表3-3等離子體作用下不同催化劑的催化活性201催化劑轉(zhuǎn)化率/%選擇性/%收率/%比率/molC2H6CO2C2H4C2H2C2H4和C2H2C2H4/C2H2H2/CO無催化劑33.822.712.425.412.70.482.3410La2O3/Y-Al2Oy37.518.520.832.019.80.652.7410CeO2/Y-Al2O342.420.620.431.321.80.652.640.1Pd/Y-Al2O330.024.646.76.315.97.401.46注:反應(yīng)條件為催化劑用量0.7ml，田宮ts金屬附著力放電功率20W (峰值電壓28kV:頻率44Hz)，流速25 ml/min，進(jìn)料為C2H6(50vol.%) 和CO2 (50vol.%)。
2004年，田宮TS噴灌附著力蓋姆等人以石墨為原料，獲得了一系列被稱為二維原子晶體的新材料&ldquo；石墨烯）&rdquo；.&ldquo；石墨烯&rdquo；又名&ldquo；單層石墨板；它是指包裹在蜂窩狀晶格中的致密碳原子層，碳原子以二維結(jié)構(gòu)排列，類似石墨的單原子層。海姆等人。
低溫等離子清洗機(jī)在清洗方面具有以下特點:(1)環(huán)保節(jié)能，田宮ts金屬附著力與傳統(tǒng)的濕式清洗技術(shù)相比，等離子清洗技術(shù)為干式工藝，不消耗水和化學(xué)試劑，降低(低)成本，無二次污染(2)具有在線生產(chǎn)能力，可以完全自動化處理,節(jié)省人力,處理時間短,效率高,成本低;(3)無論基質(zhì)的類型,可以被處理,可以處理更復(fù)雜的形狀的材料,材料表面處理均勻性很好。
使用等離子清洗機(jī)，田宮TS噴灌附著力你可以從而大大提高了清洗效率。整個清洗過程可在幾分鐘內(nèi)完成，因此具有收率高的特點。等離子體清洗設(shè)備的使用避免了清洗液的運輸、儲存、排放等處理措施，易于保持清潔衛(wèi)生。。等離子體表面活化清洗設(shè)備作為一種干洗方法，具有濕法清洗無法比擬的優(yōu)勢。等離子清洗機(jī)不僅可以清洗材料表面，還可以活化材料表面，有利于材料下一步的涂層和粘結(jié)。
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在內(nèi)部電極等離子清洗系統(tǒng)的情況下，電極與等離子之間的接觸會導(dǎo)致某些材料的電極被某些等離子腐蝕或濺射，造成不必要的污染，調(diào)整電極尺寸并影響等離子清洗系統(tǒng)。穩(wěn)定的。電極的放置對等離子體的清潔速度和均勻性有顯著影響?？s小電極間距可以將等離子體限制在更小的區(qū)域內(nèi)，從而實現(xiàn)更高的密度和更快的清潔速度。間隔時間越長，清掃速度越慢，但越均勻。等離子系統(tǒng)中電極的尺寸決定了系統(tǒng)的整體容量。
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