對于電子行業(yè)生產(chǎn)加工的電子元件，鍍膜附著力影響因素線路板潔凈度非常高且嚴(yán)格無充電放電。等離子體表面處理不僅可以達(dá)到高潔凈度的清洗要求，而且處理過程是完全無電位的過程，即在等離子體處理過程中，對線路板沒有電位差而引起放電。在鉛鍵合方面，等離子體技術(shù)可用于有效地預(yù)處理易損元件，如硅片、液晶顯示器或集成電路(ics)。

等離子體清洗機就是利用這些活性成分的性質(zhì)對樣品表面進(jìn)行處理，鍍膜附著力不行怎么處理從而達(dá)到清洗等目的。等離子體清洗機可用于清洗、蝕刻、活化和表面制備等，可選擇40kHz、13.56MHz、2.45GHz射頻發(fā)生器，滿足不同清洗效率和清洗效果的需要。等離子體和固體、液體或氣體一樣，是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫物質(zhì)的第四態(tài)。施加足夠的能量使氣體電離，就變成了等離子體狀態(tài)。

對于這類電子應(yīng)用，鍍膜附著力影響因素開發(fā)了等離子處理器系統(tǒng)，該系統(tǒng)在工作時對電子器件施加的電壓為零，并且等離子噴射技術(shù)具有特殊的性能，為工業(yè)粘接應(yīng)用在這一領(lǐng)域提供了新的可能。等離子處理器在硅片、芯片行業(yè)中的應(yīng)用：硅片、片子、高性能半導(dǎo)體是靈敏性極高的電子元器件，隨著這些技術(shù)的發(fā)展，低壓等離子體制造技術(shù)也在不斷發(fā)展。

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一般把電子間碰撞達(dá)到熱力學(xué)平衡的溫度稱為Te，也就是電子溫度。而當(dāng)等離子表面處理設(shè)備離子碰撞時，達(dá)到熱力學(xué)平衡的溫度是Ti，也就是離子溫度，實際上，Te和Ti通常是不同的。高氣壓條件接近大氣壓時放電，則電子、離子、中性粒子將因激烈碰撞而充分交換動能，使等離子體達(dá)到熱平衡狀態(tài)，電子溫度與離子溫度相近，屬低溫等離子體中的熱等離子體。

等離子體表面處理設(shè)備是一種非破壞性的表面處理設(shè)備，它利用能量轉(zhuǎn)換技術(shù)，在一定的真空負(fù)壓下，通過電能將氣體轉(zhuǎn)化為高活性氣體等離子體，可以輕柔地沖洗固體樣品表面，引起分子結(jié)構(gòu)的變化，從而對樣品表面的有機污染物進(jìn)行超凈。在極短的時間內(nèi)，通過外置真空泵將有機污染物完全抽走，其清潔能力可達(dá)分子級。在一定條件下，樣品的表面特性也可以改變。由于采用氣體作為清洗處理的介質(zhì)，可有效避免樣品的再次污染。

氫氣做為活潑氣體,其等離子體具有很強的化學(xué)反應(yīng)活性,氫氣等離子體形成的過程如下:H2→H2+e(1.1)H2→2H(1.2)H2+e→H2+e(1.3)H2+e→H2+hv+e(1.4)H2+e→2H+e(1.5)H2+e-H+H++2e(1.6)式1.1表示氫氣分子在得到外界能量后變成氫氣陽離子,并放出自由電子的過程。

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