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表面得到了清潔，天津等離子體清洗機(jī)原理圖等離子處理器工作示意圖去除了碳化氫類污物，如油脂，輔助添加劑等，或產(chǎn)生刻蝕而粗糙，或形成致密的交聯(lián)層，或引入含氧極性基團(tuán)（羥基、羧基），這些基因?qū)Ω黝愅糠蟛牧暇哂写龠M(jìn)其粘合的作用，在粘合和油漆應(yīng)用時(shí)得到了優(yōu)化。在同樣效果下，應(yīng)用等離子體處理表面可以得到非常薄的高張力涂層表面，有利于粘結(jié)、涂覆和印刷。不需其他機(jī)器、化學(xué)處理等強(qiáng)烈作用成份來(lái)增加粘合性。

長(zhǎng)時(shí)間的等離子處理（大于15分鐘），天津等離子體清洗機(jī)原理圖材料表面不但被活化還會(huì)被刻蝕，刻蝕表面具有最大潤(rùn)濕能力。常用的處理氣體為：空氣、氧氣、氬氣、氬氫混合氣體、CF4等 五、等離子涂鍍聚合在涂鍍中兩種氣體同時(shí)進(jìn)入反應(yīng)艙，氣體在等離子環(huán)境下匯聚合。這種應(yīng)用比活化和清潔的要求要嚴(yán)格一些。典型的應(yīng)用是保護(hù)層的形成，應(yīng)用于燃料容器、防刮表面、類似PTFE材質(zhì)的涂鍍、防水涂鍍等。涂鍍層非常薄，通常為幾個(gè)微米，此時(shí)表面的親和力非常好。。

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但SiO2薄膜的駐極化電荷在較高溫度下很容易丟失，且Si02薄膜具有較好的親水性，使其表面電導(dǎo)隨環(huán)境濕度的上升而急劇增大，導(dǎo)致儲(chǔ)存在SiO2薄膜表面和近表面的駐極化電荷很容易衰減，這些都制約了微型集成聲傳感器的發(fā)展。為了解決這一難題，許多學(xué)者花費(fèi)了近10年的時(shí)間，研究了兩種提高二氧化硅薄膜駐極體儲(chǔ)存電荷穩(wěn)定性的方法。

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真空等離子處理系統(tǒng)設(shè)備是適用于大規(guī)模加工的等離子處理系統(tǒng)，通過(guò)大量研發(fā)提供獨(dú)特的真空和氣流技術(shù)。使用脈沖射頻增強(qiáng)等離子聚合膜的性能是引導(dǎo)或制造加工過(guò)的基材材料的理想設(shè)備。可靠的工藝質(zhì)量、獨(dú)特的擱板設(shè)計(jì)和反應(yīng)離子在等離子體中的優(yōu)化應(yīng)用提高了工藝的均勻性并縮短了工藝時(shí)間。等離子真空處理器，適用于各種型號(hào)零部件的成本和空間。真空等離子處理系統(tǒng)設(shè)備的等離子室采用不銹鋼和鋁制夾具，經(jīng)久耐用。

根據(jù)不同的工程需要，可選用損耗程度不同的材料作陰極。如要陰極損耗盡可能小，一般采用難熔材料，但具體選擇材料時(shí)應(yīng)考慮到所使用的工作氣種類。如工作氣為氬、 氮、氫-氮、氫-氬時(shí)，常用鈰-鎢或釷－鎢作陰極；工作氣為空氣或純氧時(shí)，可用鋯或水冷銅作陰極。 圖3 等離子體弧的形式 工業(yè)上應(yīng)用的電弧等離子體炬的主要技術(shù)指標(biāo)是功率、效率和連續(xù)使用壽命。

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