻機(jī)設(shè)備，在密封容器中設(shè)置兩個(gè)電極形成電場(chǎng)，在真空室中抽真空一定程度，隨著氣體越來(lái)越薄，分子之間的距離越來(lái)越遠(yuǎn)，分子或離子，自由的運(yùn)動(dòng)距離也越來(lái)越大，是一個(gè)電場(chǎng)，它們之間的碰撞形成等離子體，等離子體的活性越來(lái)越高，它的能量可以破壞幾乎所有的化學(xué)鍵，在任何暴露的表面引起反應(yīng)，不同的氣體等離子體有不同的性質(zhì)，如氧等離子體具有較高的氧化性，可以氧化光刻膠反應(yīng)產(chǎn)生的氣體，從而達(dá)到清洗的效果;刻蝕氣體等離子體具有良好的各向異性，因此可以滿足刻蝕的需要。

等離子處理系統(tǒng)：等離子表面處理機(jī)系統(tǒng)，幾乎適用于各種工藝的高效、簡(jiǎn)便的“在線”處理工藝對(duì)于那些制品的表面特性zhen對(duì)后續(xù)工藝是決定性因素的加工過(guò)程而言，等離子處理技術(shù)是一種普適而又有效的改善表面的手段?！　∵@種常壓等離子處理機(jī)技術(shù)可以有選擇性地清洗、活化、或者涂裝包括塑料、金屬、玻璃、薄膜或者織物等材料在內(nèi)的各種素材。

相比之下，等離子設(shè)備中干法刻蝕氮化硅對(duì)金屬硅化物的選擇性比小于濕法刻蝕。通過(guò)控制工藝時(shí)間和控制刻蝕量，可以達(dá)到控制硅化物損傷的目的。等離子體器件的應(yīng)力越接近蝕刻，金屬硅化物損傷越嚴(yán)重，金屬硅化物的電阻越高。另一方面，由于側(cè)墻被完全或部分去除，降低了后續(xù)填充的縱橫比，提高了后續(xù)接觸通過(guò)停止層和層間介質(zhì)層的填充性能。。

等離子刻蝕清洗機(jī)ICP刻蝕技術(shù)廣泛應(yīng)用于SiC的刻蝕應(yīng)用：反應(yīng)燒結(jié)碳化硅(RB-SiC)作為一種新型的陶瓷材料具有高的強(qiáng)度、比剛度、大熱導(dǎo)率和小膨脹系數(shù)等特點(diǎn).隨著光學(xué)技術(shù)的快速發(fā)展光學(xué)系統(tǒng)朝著大口徑、低損耗和輕量化的方向發(fā)展要求光學(xué)元件具有高分辨率、廣視場(chǎng)以及高質(zhì)量的表面形貌。。

附著力大于2級(jí)