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深圳市金徠技術(shù)有限公司

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硅表面的改性

提高復(fù)合材料的表面涂層性能:復(fù)合材料的成型過(guò)程需要使用脫模劑,有機(jī)硅表面附著力以保證固化后能有效地與模具分離。然而,使用脫模劑難免會(huì)使復(fù)合材料膜表面殘留過(guò)量脫模劑,造成待涂表面的污染,界面層薄弱,使涂層在涂裝后容易脫落。傳統(tǒng)的清洗方法是用丙酮等有機(jī)(機(jī))溶劑擦拭表面或打磨后清洗表面,以去除殘留在復(fù)合件表面的脫模劑。

有機(jī)硅表面附著力

首先,對(duì)有機(jī)硅表面的附著力真空泵開(kāi)始抽吸等離子清洗室內(nèi)的空氣,在等離子清洗室內(nèi)形成真空環(huán)境。隨著氣體越來(lái)越稀薄,分子內(nèi)力越來(lái)越小,分子間距和分子或離子的自由運(yùn)動(dòng)距離越來(lái)越長(zhǎng)。接下來(lái),打開(kāi)氬氣控制閥并用氬氣填充等離子清洗室。整個(gè)等離子清洗室充入氬氣,電極通電,氬氣在電場(chǎng)作用下碰撞,形成等離子分解離子。由氬等離子體產(chǎn)生的離子以足夠的能量與芯片表面碰撞,從而與有機(jī)和顆粒污染物發(fā)生反應(yīng)或碰撞,從而形成去除表面的揮發(fā)性物質(zhì)。

多系統(tǒng)技術(shù)可用于防止容易發(fā)生的半導(dǎo)體特性的電氣損壞和靜電問(wèn)題。此外,對(duì)有機(jī)硅表面的附著力由于可以根據(jù)硅晶片的尺寸產(chǎn)生大氣壓等離子體,因此即使是最小的等離子體也可以使用。。一般來(lái)說(shuō),等離子清洗機(jī)的清洗過(guò)程可以分為兩個(gè)過(guò)程。一般來(lái)說(shuō),等離子清洗機(jī)的清洗過(guò)程可以分為兩個(gè)過(guò)程。過(guò)程 1 是首先使用等離子體原理去除有機(jī)物。當(dāng)O在激活氣體分子后使用時(shí),O3通過(guò)與有機(jī)物反應(yīng)達(dá)到去除有機(jī)物的目的。

表面清潔的解決方法,有機(jī)硅表面附著力采用射頻電源,在真空等離子體空腔中產(chǎn)生高能、無(wú)序等離子體,借助等離子轟擊被清理的設(shè)備表面,使表面的污染物從設(shè)備上脫落,從而達(dá)到清理目的。另外,還有一些特殊氣體,如四氟化碳(CF4)、六氟化硫(SF6)等,這些氣體在等離子表...

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