40kHz的自偏壓約1000V,防腐涂料厚度及附著力試驗(yàn)13.56MHz的自偏壓約250V,20MHz的自偏壓低。這三種激勵(lì)頻率系統(tǒng)是不同的。 40kHz 的反應(yīng)是物理反應(yīng) 13.56MHz 的反應(yīng)既是物理反應(yīng)又是化學(xué)反應(yīng)。在20MHz,有物理反應(yīng),但更重要的反應(yīng)是化學(xué)反應(yīng)。必須使用 13.56 MHz 激活(化學(xué)化)和修改材料。 20兆赫。
ICP刻蝕輝光放電產(chǎn)生的活性所產(chǎn)生的活性粒子擴(kuò)散到襯底表面,防腐涂料厚度及附著力試驗(yàn)發(fā)生化學(xué)反應(yīng),會(huì)產(chǎn)生一些不揮發(fā)的產(chǎn)物,來不及在襯底表面解吸沉積。此外,一些離子對(duì)襯底產(chǎn)生物理轟擊撞擊破壞表面晶格陣列,導(dǎo)致基材表面出現(xiàn)孔洞和坑洞,造成材料表面質(zhì)量的下降。同時(shí),由于硅和碳化硅的存在,使得原襯底表面的結(jié)構(gòu)不均勻。
它由離子體、電子、自由激進(jìn)分子、光子和中性顆粒組成,防腐涂料厚度及附著力試驗(yàn)是物質(zhì)的第四狀態(tài)。電漿清洗是利用電漿通過化學(xué)或物理作用對(duì)工件表面進(jìn)行分子水平處理,清掉污垢,提高表面性能的工藝過程。針對(duì)不同污染物,應(yīng)采取不同的清洗工藝。按所選工藝氣體的不同,可分為化學(xué)清洗、物理清洗和物理化學(xué)清洗。目前,有四種激勵(lì)電源頻率,即DC、低頻40KHz、射頻13.56MHz和本文介紹的微波2.45GHz。
正常排氣時(shí)間約為幾分鐘。 2) 將 PLASMA 等離子清洗氣體引入真空室,防腐涂料附著力不好以穩(wěn)定室內(nèi)壓力。根據(jù)清潔劑的不同,可以使用氧氣、氬氣、氫氣、氮?dú)?、四氟化碳和其他氣體。 3)當(dāng)在真空室內(nèi)的電極與接地裝置之間施加高頻電壓時(shí),氣體分解,產(chǎn)生輝光放電,產(chǎn)生等離子體,真空室內(nèi)產(chǎn)生的等離子體形成工件。 .它將被處理并開始清潔操作。處理時(shí)間從幾十秒到幾分鐘不等。 4) 清潔后,關(guān)閉電源,將真空泵中的氣體和汽化污垢排出。
防腐涂料厚度及附著力試驗(yàn)
廢氣處理設(shè)備低溫等離子廢氣處理設(shè)備利用離子、原子、自由基等各種電子和活性等離子體,將廢氣中的污染物分解凈化廢氣。低溫等離子廢氣處理設(shè)備利用廢氣中的電子、各種離子、原子、自由基等活性等離子體和污染物,在不添加物質(zhì)的情況下,適應(yīng)性強(qiáng),消耗低,高效凈化節(jié)能。由于這種性質(zhì),廢氣的分子在很短的時(shí)間內(nèi)分解,然后發(fā)生各種反應(yīng),達(dá)到分解廢氣的目的。冷等離子體是繼固態(tài)、液態(tài)和氣態(tài)之后的第四種物質(zhì)狀態(tài)。
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