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對于III-V化合物，IMEC(微電子研究中心，成員包括Intel公司、IBM公司、臺積電公司、三星公司等半導(dǎo)體業(yè)界巨頭)很早以前已經(jīng)宣布成功在等離子體蝕刻300mm(22nm)晶圓上整合磷化錮和砷化錮家，開發(fā)出 FinFET化合物半導(dǎo)體。

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