外部電子能量為了解離一個(gè)中性氣體原子,特氟龍等離子體表面處理機(jī)它必須大于這個(gè)結(jié)合能,但是由于外界的電子往往缺乏能量,不具備解離一個(gè)中性氣體原子的能力,所以需要使用以下方法的。提供原子電子能量的外部能量,使電子可用于解離該中性氣體中的原子。向電子添加能量的最簡(jiǎn)單方法是使用平行電極板施加直流電壓。電極中的電子被帶正電的電極吸引和加速。在加速過(guò)程中,電子可以儲(chǔ)存能量。當(dāng)能量達(dá)到一定水平時(shí),它具有解離中性氣體原子的能力。
這是因?yàn)楫?dāng)CO2濃度高時(shí),特氟龍等離子體表面處理機(jī)體系中的活性氧過(guò)多,它們與CH4分子相互作用產(chǎn)生氧化產(chǎn)物,并與產(chǎn)生的C2烴產(chǎn)物相互作用轉(zhuǎn)化C2H6,這是為了促進(jìn)它。將 C2H4 和 C2H2 轉(zhuǎn)化為氧化產(chǎn)物。 CO 產(chǎn)率隨著 CO2 濃度的增加而增加,當(dāng) CO2 濃度超過(guò) 50% 時(shí)達(dá)到一個(gè)恒定值。同時(shí),隨著系統(tǒng)中 CO2 濃度從 15% 增加到 85%,產(chǎn)品中 H2 與 CO 的摩爾比從 3.5 下降到 0.6。
在2000 KJ/MOL的能量密度下,特氟龍等離子清潔機(jī)CH4轉(zhuǎn)化率和C2烴產(chǎn)率分別可以達(dá)到52.7%和40.9%。能量密度與 CH4 轉(zhuǎn)化率和 C2 烴產(chǎn)率之間的關(guān)系幾乎是對(duì)數(shù)的。當(dāng)能量密度小于 0 KJ/MOL時(shí),CH4轉(zhuǎn)化率和C2烴產(chǎn)率隨著能量密度的增加而迅速增加。當(dāng)能量密度超過(guò) 0 KJ/MOL時(shí),CH4轉(zhuǎn)化率和C2烴產(chǎn)率隨著增加而迅速增加。能量密度慢。
用于精密加工的單噴嘴,特氟龍等離子體表面處理機(jī)用于特殊形狀物體的多噴嘴,以及適用于廣泛應(yīng)用的擴(kuò)展噴嘴——這項(xiàng)技術(shù)幾乎可以在整個(gè)行業(yè)中使用。
特氟龍等離子體表面處理機(jī)
通常,對(duì)固體或高粘度粘合劑施加高壓,對(duì)低粘度粘合劑施加低壓。 6、膠層厚度:厚膠層容易產(chǎn)生氣泡、缺陷和過(guò)早破損,因此膠層應(yīng)盡可能薄,以獲得更高的粘合強(qiáng)度。此外,厚膠層受熱后的熱膨脹增加了界面處的熱應(yīng)力,使接頭更容易損壞。 7、載荷應(yīng)力:作用在實(shí)際接頭上的應(yīng)力比較復(fù)雜,如剪應(yīng)力、剝離應(yīng)力、交變應(yīng)力等。 (1)剪應(yīng)力:由于偏心拉力,在接頭端發(fā)生應(yīng)力集中。
特氟龍等離子清潔機(jī)
特氟龍涂層清潔