等離子體清洗的原理主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化”來去除物體表面的污漬。等離子體清洗通常包括以下過程:1.無機(jī)氣體被激發(fā)成等離子體態(tài);2.氣相物質(zhì)吸附在固體表面;3.吸附基團(tuán)與固體表面分子反應(yīng)形成產(chǎn)物分子;4、產(chǎn)物分子分解成氣相;5.反應(yīng)殘留物從表面除去。

涂料附著力原理動(dòng)畫

用非聚合無機(jī)氣體(Ar2.N2.H2.02等)等離子體進(jìn)行表面反應(yīng),涂料附著力原理動(dòng)畫通過表面反應(yīng)將指定基團(tuán)引進(jìn)到表面,在經(jīng)過等離子體活(化)形成表面自由基的過程中,產(chǎn)生表面自由基,使其表面自由基位置發(fā)生進(jìn)一步反應(yīng),從而產(chǎn)生指定基團(tuán);比如過氧化氫。較常用的是在聚合物材料表面導(dǎo)人含氧基團(tuán)。例如-0路路-00路。也有人將胺基團(tuán)引進(jìn)材料表面。

利用等離子處理時(shí)會(huì)發(fā)出輝光,涂料附著力原理動(dòng)畫故稱之為輝光放電處理。等離子體處理的機(jī)理,主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達(dá)到去除物體表面污漬的目的。就反應(yīng)機(jī)理來看,等離子清洗通常包括以下過程:無機(jī)氣體被激發(fā)為等離子態(tài);氣相物質(zhì)被吸附在固體表面;被吸附基團(tuán)與固體表面分子反應(yīng)生成產(chǎn)物分子;產(chǎn)物分子解析形成氣相;反應(yīng)殘余物脫離表面。

而等離子設(shè)備采用中頻電源時(shí),無機(jī)富鋅防滑涂料附著力功率大、能量強(qiáng)、冷卻溫度高,無需加水。因此,清洗不耐溫度的材料時(shí),有必要注意溫度。等離子體設(shè)備常用的電源有兩種。一種是13.56khz的射頻電源,產(chǎn)生高等離子體密度、軟能量和低溫。

涂料附著力原理動(dòng)畫

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等離子表面清洗設(shè)備的原理是在真空狀態(tài)下,壓力越來越小,分子間間距越來越大,分子間力越來越小,利用射頻源產(chǎn)生的高壓交變電場(chǎng)將氧、氬、氫等工藝氣體震蕩成具有高反應(yīng)活性或高能量的離子,然后與有機(jī)污染物及微顆粒污染物反應(yīng)或碰撞形成揮發(fā)性物質(zhì),然后由工作氣體流及真空泵將這些揮發(fā)性物質(zhì)清除出去,從而達(dá)到表面清潔活化的目的。。

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通過活性等離子體在真空瞬時(shí)高溫條件下對(duì)孔壁中的鉆孔污染物、殘膠、油污等污染物做好物理轟擊和化學(xué)反應(yīng),使其部分蒸發(fā)或在高能離子體的沖擊下破碎,使被清洗物體的表面物質(zhì)變成顆粒和氣體物質(zhì),通過抽真空排出,達(dá)到清洗目的。

處于等離子體狀態(tài)的物質(zhì)有以下幾種:高速運(yùn)動(dòng)的電子;處于活化狀態(tài)的中性原子、分子和原子團(tuán)(自由基);電離原子和分子;未反應(yīng)的分子、原子等,但物質(zhì)作為一個(gè)整體保持電中性。

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