電暈清洗工藝不需要化學(xué)試劑，電暈法處理塑料薄膜表面因此不會(huì)造成二次污染，且清洗設(shè)備重復(fù)性強(qiáng)，因此設(shè)備運(yùn)行成本低，操作靈活簡單，可實(shí)現(xiàn)金屬表面整體或部分局部、復(fù)雜結(jié)構(gòu)的清洗；電暈清洗后的某些表面性能也可得到改善，有利于后續(xù)金屬加工應(yīng)用。電暈主要依靠電暈中的電子、離子、激發(fā)態(tài)原子、自由基等活性離子，逐步分解金屬表面有機(jī)污染物的大分子，最終產(chǎn)生穩(wěn)定、易揮發(fā)、簡單的小分子，最終將附著在表面的污垢徹底分離。

同理，塑料薄膜電暈處理原理通過上述過程引入氣體、電離、反應(yīng)，表面改性成為親水性或疏水性，便于下一步噴涂。3.電暈還有一種和熱噴涂技術(shù)一起的噴涂技術(shù)，主要是直接噴涂大的金屬表面，效率和效果都非常好。。電暈技術(shù)提高了復(fù)合材料多部分之間的結(jié)合性能；在某些應(yīng)用中，需要通過粘結(jié)工藝將多個(gè)復(fù)合材料部件連接成一個(gè)整體。在此過程中，由于復(fù)合材料表面污垢、光滑或化學(xué)惰性，復(fù)合材料部件之間的粘接過程很難通過膠合來完成。

除氣體分子、離子和電子外，塑料薄膜電暈處理原理其體內(nèi)還存在電中性原子或原子團(tuán)，受能的激發(fā)態(tài)激發(fā)形成自由基，并從中發(fā)光。其中，波與物質(zhì)表面相互作用時(shí)，波的長度和能量起著重要作用。

顯然，電暈法處理塑料薄膜表面熱電暈不適合加工材料，因?yàn)榈厍蛏蠜]有任何材料能承受熱電暈的溫度。與熱電暈相比，低溫電暈的溫度僅在室溫或略高，電子溫度高于離子和原子溫度，通常可達(dá)0.1~10電子伏特。鑒于氣體壓力低，電子和離子很少碰撞，因此不能達(dá)到熱力學(xué)平衡。鑒于低溫電暈的溫度，可用于材料工業(yè)領(lǐng)域。通過輝光放電獲得低溫電暈：輝光放電應(yīng)為低壓放電，工作壓力通常小于十毫巴。

塑料薄膜電暈處理原理

由于電暈輝光放電是由真空紫外光產(chǎn)生的，對(duì)刻蝕速率有正向影響，氣體中含有中性粒子、離子和電子。中性粒子具有與溫度和電子能量相對(duì)應(yīng)的較高溫度，稱為非平衡電暈和冷電暈。它們主要表現(xiàn)為電中性（準(zhǔn)中性）氣體的高自由基和離子活性，能量足以破壞所有化學(xué)鍵，在物質(zhì)表面會(huì)表現(xiàn)出化學(xué)反應(yīng)。通常電暈中粒子的能量是幾十電子伏特。

低溫電暈可將氣體分子解離或分解為化學(xué)活性成分，與襯底固體表面反應(yīng)生成揮發(fā)性物質(zhì)，再由真空泵抽走。通常有四種材料必須蝕刻：硅（雜化硅或非雜化硅）、電介質(zhì)（如SiO2或SiN)、金屬（通常是鋁和銅）和光刻膠。每種材料的化學(xué)性質(zhì)不同。低溫電暈刻蝕是一種各向異性刻蝕工藝，可以保證刻蝕圖形的準(zhǔn)確性、特定材料的選擇性和刻蝕效果的均勻性?；钚曰鶊F(tuán)的電暈刻蝕和物理刻蝕同時(shí)發(fā)生。

3.真空電暈表面處理系統(tǒng)中電暈的種類根據(jù)溫度的不同，可分為高溫電暈和低溫電暈兩種。根據(jù)電暈產(chǎn)生所用氣體的化學(xué)性質(zhì)不同，從氣體活性程度的角度可將電暈分為活性氣體電暈和惰性氣體電暈。4.電暈對(duì)物體表面的作用真空電暈表面處理系統(tǒng)的電暈中，除了氣體分子、離子和電子外，還存在由電暈發(fā)出的能量和光激發(fā)的電中性原子或原子團(tuán)（也稱自由基）。

相信有朋友注意到了，在電暈清洗設(shè)備輝光放電過程中，真空室有時(shí)會(huì)呈現(xiàn)出不同顏色的工作環(huán)境，這主要是由于引入的氣體不同造成的。電暈使用的工藝氣體不同，電離后形成的電暈顏色也不同。常見的工藝氣體有氬氣、氧氣、氮?dú)?、二氧化碳等，電暈清洗設(shè)備引入不同的工藝氣體時(shí)，也可稱為氬電暈和氧電暈&HELLIP；&Hellip；諸如此類。

塑料薄膜電暈處理原理