擴(kuò)展式低溫等離子體發(fā)生器的等離子體技術(shù)；利用低溫等離子體發(fā)生器技術(shù)去除金屬、陶瓷和塑料表面的有機(jī)污染物，表面噴塑處理技術(shù)要求可明顯提高其結(jié)合性能和焊接強(qiáng)度。分離過(guò)程易于控制和安全重復(fù)。如果有效的表面處理對(duì)產(chǎn)品可靠性或工藝效率至關(guān)重要，等離子體技術(shù)是理想的。低溫等離子體發(fā)生器通過(guò)表面活化、刻蝕和表面沉積，可以改善大多數(shù)材料的性能：清潔性、親水性、隔水性、附著力、校準(zhǔn)性、潤(rùn)滑性、耐磨性。
眾所周知，表面噴塑處理技術(shù)要求其實(shí)涂膜產(chǎn)品糊盒最大的障礙是粘接時(shí)膜的表面dyne值很低。
等離子體清洗作為一種能有效去除表面污染物的制造工藝，表面噴塑處理廣泛應(yīng)用于電子元器件制造中。等離子體是成分的存在形式之一。一般成分以固體、液體和氣體三種形式存在，但在一定條件下還有第四種形式，如地球大氣層電離層中的成分。等離子體形式有以下成分：處于快速運(yùn)動(dòng)狀態(tài)的電子；處于活性狀態(tài)的中性原子、大分子和原子團(tuán)（自由基）；電離分子，大分子；一種不發(fā)生反應(yīng)，但其組成整體上仍保持電荷平衡形式的大分子、原子等。
2.復(fù)合材料經(jīng)綠色等離子清洗后，表面噴塑處理在涂層表面處于良好的可涂覆狀態(tài)，提高了涂層的可靠性，有效避免了涂層脫落和缺陷。涂覆后表面平整連續(xù)，無(wú)流痕、氣孔等缺陷，涂層附著力較常規(guī)清洗明顯提高。3.傳統(tǒng)的方法是利用物理磨削來(lái)使復(fù)合材料制品的結(jié)合表面粗糙度，從而提高復(fù)合材料部件之間的結(jié)合性能。但該方法不易均勻增加表面粗糙度，容易導(dǎo)致復(fù)合材料零件表面變形和損傷，進(jìn)而影響零件粘接面的性能。
表面噴塑處理
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與其他方法相比，它有很多優(yōu)點(diǎn)：一是它是一種干燥工藝，省去了濕化學(xué)處理工藝中不可缺少的干燥和廢水處理工序；與輻射處理、電子束處理、電暈處理等其他干燥工藝相比，其獨(dú)特之處在于其對(duì)材料的作用只發(fā)生在表層幾萬(wàn)埃至數(shù)千埃的厚度范圍內(nèi)，不僅能改變材料的表面性質(zhì)，而且不會(huì)改變體部性質(zhì)。。
此外，也有可能F2311表面經(jīng)過(guò)Ar等離子體處理后產(chǎn)生了許多自由基，這些不穩(wěn)定的自由基進(jìn)入空氣后與空氣中的氧和氮結(jié)合?？梢?jiàn)，Ar等離子體處理F2311的機(jī)理是在F2311表面形成由碳、氧、氮組成的包覆層，增加了表面O/C，改善了表面親水性。涂層是通過(guò)等離子體聚合形成的。與聚合物聚合不同，等離子體聚合是有機(jī)蒸氣在等離子體條件下的特殊過(guò)程。所形成的產(chǎn)物具有三維交聯(lián)結(jié)構(gòu)，其組成與氣氛類型和反應(yīng)條件有關(guān)。
等離子處理的表面將是干凈和整潔的，以允許膠粘劑粘合表面在粘合性上有所不同。例如，在將橡膠部件粘接到塑料工具上時(shí)。塑料和橡膠通常使用不同類型的粘合劑。這導(dǎo)致了一種情況，即相同的粘合劑被應(yīng)用于兩種原材料，以確保每個(gè)表面層是清潔和活性的。等離子體活性將自由基留在塑料或橡膠材料的表層，以使原料與粘結(jié)劑的表層具有更強(qiáng)的結(jié)合性。這類自由基產(chǎn)生于原料表面，化學(xué)上不穩(wěn)定；它們以令人難以置信的抗壓強(qiáng)度粘附在粘合劑上。
表面噴塑處理技術(shù)要求
其優(yōu)點(diǎn)是清洗后無(wú)殘?jiān)?；可防止TEM樣品在后期使用時(shí)產(chǎn)生污漬；對(duì)于（敏感）膜，表面噴塑處理用低能X射線進(jìn)行顯微分析時(shí)，不會(huì)形成吸收層；在高膨脹率下可以獲得更好的數(shù)據(jù)；比較真實(shí)表面成像和表面成分分析；成本低，操作簡(jiǎn)單；即使表面沒(méi)有污漬，也可以通過(guò)等離子體處理優(yōu)化觀察表面。此外，小型等離子等離子體清洗設(shè)備還廣泛應(yīng)用于考古、石棉分析、醫(yī)學(xué)研究、微生物工程等領(lǐng)域。
例如，表面噴塑處理氧氣的等離子體具有很高的氧化性，可以氧化光刻膠產(chǎn)生氣體，進(jìn)而達(dá)到清洗效果；腐蝕氣體等離子體具有良好的各向異性，可以滿足腐蝕的要求。當(dāng)使用等離子體處理時(shí)，會(huì)宣布輝光，因此稱為輝光放電處理。等離子清洗技術(shù)的主要特點(diǎn)是可以不考慮基片類型的處理策略它可以處理金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料，如聚丙烯、聚酯、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環(huán)氧樹(shù)脂，甚至聚四氟乙烯，可以完成所有和部件以及雜亂結(jié)構(gòu)的清潔。。
