ICP電暈在工業(yè)上的另一個(gè)主要應(yīng)用是電暈干法刻蝕，曲面電暈處理機(jī)操作規(guī)程尤其是反應(yīng)離子刻蝕(RIE)ICP電暈干法刻蝕可以克服濕法刻蝕的嚴(yán)重鉆孔效應(yīng)和各向同性，具有選擇性、各向異性等特點(diǎn)ICP電暈還廣泛應(yīng)用于輔助磁控濺射和電子束蒸發(fā)過(guò)程中，作為離子源改善反應(yīng)條件，降低反應(yīng)溫度。電暈。低溫電暈法處理環(huán)保工程工業(yè)廢水低溫電暈處理工業(yè)廢水有三種途徑。

因此，曲面電暈處理機(jī)處理電暈作用于固體表面后，固體表面原有的化學(xué)鍵可以被打破，電暈中的自由基與這些鍵形成網(wǎng)絡(luò)交聯(lián)結(jié)構(gòu)，極大地激活了表面活性。（3）新官能團(tuán)的形成--化學(xué)作用如果在放電氣體中引入反應(yīng)性氣體，活化材料表面會(huì)發(fā)生復(fù)雜的化學(xué)反應(yīng)，引入新的官能團(tuán)，如烴基、氨基、羧基等，可以明顯提高材料的表面活性。電暈！。電暈就是利用這些活性成分的性質(zhì)對(duì)樣品表面進(jìn)行處理。

C.電子與物體表面的相互作用對(duì)物體表面的撞擊一方面可以促進(jìn)吸附在物體表面的氣體分子分解或吸附；另一方面，曲面電暈處理機(jī)處理大量的電子撞擊有利于引發(fā)化學(xué)反應(yīng)。由于電子的質(zhì)量極小，它們的運(yùn)動(dòng)速度比離子快得多。進(jìn)行電暈處理時(shí)，電子比離子更早到達(dá)物體表面，表面帶負(fù)電荷，有利于引發(fā)進(jìn)一步反應(yīng)。離子與物體表面的相互作用通常指帶正電荷的陽(yáng)離子的作用。陽(yáng)離子傾向于加速并沖向帶負(fù)電的表面。

當(dāng)電暈?zāi)芰棵芏葹?60kJ/mol時(shí)，曲面電暈處理機(jī)處理C2H6的轉(zhuǎn)化率為23.2%，C2H4和C2H2的總收率為11.6%。一般認(rèn)為，流動(dòng)電暈反應(yīng)器中高能電子的密度和平均能量主要由反應(yīng)氣體流量一定時(shí)的電暈?zāi)芰棵芏葲Q定。

曲面電暈處理機(jī)處理

整個(gè)清洗過(guò)程可在幾分鐘內(nèi)完成，因此具有收率高的特點(diǎn)；電暈清洗需要控制真空度在Pa左右，這種清洗條件很容易達(dá)到。

由于Ni-Nel的偏差&中尉；

但由于慣性，電子并沒(méi)有停在平衡位置，而是沖過(guò)平衡位置，反向位移。這反過(guò)來(lái)又導(dǎo)致相反方向的電荷分離，產(chǎn)生反向返回電場(chǎng)，在那里電子再次被拉回并沖過(guò)平衡位置。重復(fù)地，電子在平衡位置附近集體來(lái)回振蕩。由于離子質(zhì)量大，對(duì)電場(chǎng)的變化響應(yīng)較慢，因此可視為靜止不動(dòng)，仍充當(dāng)均勻正電荷返回。當(dāng)這種中性在電暈中被打破時(shí)的空間電荷振蕩。因?yàn)橐婚_(kāi)始發(fā)現(xiàn)的人是朗繆爾，所以也被稱(chēng)為“朗繆爾振蕩”。

根據(jù)反應(yīng)機(jī)理，電暈清洗一般包括：無(wú)機(jī)氣體被激發(fā)成電暈態(tài)；氣相物質(zhì)吸附在固體表面；吸附基團(tuán)與固體表面分子反應(yīng)生成產(chǎn)物分子；產(chǎn)物分子分解為氣相；產(chǎn)物分子被分離成氣相。電暈清洗設(shè)備適用于清洗、活化、蝕刻、沉積、接枝、聚合等多種材料表面改性處理；電暈活性高、效率高，不易對(duì)電子產(chǎn)品造成離子損傷。

曲面電暈處理機(jī)操作規(guī)程