在蝕刻的情況下，附著力最好的印油這需要更激進(jìn)的端點(diǎn)蝕刻或不會(huì)損壞細(xì)石墨烯線的后處理工藝。其他研究表明，氧等離子體在蝕刻厚石墨烯方面更有效，但氧等離子體以高速蝕刻石墨烯并且對(duì)更厚的多層石墨烯更有效。為了研究蝕刻效果，我們使用了線條和空隙均為 20M 的圖案。本文中使用的石墨烯是在二氧化硅上生長(zhǎng)的 50 NM 厚。

在較低的氣壓下，附著力最好的印油離子在轟擊到晶圓前的碰撞會(huì)減少，進(jìn)而減少散射碰撞，可以優(yōu)化離子入射角度，得到比較準(zhǔn)確的蝕刻結(jié)果。4、遠(yuǎn)距等離子體蝕刻機(jī)臺(tái)：等離子體中的主要成分包含未電離氣體分子、帶電離子、電子以及各種自由基。在傳統(tǒng)的與圖形傳遞相關(guān)的蝕刻工藝中，帶電離子體中各種成分都是非常重要的。而有些工藝只需要將晶圓表面所暴露出來(lái)的物質(zhì)去除或者有選擇比地蝕刻掉,并不需要帶電粒子所產(chǎn)生的物理轟擊以及方向性蝕刻。

等離子發(fā)生器表面處理前后聚四氟乙烯材料成分的差異：等離子體由電子、離子、自由基和其他中性粒子組成。在這種情況下，附著力最強(qiáng)的涂料品牌排行電子、離子和自由基都是易與其他固體材料表面發(fā)生反應(yīng)的反應(yīng)性粒子。等離子體中含有大量活性粒子，在一定范圍內(nèi)頻繁與材料表面高速碰撞。這會(huì)引起兩個(gè)反應(yīng)。首先，具有活躍物理反應(yīng)的顆粒與表面碰撞并被洗滌，最后被分離。來(lái)自表面的污染物。

它在真空等離子去膠機(jī)反響室中受高頻及微波能量效果，附著力最強(qiáng)的涂料品牌排行電離發(fā)生氧離子、游離態(tài)氧原子 O*、氧分子和電子等混合的等離子體，其間具有強(qiáng)氧化才能的游離態(tài)氧原子 （約占 10-20%）在高頻電壓效果下與光刻膠膜反響： O2→O*+ O*， CxHy + O*→CO2↑+ H2O↑。反應(yīng)后生成的 CO2 和 H2O，隨即被抽走。

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等離子體清洗還具有以下幾個(gè)特點(diǎn)：容易采用數(shù)控技術(shù)，自動(dòng)化程度高；具有高精度的控制裝置，時(shí)間控制的精度很高；正確的等離子體清洗不會(huì)在表面產(chǎn)生損傷層，表面質(zhì)量得到保證；由于是在真空中進(jìn)行，不污染環(huán)境，保證清洗表面不被二次污染。。濕法清洗在現(xiàn)階段的微電子清洗工藝中還占據(jù)主導(dǎo)地位。但是從對(duì)環(huán)境的影響、原材料的消耗及未來(lái)發(fā)展上看，干法清洗要明顯優(yōu)于濕法清洗。

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