等離子清洗還具有以下特點(diǎn):易于使用數(shù)控技術(shù),熱轉(zhuǎn)印涂層附著力自動(dòng)化程度高;高精度的控制裝置,高精度的時(shí)間控制;正確的等離子清洗不會(huì)在表面產(chǎn)生損傷層,表面質(zhì)量得到保證。由于是在真空中進(jìn)行,不污染環(huán)境,保證清洗表面不受二次污染。。等離子體清洗原理及影響清洗效果的主要因素1。等離子體清洗是依靠特定物質(zhì)等離子體在高能粒狀流中的沖擊來清洗物體表面,通過物理沖擊(如氬等離子體)或化學(xué)反應(yīng)(氧等離子體)來完成清除物體表面污漬的功能。

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集成電路制造中引線鍵合的質(zhì)量對(duì)微電子器件的可靠性有重大影響。此外,熱轉(zhuǎn)印涂層的附著力粘合區(qū)域必須干凈,并具有良好的粘合性能。氧化物和有機(jī)殘留物等污染物的存在會(huì)顯著降低引線鍵合拉力值。通過寬帶等離子表面處理機(jī)使用等離子清洗,將過程中產(chǎn)生的污垢徹底去除,有效去除污垢,活化污垢表面,大大提高打線強(qiáng)度,集成電路有效提高的可靠性。設(shè)備。

3.使用三氯乙烷等ODS這種清洗方法屬于環(huán)保綠色清洗方法,熱轉(zhuǎn)印涂層的附著力因?yàn)樗褂糜泻θ軇逑春蟛粫?huì)產(chǎn)生有害污染物。隨著世界對(duì)環(huán)境保護(hù)的極大興趣,這一點(diǎn)變得越來越重要。第四,無線電范圍內(nèi)的高頻產(chǎn)生的等離子體不同于激光等直射光。等離子的方向不強(qiáng),深入到微小的孔洞和凹陷的物體內(nèi)部完成清洗工作,所以不需要考慮被清洗物體的形狀。此外,這些難清洗部位的清洗效果等同于或優(yōu)于氟利昂清洗。五。等離子清洗可用于顯著提高清洗效率。

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等離子體處理過程包括化學(xué)反應(yīng)和物理反應(yīng)?;瘜W(xué)過程:在化學(xué)等離子體過程中,自由基與被清洗物體表面的元素發(fā)生化學(xué)反應(yīng)的反應(yīng)。這些反應(yīng)的產(chǎn)物是非常小的、易揮發(fā)的分子,可以用真空泵泵出。在有機(jī)清潔應(yīng)用中,主要的副產(chǎn)品通常包括水、一氧化碳和二氧化碳?;诨瘜W(xué)反應(yīng)的等離子體清洗,清洗速度快,選擇性好,是去除有機(jī)污染物最有效的。缺點(diǎn)是氧化發(fā)生在表面。

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