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在磁場(chǎng)的作用下，碰撞形成等離子體，并產(chǎn)生光輝。等離子設(shè)備在電磁場(chǎng)中運(yùn)動(dòng)，并轟擊加工處理物體表面，從而達(dá)到表面處理、清潔、腐蝕的效果。相對(duì)于傳統(tǒng)的選用有機(jī)溶液的濕式清潔，等離子設(shè)備具備以下優(yōu)點(diǎn)：1.清潔對(duì)象經(jīng)等離子清洗后即干，無需再次干燥加工處理即可送到下一道工序?？商岣呷凯h(huán)節(jié)環(huán)節(jié)的加工處理效率；2.選用無線電波范圍的高頻輻射不同于直射光線，例如激光。

4.功能強(qiáng)：僅涉及高分子材料淺表面（10 - 0A ），可在保持材料自身特性的同時(shí)，賦予其一種或多種新的功能；5.低成本：裝置簡(jiǎn)單，易操作維修，可連續(xù)運(yùn)行，往往幾瓶氣體就可以代替數(shù)千公斤清洗液,因此清洗成本會(huì)大大低于濕法清洗。而且不會(huì)污染環(huán)境6.全過程可控工藝：所有參數(shù)可由PLC設(shè)置和數(shù)據(jù)記錄，進(jìn)行質(zhì)量控制。7.處理物幾何形狀無限制：大或小，簡(jiǎn)單或復(fù)雜，部件或紡織品，均可處理。。

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