例如,PVA附著力近年來,隨著熱塑性彈性體技術(shù)的不斷發(fā)展和成熟,TPO、TPV等新型熱塑性彈性體在汽車密封條中的應用越來越廣泛。這些材料不僅具有彈性體的優(yōu)良性能,還具有塑料易于加工、可回收、可重復使用的優(yōu)良性能,正在逐步取代EPDM產(chǎn)品。典型的車門密封件由共擠固體載體和海綿橡膠管密封件組成,海綿部分被車身門框壓縮以提供密封功能。但是,如果車速很高,外部壓力可能會超過海綿的最大密封力,密封可能會破裂。

PVA附著力

經(jīng)等離子表面處理設備清洗后,PVA附著力可對產(chǎn)品表面進行改性(活化),提高剛性柔性粘接板的性能。。金屬表面經(jīng)常有油脂、油脂等有機物和氧化層,在濺射、噴涂、粘接、焊接、釬焊及PVD、CVD涂層前,需要用等離子體處理使表面得到徹底清潔和無氧化層。

一些應用需要干凈的表面并且沒有氧化物。例如,PVA附著力1) 濺射前 2) 涂層前 3) 鍵合前 4) 印刷前 5) PVD ??和 CVD 涂裝前 對于特殊醫(yī)療應用,在焊接到分析傳感器印刷電路板上之前,先焊接到開關(guān)等元件上。 .在大氣壓等離子處理過程中,塑料等離子清洗不能與等離子活化分開。它用作工藝氣體,通常用干燥的無油空氣壓縮。這一原理與金屬等離子清洗是一致的。用于玻璃和陶瓷的大氣等離子設備的清潔方式與金屬相同。

二、化學浸泡腐蝕熱循環(huán)測試 就測試的效果而言,跟PVA附著力好的樹脂鈉萘溶液刻蝕處理后的PTFE聚四氟乙烯樣品,其膠黏劑和鋼板之間粘接依舊良好,但會跟PTFE基材之間發(fā)生分層;經(jīng)等離子清洗機處理后的PTFE聚四氟乙烯樣品,不僅與鋼板之間粘接牢固,且未發(fā)生分層情況,就測試表現(xiàn)來看,等離子清洗機處理后的粘接效果更優(yōu)一些。

pva附著力促進劑

pva附著力促進劑

半導體plasma原理: 伴隨著當代電子器件生產(chǎn)技術(shù)的發(fā)展,F(xiàn)lip-Chip Bond 封裝技術(shù)性獲得了普遍的運用,但因為前端技術(shù)的需求,加工過程中不可避免會在基材上面殘留一些有機化合物或別的污染物,在烘焙全過程中,Ni元素本來金pad鍍層下面也會也會被挪到表層,假如不除去污染物,便會造成 Flip-Chip Bond工藝中芯片上的bump跟pad鍵合全過程中效果欠缺,粘接欠佳不好的效果。

由于低溫等離子清洗機所具備的能量,原材料表層的化合物或有機化學污染物質(zhì)能夠被分解掉,絕大多數(shù)細小微生物和高分子化合物會被合理有效清除,進而使原材料表層滿足后期噴漆工藝所需求的最優(yōu)前提條件。應用領(lǐng)域低溫等離子體遵照制作工藝的需求對其進行表層清潔,對表層無機械挫傷,不用化學工業(yè)有機溶劑,完全性的環(huán)保節(jié)能制作工藝,脫膜劑、添加物、pvc增塑劑或是其他的由氮氧化合物組成的表層環(huán)境污染都能夠被清除。

低溫等離子體處理器的七大優(yōu)勢;1.低溫等離子體處理器改性只發(fā)生在材料表面,不影響基體固有性能,處理均勻性好;2.藥效時間短(幾秒到十秒),低溫高效:3.對處理材料無嚴格要求,具有普遍適應性;4.無污染,無廢液、廢氣處理;節(jié)約能源,降低成本;幾何形狀無限,尺寸簡單或復雜,零件或紡織品均可處理;5.低溫等離子體處理器操作簡單,安裝靈活方便;6.低溫等離子體處理器大大提高了表面的潤濕性,形成活性表面;7.低溫等離子體處理器無需消耗其他能源,只需220伏電源和壓縮空氣即可啟動;各種高分子塑料、陶瓷、玻璃、PVC、紙張、金屬材料經(jīng)低溫等離子體處理器處理后,均能提高表面能。

提高吸水能力、粘合強度、染色性、相容性和電氣特性。經(jīng)冷等離子體表面處理后,表面的N2、AR、O2、CH4-O2、AR-CH4-O2等離子可以提高表面活性劑的吸水率。它不會隨著時間的推移而減少。低溫等離子清洗洗衣機以適當?shù)闹圃旃に嚍榍疤?,對PE、PP、PVF2、LDPE等原材料進行加工處理。

跟PVA附著力好的樹脂

跟PVA附著力好的樹脂

對于單晶硅片等高科技產(chǎn)品,pva附著力促進劑對顆粒的要求非常高,過量的顆粒會導致單晶硅片出現(xiàn)不可逆的缺陷。等離子清洗機去除單晶硅片上殘留的光刻和BCB,分布圖案化的介電層,蝕刻線/光刻技術(shù)以增強單晶硅片的附著力,以及額外去除成型材料/環(huán)氧樹脂,增強附著力金焊點,降低單晶硅片的壓力和破損,提高旋涂膜的附著力,清潔鋁焊盤。用等離子清洗機清潔后,設備表面干燥,無需進一步處理。

它是一個獨立的系統(tǒng),PVA附著力帶有一個節(jié)省空間的小型外殼和一個易于訪問的前裝載門,配備了真空系統(tǒng)、等離子室、受控電子設備和 13.56MHZ 電源。減壓速度顯著改善工藝循環(huán)時間,進一步提高系統(tǒng)產(chǎn)量和生產(chǎn)力。大面積真空等離子處理設備有多種腔室尺寸可供選擇,可選擇垂直或水平配置。定制配置可滿足大而厚面板的要求。經(jīng)行業(yè)驗證的等離子技術(shù)可提供出色的預層壓表面處理均勻性,提高附著力和可靠性。