盡管筆者稱孔的形貌平滑作為互連沒有任何問題,磷化物的親水性強弱判斷但顯然70℃~80℃的角度很難勝任14nm以下工藝技術,需要更多的新型技術和細致的研究才能更好地完成圖形定義。 除了本身可以作為半導體材料,鎵砷與磷化銦、銦鎵砷配合使用外,鎵砷半導體還可以與鋁鎵砷、鋁鎵砷磷配合使用。這類蝕刻也一般具有大的深寬比特點。

磷化物的親水性

汽車制造行業(yè)的表面處理工作非常繁重,磷化物的親水性強弱判斷現(xiàn)在要求汽車制造商負責表面工程,同時要改成出廠前的積極處理。原材料生產(chǎn)時。這種變化并不膚淺這是一個簡單的管理任務轉(zhuǎn)移,更重要的是節(jié)能、節(jié)材、環(huán)保措施??梢院喕撝冷P處理,利用軋制后的余熱降低能耗。在一些西歐國家的鋼廠,對半成品進行表面處理,如熱處理、熱鍍、磷化和鈍化。

在粘結(jié)產(chǎn)品中,磷化物的親水性強弱判斷由于氧化層(如鐵銹層)、鍍鉻層、磷化層、脫模劑形成& LDquo;弱邊界層& RDquo;而膠粘劑的表面處理也會影響粘結(jié)強度。如:聚乙烯板、厚壁管等。熱鉻酸氧化可以提高聚乙烯表面的結(jié)合強度,在70-80小時處理1-5分鐘后可獲得較好的結(jié)合表面。聚乙烯薄膜只能在室溫下用鉻酸處理。如果在以上溫度下進行,會損壞產(chǎn)品表面,甚至改變產(chǎn)品內(nèi)部結(jié)構,那么就有必要使用等離子清洗機對產(chǎn)品進行表面處理。

(2)表面處理行業(yè):電鍍前的除油除銹;離子鍍前清洗;磷化處理;清除積炭;清除氧化皮;清除拋光膏;金屬工件表面活化處理等。(3)儀器儀表行業(yè):精密零件的高清潔度裝配前的清洗等。(4)電子行業(yè):印刷線路板除松香、焊斑;高壓觸點等機械電子零件的清洗等。(5)醫(yī)療行業(yè):醫(yī)療器械的清洗、消毒、殺菌、實驗器皿的清洗等。(6)半導體行業(yè):半導體晶片的高清潔度清洗。(7)鐘表首、飾行業(yè):清除油泥、灰塵、氧化層、拋光膏等。

磷化物的親水性

磷化物的親水性

反之,當膠粘劑對被粘材料浸潤不良時(θ>90°),表面的粗糙化就不利于粘接強度的提高。2.等離子表面處理:粘接前的表面處理是粘接成功的關鍵,其目的是能獲得牢固耐久的接頭。由于被粘材料存在氧化層(如銹蝕)、鍍鉻層、磷化層、脫模劑等形成的“弱邊界層”,被粘物的表面處理將影響粘接強度。

等離子表面處理機的應用行業(yè)如下。 1.機械行業(yè):量具的清洗、機械零件的除油除銹、發(fā)動機、汽化器、汽車零部件的清洗;暢通清洗等。 2、表面處理行業(yè):電鍍前除油除銹、磷化處理、氧化皮去除、拋光膏去除、金屬工件表面活化處理等。 3、儀器儀表行業(yè):裝配前等高清潔度精密零件的清洗。 4、電子行業(yè):印刷電路板等機械電子元件的清洗、松香去除、焊點、高壓觸點等。 6、表頭及裝飾行業(yè):去除油泥、灰塵、氧化層、拋光膏等。

用 CH4 和 H2 蝕刻磷酸鹽鋼是一種早期的方法。該方法可用于大面積、大尺寸的磷化銦蝕刻。蝕刻速率相當高,但在圖案復雜密集的區(qū)域,生成的副產(chǎn)物不易揮發(fā),而且等離子蝕刻墊圈本身的等離子蝕刻氣體聚合物非常重且容易。由于蝕刻停止現(xiàn)象發(fā)生在蝕刻圖案的底部,圖案外觀變差,因此需要進一步改進CH4和H2的氣體組合,使其成為工業(yè)上適用的磷化銦蝕刻方法。

用氯氣刻蝕InP對溫度非常敏感,溫度越高,刻蝕速率越快。在低溫下,由于副產(chǎn)物較多且不易揮發(fā),當蝕刻總量過多時,副產(chǎn)物的富集作用會導致蝕刻終止(InClx難以揮發(fā))。低溫蝕刻主要是CH4和H2,由于蝕刻速率低,會出現(xiàn)蝕刻停止現(xiàn)象。因此,如何實現(xiàn)InP材料的低溫刻蝕已成為一個熱門的研究熱點。較常用的方法是將常規(guī)磷化銦蝕刻氣體與其他氣體混合。新西蘭的卡洛塔報道了這一領域的早期工作。

磷化物的親水性強弱比較

磷化物的親水性強弱比較

在粘結(jié)的產(chǎn)品中,磷化物的親水性由于氧化層(如腐蝕)、鍍鉻層、磷化層、脫模劑等“弱邊界層”粘接材料的表面處理會影響粘接強度。如聚乙烯板、厚壁管等,熱鉻酸氧化可提高在聚乙烯表面的結(jié)合強度,70-80小時處理1-5分鐘可獲得較好的結(jié)合面。聚乙烯薄膜只能在室溫下用鉻酸處理。如果在上述溫度下進行,會損傷產(chǎn)品表面,甚至改變產(chǎn)品內(nèi)部結(jié)構,因此需要使用等離子清洗機對產(chǎn)品表面進行處理。