低溫等離子氣體的存在根據(jù)表面的化學(xué)反應(yīng)可分為反應(yīng)性氣體和非反應(yīng)性氣體。本發(fā)明是以O(shè) 2 和N 2 等具有高化學(xué)活性的氣體為反應(yīng)物，聚乙烯亞胺附著力增強(qiáng)劑通過化學(xué)反應(yīng)直接與聚合物分子鏈鍵合，改變材料表層的化學(xué)成分。該材料。不起作用的冷等離子體主要是Ar。盡管他和其他惰性氣體不直接參與材料表面的反應(yīng)，但冷等離子體與材料表面碰撞后會形成大量聚合物自由基。另一方面，該層有效。氧與空氣中的氧一起與聚合物鏈結(jié)合，將含氧基團(tuán)引入材料的表層。

在線等離子清洗設(shè)備又稱連續(xù)不間斷等離子清洗設(shè)備。在線等離子清洗設(shè)備獨立，聚乙烯亞胺 附著力以滿足產(chǎn)品加工的均勻性和一致性，同時用于提高自動化程度。減少專為您的需求而設(shè)計的人工參與。因此，在上述獨立等離子處理設(shè)備的基礎(chǔ)上，增加了其關(guān)鍵部件：上下料推動機(jī)構(gòu)、上下料展開平臺、上下料升降系統(tǒng)、上下料傳動系統(tǒng)、上下料機(jī)構(gòu)，以及相應(yīng)設(shè)備的主機(jī)。

這種設(shè)計是靈活的，聚乙烯亞胺 附著力用戶可以移動貨架配置合適的等離子體刻蝕方法:反應(yīng)等離子體(RIE)，下游等離子體(downstream)，方向等離子體。直接等離子體，又稱反應(yīng)離子蝕刻，是等離子體的一種直接蝕刻形式。它的主要優(yōu)點是高刻蝕速率和高均勻性。直接等離子體腐蝕小，但工件暴露在射線區(qū)。下游等離子體是一種較弱的工藝，適用于去除1到5nm的厚度一個薄層。在輻射區(qū)域或等離子體中，存在對工件的損傷。

電離度在1%以上（β≥10-2）的稱為強(qiáng)電離等離子體，聚乙烯亞胺附著力增強(qiáng)劑火焰中的等離子體大部分為中性粒子（β> Ti 和 Te >> Tn，因為電子在與離子和中性粒子碰撞的過程中幾乎沒有損失能量。這種等離子體稱為冷等離子體。當(dāng)然，即使在高壓下，也可以在不引起電暈放電和電弧滑動射流放電等熱效應(yīng)的短脈沖放電模式下產(chǎn)生低溫等離子體。在大氣壓下輝光放電技術(shù)也成為世界各國研究的熱點。

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