目前，工業(yè)上常用氣體放電產生等離子體，根據(jù)放電方式的不同，主要有：電暈放電、輝光放電、射頻放電（RF）、介質阻擋放電（DBD）以及滑動弧放電等。在材料表面處理中采用低溫等離子體，主要包括三類處理裝置：射頻真空等離子體清洗機、DBD等離子體清洗機和滑動弧射流等離子體清洗機。下面為大家介紹這三類等離子體清洗機各自的優(yōu)勢和不足之處。不同類型等離子體清洗機優(yōu)劣勢對比如下：
射頻真空等離子體清洗機（真空）
射頻（RadioFrequency，RF）低溫等離子體是利用高頻高壓使電極周圍的氣體電離而產生的低溫等離子體。其特點是射頻放電需要在真空或亞真空條件下進行，材料每次處理完后，取出并重新放入待處理產品，操作復雜，成本昂貴，但是射頻放電產生的等離子體分布均勻，適合處理精度要求高的材料。
真空等離子體清洗機
DBD等離子體清洗機（常壓）
DBD等離子體是利用高電壓擊穿絕緣介質，產生大量隨機分布的細微脈沖電流，誘導形成等離子體擴散至整個間隙，并與材料表面接觸發(fā)生反應。DBD等離子體處理裝置結構簡單，可在大氣壓條件下進行，操作簡單，成本較低，但放電區(qū)存在大量微小的流光放電，產生的等離子體的均勻性與射頻放電相比存在一定差距，十分適合大面積材料的表面處理，如聚合物薄膜、軟包裝、片/板材、玻璃等。缺點是一般只適合用來處理平面，對于復雜形狀的產品無法適用。
DBD等離子體清洗機
滑動弧射流等離子體清洗機（常壓）
滑動弧射流等離子體清洗機的原理是：在兩電極上施加高壓引起電極間流動的氣體在電極最窄部分被擊穿產生等離子體，氣流帶動等離子體從噴嘴噴出并作用于材料表面產生表面改性?；瑒踊∩淞鞯入x子體就像火焰一般，但其平均溫度比較低，不容易對材料產生灼燒。相比于射頻真空等離子體清洗機和DBD等離子體清洗機，滑動弧射流等離子體處理裝置在兼顧局部均勻性和裝置結構簡單的基礎上，增加了裝置靈活的優(yōu)點，是一種很有前景的用于大規(guī)模工業(yè)化處理的方法。
射流等離子體清洗機
從產生等離子體的環(huán)境來看，等離子體清洗機主要分為真空類的和常壓類的兩種類型，真空類的等離子體清洗機適用性廣，處理效果也優(yōu)于常壓的，但是缺點是設備價格昂貴，應用場景單一，適合大批量處理的材料。常壓類等離子體清洗機，應用場景多變，無需真空環(huán)境，所以成本比較低，也容易實現(xiàn)工藝自動化處理工藝。簡單來說，每一款等離子體清洗機都有其優(yōu)勢和短板，各自在不同的應用場景發(fā)揮其自身的優(yōu)勢。24307