根據(jù)后整理的目的和要求,薄膜經(jīng)過電暈處理貼合可實現(xiàn)紡織品的多功能加工,大大提高產(chǎn)品的附加值。目前,其在紡織品上的應用主要有以下幾類。1)電暈表面激活劑三防光整加工傳統(tǒng)的紡織品三防整理往往需要經(jīng)過軋、烘、烤等工序,工序長、能耗大;而且,還需要昂貴的添加劑,如整理劑。因此,其加工成本較高,往往影響或犧牲整理后纖維或織物的特性和性能。

經(jīng)過電暈處理的薄膜

基于電暈電暈設備和電暈器設備在各行各業(yè)的廣泛使用,薄膜經(jīng)過電暈處理貼合總結(jié)了電暈設備和電暈器設備的應用解決方案:1.表面清洗液在真空電暈腔內(nèi),通過射頻電源在一定壓力下產(chǎn)生高能無序電暈,用電暈轟擊被清洗產(chǎn)品表面,達到清洗的目的。2.表面活化溶液經(jīng)過電暈表面后的物體,增強表面能,親水性,提高附著力,附著力。

電暈治療的優(yōu)勢和作用(1)經(jīng)過電暈處理后,薄膜經(jīng)過電暈處理貼合清洗對象已經(jīng)很干燥,不需要再次干燥;(2)不使用有害溶劑,不產(chǎn)生有害污染物,屬于有利于環(huán)境保護的綠色清洗方式;(3)無線電波范圍內(nèi)的高頻產(chǎn)生產(chǎn)生的電暈方向性弱,能穿透物體的微孔和凹陷處,特別適用于電路板生產(chǎn)中盲孔和微孔的清洗;(4)整個清洗過程可在幾分鐘內(nèi)完成,具有效率高的特點;(5)電暈清洗最大的技術特點是:不分處理對象,可以處理不同的基底;如金屬、半導體、氧化物和高分子材料(如聚丙烯、聚氯乙烯、四氟乙烯、聚酰亞胺、聚酯、環(huán)氧樹脂等聚合物)均可采用電暈處理;(6)采用電暈清洗時,可以改變材料本身的表面性能,如改善表面的潤濕性,提高膜的附著力等。

雖然設計和開發(fā)一個復雜集成電路的成本很高,薄膜經(jīng)過電暈處理貼合但當它被分配到數(shù)以百萬計的產(chǎn)品上時,每一塊IC的成本就會顯著降低。集成電路的性能要求很高,因為小的尺寸帶來了較短的路徑,這使得低功耗邏輯電路可以在較快的開關速度下應用。近年來,隨著集成電路不斷向更小的外形尺寸發(fā)展,每個芯片可以封裝更多的電路。這樣既提高了單位面積的容量,又降低了成本,增加了功能。

經(jīng)過電暈處理的薄膜

經(jīng)過電暈處理的薄膜

與電暈配合使用的氣體:電暈由于其自身的特點,在許多產(chǎn)品的生產(chǎn)中都有用武之地。在電暈的清洗過程中,需要配合不同的氣體,才能達到電暈理想的清洗效果。按氣體劃分:使用的氣體之一是惰性氣體氬(Ar)。在真空室清洗過程中,氬氣(Ar)往往能有效去除表面的納米級污染物。常用于引線鍵合、芯片鍵合銅引線框架、PBGA等工藝。如果要增強腐蝕效果,請引入氧氣(O2)。

雙層瓷殼電暈設備鍍鉻工藝如下:電暈設備;清洗;RARR;超聲波清洗;焊料清洗;流動純凈水的清洗→電解脫脂;流動純凈水的清洗→酸洗;去離子水;清洗;RARR;預電鍍鎳;去離子水;清洗;RARR;雙單脈沖鍍鎳;RARR;去離子水;清洗;RARR;預電鍍金;去離子水;清洗;RARR;單脈沖鍍金;RARR;去離子水;清洗;RARR;熱去離子水;清洗;脫水干燥。

真空電暈清洗過程中,主要依靠活性粒子的“粘附”來去除物體表面污漬。從反應機理看,電暈清洗通常包括以下過程:無機氣體被激發(fā)成電暈態(tài);氣相物質(zhì)吸附在固體表面;吸附基團與固體表面分子反應生成產(chǎn)物分子;分子分析產(chǎn)物形成氣相;反應殘留物與表層分離。

氬和氦性質(zhì)穩(wěn)定,放電電壓低(氬原子電離能E為15.57eV),容易形成亞穩(wěn)態(tài)原子。一方面,電暈利用其高能粒子的物理作用,清洗易氧化或還原的物體,Ar+轟擊污垢形成揮發(fā)性污垢,通過真空泵抽走,避免表面物質(zhì)發(fā)生反應;另一方面,亞穩(wěn)態(tài)原子容易由氬形成,然后與氧、氫分子碰撞時發(fā)生電荷轉(zhuǎn)換和結(jié)合,形成氧、氫活性原子作用于物體表面。

薄膜經(jīng)過電暈處理貼合

薄膜經(jīng)過電暈處理貼合